CN207665290U - 一种fpc基板清洗系统 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种FPC基板清洗系统，包括传动机构以及喷水机构，所述传动机构包括并排设置的两列传动辊组，每列传动辊组包括若干个竖直设置的传动辊，两列传动辊组的外侧各设置有一组喷水机构，喷水机构的喷水角度在传动辊的上下端部之间调节；所述传动机构下方设置有集水槽；按传动方向每列传动辊组之后设置有除水机构，所述除水机构之后设置有旋转机构，所述旋转机构用于旋转经过除水机构后的基板。本实用新型能够减少清洗过后基板表面的液体残留以及便于液体收集，并且能够方便的对基板进行旋转。
Description
技术领域
本实用新型属于FPC生产领域，特别涉及一种FPC基板清洗系统。
背景技术
在FPC生产过程中，对FPC生产用的基板进行清洗是一道重要工序。
现有的很多基板清洗装置，是设置上下两层传动辊，并设置上下两组喷嘴，基板从两层传动辊之间经过，两组喷嘴向两层传动辊之间的基板喷射液体。利用这样的清洗方法，清洗过后基板的两面均带有很多液体，易对后续工序造成影响，且进行清洗液体收集较为不便。
实用新型内容
本实用新型要解决的技术问题是，提供一种FPC基板清洗系统，减少清洗过后基板表面的液体残留以及便于液体收集，并且能够方便的对基板进行旋转。
为解决上述技术问题，本实用新型所采用的技术方案是：
一种FPC基板清洗系统，包括传动机构以及喷水机构，所述传动机构包括并排设置的两列传动辊组，每列传动辊组包括若干个竖直设置的传动辊，两列传动辊组的外侧各设置有一组喷水机构，喷水机构的喷水角度在传动辊的上下端部之间调节；所述传动机构下方设置有集水槽；按传动方向每列传动辊组之后设置有除水机构，所述除水机构之后设置有旋转机构，所述旋转机构用于旋转经过除水机构后的基板。
在上述技术方案中，两列传动辊组竖直设置，在其传动作用下，基板从两列传动辊组之间运行，运行过程中保持竖直状态，两组喷水机构从基板的两面向其喷射液体清洗。由于清洗时基板处于竖直状态，因而液体喷射到基板表面后直接落至集水槽中，既能够减少基板表面的液体残留，又便于清洗液体的收集，且基板在经过传动辊后再经过除水机构，有利于进一步清除其表面的液体残留，从而减少对后续工序的影响。旋转机构可根据需要将基板进行旋转，进一步有利于后续工序的加工。
作为改进，所述除水机构为至少一对吸水辊，每对吸水辊分别设置在所述基板经过方向两侧，从而便于清除基板两面的残留液体。
作为改进，所述旋转机构包括吸取装置以及与所述吸取装置配合的真空发生装置，所述吸取装置能够在空间运行并能够进行至少直角大小的上下往复旋转。根据生产需要，在真空发生装置的配合下，吸取装置吸住基板并将其旋转至水平状态或者其他状态。利用吸取方式便于保持基板旋转过程中的平稳，将基板进行旋转便于满足后续工序的加工需要。
综上，本实用新型有利于减少FPC基板清洗后的表面液体残留，并且有利于进行清洗液体的收集，同时还能够进行基板旋转，从而有利于后续工序的加工。
附图说明
图1是本实用新型具体实施方式的结构示意图。
图2是图1的俯视图。
图中：1，传动辊；2，喷嘴；3，吸水辊；4，集水槽；5，底座；6，第一气缸；7，吸盘。
具体实施方式
参见图1和图2，该FPC基板清洗系统包括传动机构以及喷水机构，传动机构包括并排设置的两列传动辊组，每列传动辊组包括若干个竖直设置的传动辊1。两列传动辊组的外侧各设置有一组喷水机构，即两列传动辊组是位于两组喷水机构之间。每组喷水机构包括若干喷嘴2，喷嘴2的喷水角度在传动辊1的上下端部之间调节。传动辊组的下方设置有集水槽4。
按传动方向每列传动辊组之后设置有除水机构，在本实施方式中除水机构为至少一对吸水辊3，吸水辊3上设置有吸水物体，成对的两个吸水辊3可以分别与两列传动辊组轴线平齐。
按传动方向除水机构之后设置有旋转机构，旋转机构用于旋转经过除水机构后的基板。在本实施方式中，旋转机构包括吸取装置以及真空发生装置(图中未示出)，吸取装置被设置为能够在空间中运行，为此可以设置一个底座5，然后在底座5上安装第一气缸6，吸取装置安装于第一气缸6的伸缩端上，吸取装置可以是吸盘7。随着第一气缸6的伸缩作用，吸盘7能够沿着某一方向来回运行。还可以将第一气缸6设计成与底座5铰接，并设置另外的旋转驱动机构，例如第二气缸，第二气缸驱动第一气缸6绕其与底座5的铰接处上下往复旋转，旋转角度大小至少为从水平状态到竖直状态的直角，从而吸盘7也就可以随之进行上下往复旋转。
该FPC基板清洗系统在工作时，基板在传动辊组的驱动下，以竖直状态从两列传动辊组之间运行，如图中箭头所示。两边的喷嘴2向基板的两面喷射清洗液体。喷嘴2的喷水角度在传动辊1的上下端部之间调节，因而可以将基板的上下边之间的部分都喷射到，提高清洗效果。由于清洗时基板处于竖直状态，因而液体喷射到基板表面后直接下落至集水槽4中，既能够减少基板表面的液体残留，又便于清洗液体的收集。基板接下来经过吸水辊3，吸水辊3进一步吸收基板表面的残留液体。
吸盘7一开始也处于吸口水平朝向的状态，并且吸口对准基板的运行路径。在基板未完全脱离吸水辊3前处于竖直状态，可以设置相应的辅助装置，例如支架，使得基板脱离吸水辊3后仍处于竖直状态。另外还可以设置相应的检测装置，例如光电传感器，用于检测基板是否已完全脱离吸水辊3。在基板脱离吸水辊3后吸盘7运行使其吸口与基板表面接触，并且真空发生装置工作使吸盘7吸住基板。由于吸盘7可以在空间中运行旋转，因而可以将基板旋转至某一状态，例如水平状态，也可以将基板放置于某一位置，从而便于后续工序的加工需要。然后破除真空，吸盘7再去移动下一块基板。
Claims (3)
1.一种FPC基板清洗系统，其特征在于：包括传动机构以及喷水机构，所述传动机构包括并排设置的两列传动辊组，每列传动辊组包括若干个竖直设置的传动辊(1)，两列传动辊组的外侧各设置有一组喷水机构，喷水机构的喷水角度在传动辊(1)的上下端部之间调节；所述传动机构下方设置有集水槽(4)；按传动方向每列传动辊组之后设置有除水机构，所述除水机构之后设置有旋转机构，所述旋转机构用于旋转经过除水机构后的基板。
2.根据权利要求1所述的一种FPC基板清洗系统，其特征在于：所述除水机构为至少一对吸水辊(3)，每对吸水辊(3)分别设置在所述基板经过方向两侧。
3.根据权利要求1或2所述的一种FPC基板清洗系统，其特征在于：所述旋转机构包括吸取装置以及与所述吸取装置配合的真空发生装置，所述吸取装置能够在空间运行并能够进行至少直角大小的上下往复旋转。
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| CN201820017929.9U CN207665290U (zh) | 2018-01-05 | 2018-01-05 | 一种fpc基板清洗系统 |
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| CN207665290U true CN207665290U (zh) | 2018-07-27 |
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| CN (1) | CN207665290U (zh) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN109226010A (zh) * | 2018-09-28 | 2019-01-18 | 昆山市和博电子科技有限公司 | 一种基板清洗机及基板清洗系统 |
| CN115257179A (zh) * | 2022-08-12 | 2022-11-01 | 福建舒雨伞业有限公司 | 一种用于印花机的丝印网板清洁装置 |
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2018
- 2018-01-05 CN CN201820017929.9U patent/CN207665290U/zh not_active Expired - Fee Related
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