CN207734708U - 一种抛光机无排放水循环过滤系统 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种抛光机无排放水循环过滤系统，由箱体和大、小盖板组成；箱体的内部被均匀划分成废水排水腔、第一沉淀腔、第二沉淀腔、第三沉淀腔和过滤后抽水腔5个腔室，并分别通过第一挡水板、第二挡水板、第三挡水板隔开和第四挡水板隔开；第一、第二、第三挡水板的顶端分别与箱体的上端面均存在间隙，且间隙的距离依次增大；第四挡水板的顶端与箱体的上端面齐平，且第四挡水板上设有封闭过滤装置；大盖板盖在废水排水腔、第一沉淀腔和第二沉淀腔上，小盖板盖在第三沉淀腔和过滤后抽水腔上。本实用新型设立有5级沉淀系统，经过多次沉淀和多次过滤，实现无废水排放，循环使用水资源，提高了废水使用率，提高了产品生产质量，节约了成本。
Description
技术领域
本实用新型属于污水处理技术领域，具体涉及一种抛光机无排放水循环过滤系统。
背景技术
目前金属加工行业的磨削、抛光工序所产生的废水基本都采用直接排放的方式进行处理，不利于环保，也是对水资源的一种浪费。因此，为了缓解上述问题，行业内的部分厂家采用了两级水箱沉淀的处理方式。但这种方式的沉淀效果并不彻底，而且无法沉淀浮油，会导致加工件的二次污染。
实用新型内容
针对现有技术存在的缺陷，本实用新型旨在提供一种抛光机无排放水循环过滤系统，杜绝废水的直接排放，消除因循环水不够清洁导致工件加工不良品，最终提高产品合格率和降低生产成本。
为实现上述技术目的，达到上述技术效果，本实用新型通过以下技术方案实现：
一种抛光机无排放水循环过滤系统，由箱体、大盖板和小盖板组成；所述箱体的内部被均匀划分成5个腔室，第一个所述腔室为废水排水腔，第二至第四个所述腔室分别为第一沉淀腔、第二沉淀腔和第三沉淀腔，第五个所述腔室为过滤后抽水腔；所述废水排水腔与所述第一沉淀腔之间通过第一挡水板隔开，所述第一沉淀腔与所述第二沉淀腔之间通过第二挡水板隔开，所述第二沉淀腔与所述第三沉淀腔之间通过第三挡水板隔开，所述第三沉淀腔与所述过滤后抽水腔之前通过第四挡水板隔开；所述第一挡水板、所述第二挡水板和所述第三挡水板的顶端分别与所述箱体的上端面均存在间隙，且所述第一挡水板、所述第二挡水板和所述第三挡水板的顶端分别与所述箱体的上端面之间的距离依次增大；所述第四挡水板的顶端与所述箱体的上端面齐平，且所述第四挡水板上设置有封闭过滤装置；所述大盖板盖在所述废水排水腔、所述第一沉淀腔和所述第二沉淀腔上，所述小盖板盖在所述第三沉淀腔和所述过滤后抽水腔上。
进一步的，所述大盖板和所述小盖板上分别开设有便于抓取的圆孔。
优选的，所述圆孔的直径为30mm。
进一步的，所述封闭过滤装置的面积小于所述第四挡水板的面积，且所述封闭过滤装置位于所述第四挡水板的中部偏上位置。
进一步的，所述箱体、所述大盖板和所述小盖板的材质均为PVC或不锈钢。
优选的，所述箱体的长度为2000mm，宽度为1000mm，高度为350mm，5个所述腔体的宽度均为400mm。
优选的，所述第一挡水板与所述箱体的上端面之间的高度差为30mm；所述第二挡水板与所述箱体的上端面之间的高度差为40mm；所述第三挡水板的顶端与所述箱体的上端面之间的高度差为50mm。
本实用新型的有益效果是：
1、本实用新型的无排放的循环水系统设立有5级沉淀系统，经过多次沉淀及多级过滤，达到无废水排放，循环使用水资源的效果。
2、本实用新型的无排放的循环水系统过滤彻底，大大提高了废水使用率，并且消除了因循环水不够清洁导致工件加工不良品，明显提高了产品生产质量。
3、本实用新型的无排放的循环水系统可实现无废水排放，杜绝了因排放污水导致的环境污染，同时只需在因蒸发导致缺水时，少量补充即可，大大节约了成本。
上述说明仅是本实用新型技术方案的概述，为了能够更清楚了解本实用新型的技术手段，并可依照说明书的内容予以实施，以下以本实用新型的较佳实施例并配合附图详细说明如后。本实用新型的具体实施方式由以下实施例及其附图详细给出。
附图说明
此处所说明的附图用来提供对本实用新型的进一步理解，构成本申请的一部分，本实用新型的示意性实施例及其说明用于解释本实用新型，并不构成对本实用新型的不当限定。在附图中：
图1为本实用新型去除盖板后的立体图；
图2为本实用新型的侧视图；
图3为本实用新型的俯视图；
图4为本实用新型第四过滤板和封闭过滤装置的结构示意图。
图中附图标号：1、箱体；2、大盖板；3、小盖板；4、废水排水腔；5、第一沉淀腔；6、第二沉淀腔；7、第三沉淀腔；8、过滤后抽水腔；9、第一挡水板；10、第二挡水板；11、第三挡水板；12、第四挡水板；13、封闭过滤装置。
具体实施方式
下面将参考附图并结合实施例，来详细说明本实用新型。
参见图1-3所示，一种抛光机无排放水循环过滤系统，由箱体1、大盖板2和小盖板3组成；所述箱体1的内部被均匀划分成5个腔室，第一个所述腔室为废水排水腔4，第二至第四个所述腔室分别为第一沉淀腔5、第二沉淀腔6和第三沉淀腔7，第五个所述腔室为过滤后抽水腔8；所述废水排水腔4与所述第一沉淀腔5之间通过第一挡水板9隔开，所述第一沉淀腔5与所述第二沉淀腔6之间通过第二挡水板10隔开，所述第二沉淀腔6与所述第三沉淀腔7之间通过第三挡水板11隔开，所述第三沉淀腔7与所述过滤后抽水腔8之前通过第四挡水板12隔开；所述第一挡水板9、所述第二挡水板10和所述第三挡水板11的顶端分别与所述箱体1的上端面均存在间隙，且所述第一挡水板9、所述第二挡水板10和所述第三挡水板11的顶端分别与所述箱体1的上端面之间的距离依次增大；所述第四挡水板12的顶端与所述箱体1的上端面齐平，且所述第四挡水板12上设置有封闭过滤装置13；所述大盖板2盖在所述废水排水腔4、所述第一沉淀腔5和所述第二沉淀腔6上，所述小盖板3盖在所述第三沉淀腔7和所述过滤后抽水腔8上。
进一步的，所述大盖板2和所述小盖板3上分别开设有便于抓取的圆孔。
优选的，所述圆孔的直径为30mm。
进一步的，参见图4所示，所述封闭过滤装置13的面积小于所述第四挡水板12的面积，且所述封闭过滤装置13位于所述第四挡水板12的中部偏上位置。
进一步的，所述箱体1、所述大盖板2和所述小盖板3的材质均为PVC或不锈钢。
优选的，所述箱体1的长度为2000mm，宽度为1000mm，高度为350mm，5个所述腔体的宽度均为400mm。
优选的，所述第一挡水板9与所述箱体1的上端面之间的高度差为30mm；所述第二挡水板10与所述箱体1的上端面之间的高度差为40mm；所述第三挡水板11的顶端与所述箱体1的上端面之间的高度差为50mm。
以上所述仅为本实用新型的优选实施例而已，并不用于限制本实用新型，对于本领域的技术人员来说，本实用新型可以有各种更改和变化。凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。
Claims (7)
1.一种抛光机无排放水循环过滤系统，其特征在于：由箱体(1)、大盖板(2)和小盖板(3)组成；所述箱体(1)的内部被均匀划分成5个腔室，第一个所述腔室为废水排水腔(4)，第二至第四个所述腔室分别为第一沉淀腔(5)、第二沉淀腔(6)和第三沉淀腔(7)，第五个所述腔室为过滤后抽水腔(8)；所述废水排水腔(4)与所述第一沉淀腔(5)之间通过第一挡水板(9)隔开，所述第一沉淀腔(5)与所述第二沉淀腔(6)之间通过第二挡水板(10)隔开，所述第二沉淀腔(6)与所述第三沉淀腔(7)之间通过第三挡水板(11)隔开，所述第三沉淀腔(7)与所述过滤后抽水腔(8)之前通过第四挡水板(12)隔开；所述第一挡水板(9)、所述第二挡水板(10)和所述第三挡水板(11)的顶端分别与所述箱体(1)的上端面均存在间隙，且所述第一挡水板(9)、所述第二挡水板(10)和所述第三挡水板(11)的顶端分别与所述箱体(1)的上端面之间的距离依次增大；所述第四挡水板(12)的顶端与所述箱体(1)的上端面齐平，且所述第四挡水板(12)上设置有封闭过滤装置(13)；所述大盖板(2)盖在所述废水排水腔(4)、所述第一沉淀腔(5)和所述第二沉淀腔(6)上，所述小盖板(3)盖在所述第三沉淀腔(7)和所述过滤后抽水腔(8)上。
2.根据权利要求1所述的抛光机无排放水循环过滤系统，其特征在于：所述大盖板(2)和所述小盖板(3)上分别开设有便于抓取的圆孔。
3.根据权利要求2所述的抛光机无排放水循环过滤系统，其特征在于：所述圆孔的直径为30mm。
4.根据权利要求1所述的抛光机无排放水循环过滤系统，其特征在于：所述封闭过滤装置(13)的面积小于所述第四挡水板(12)的面积，且所述封闭过滤装置(13)位于所述第四挡水板(12)的中部偏上位置。
5.根据权利要求1所述的抛光机无排放水循环过滤系统，其特征在于：所述箱体(1)、所述大盖板(2)和所述小盖板(3)的材质均为PVC或不锈钢。
6.根据权利要求1所述的抛光机无排放水循环过滤系统，其特征在于：所述箱体(1)的长度为2000mm，宽度为1000mm，高度为350mm，5个所述腔室的宽度均为400mm。
7.根据权利要求5所述的抛光机无排放水循环过滤系统，其特征在于：所述第一挡水板(9)与所述箱体(1)的上端面之间的高度差为30mm；所述第二挡水板(10)与所述箱体(1)的上端面之间的高度差为40mm；所述第三挡水板(11)的顶端与所述箱体(1)的上端面之间的高度差为50mm。
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