CN207664025U - 一种晶圆返工清洗装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型提供一种晶圆返工清洗装置，具体涉及晶圆生产领域，包括电机、联轴器和沿水平面方向设置的底盘，电机的驱动轴通过联轴器与底盘相接，底盘上方设有与底盘活动连接的化学试剂存储槽；化学试剂存储槽的两端向外侧设有凸延，底盘表面设有若干与化学试剂存储槽的轮廓相匹配的限位槽，且限位槽的中心点在同一竖直方向上，化学试剂存储槽的底端嵌入限位槽内；化学试剂存储槽底部设有与化学试剂存储槽活动连接的晶圆料篮，晶圆料篮的外围为镂空状；晶圆料篮两端向外侧设有凸延，化学试剂存储槽底部也设有与晶圆料篮的轮廓相匹配的限位槽，晶圆料篮的底端嵌入限位槽内。本实用新型可方便清洗不合格晶圆，以确保生产的顺利进行。

Description

一种晶圆返工清洗装置

技术领域

本实用新型属于晶圆生产领域，具体涉及一种晶圆返工清洗装置。

背景技术

晶圆是指硅半导体积体电路制作所用之硅晶片,由于其形状为圆形,故称为晶圆。晶圆的表面附着大约2微米的三氧化二铝和甘油混合液保护层,在制作前必须进行化学刻蚀和表面清洗，在表面化学刻蚀和表面清洗过程中因为某种原因有时候会出现不良品，当发现不良品如果不及时在线处理的话会耽误整条产线的流程，所以势必需要一个在线处理不合格晶圆的装置。

实用新型内容

本实用新型的目的提供一种晶圆返工清洗装置，可方便清洗不合格晶圆，以确保生产的顺利进行。

本实用新型提供了如下的技术方案：

一种晶圆返工清洗装置，包括电机、联轴器和沿水平面方向设置的底盘，所述电机的驱动轴通过所述联轴器与所述底盘相接，所述底盘上方设有与所述底盘活动连接的化学试剂存储槽；

所述化学试剂存储槽的两端向外侧设有凸延，所述底盘表面设有若干与所述化学试剂存储槽的轮廓相匹配的限位槽，且所述限位槽的中心点在同一竖直方向上，所述化学试剂存储槽的底端嵌入所述限位槽内。

所述化学试剂存储槽底部设有与所述化学试剂存储槽活动连接的晶圆料篮，所述晶圆料篮的外围为镂空状；所述晶圆料篮两端向外侧设有凸延，所述化学试剂存储槽底部也设有与所述晶圆料篮的轮廓相匹配的限位槽，所述晶圆料篮的底端嵌入所述限位槽内；

优选的，所述化学试剂存储槽的上端设有与所述化学试剂存储槽活动连接的提手。

优选的，所述提手包括把手和环状板，所述把手的两端与所述环状板的两端上表面相接；所述的环状板两端向外侧设有凸延；所述化学试剂存储槽的凸延上方设有侧开口式的挡槽；所述化学试剂存储槽的另一凸延上方也设有挡槽，且所述挡槽的开口方向相反；所述环状板的凸延嵌入所述挡槽内。

优选的，所述晶圆料篮的上方也设有提手，所述提手和晶圆料篮的连接方式与所述提手和所述化学试剂存储槽的连接方式相同。

本实用新型的有益效果：

本实用新型可方便的将晶圆料篮内返工的晶圆进行化学蚀刻和清洗，以确保生产的顺利进行；且可方便的更换化学试剂存储槽，以适用不同规格晶圆的处理。

附图说明

附图用来提供对本实用新型的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与本实用新型的实施例一起用于解释本实用新型，并不构成对本实用新型的限制。在附图中：

图1为本实用新型主视图；

图2为提手主视图；

图3为化学试剂存储槽主视图；

图4为底盘主视图。

图中标记为：1、电机；2、联轴器；3、底盘；31、限位槽；4、化学试剂存储槽；41、挡槽；5、晶圆料篮；6、提手；61、把手；62、环形板。

具体实施方式

如图1至图4所示，一种晶圆返工清洗装置，包括电机1、联轴器2和沿水平面方向设置的底盘3，电机1的驱动轴通过联轴器2与底盘3相接，底盘3上方设有与底盘3活动连接的化学试剂存储槽4；化学试剂存储槽4的两端向外侧设有凸延，底盘3表面设有若干与化学试剂存储槽4的轮廓相匹配的限位槽31，且限位槽31的中心点在同一竖直方向上，化学试剂存储槽4的底端嵌入限位槽31内；化学试剂存储槽4底部设有与化学试剂存储槽4活动连接的晶圆料篮5，晶圆料篮5的外围为镂空状；晶圆料篮5两端向外侧设有凸延，化学试剂存储槽4底部也设有与晶圆料篮5的轮廓相匹配的限位槽31，晶圆料篮5的底端嵌入限位槽31内；将返工晶圆置于晶圆料篮5内，通过化学试剂存储槽4内的化学试剂将晶圆清洗，通过电机1带动联轴器2，并带动底盘3转动，实现化学试剂存储槽4的转动，将化学试剂通过镂空状的晶圆料篮5，提高清洗速度，进而确保生产的顺利进行；且通过化学试剂存储槽4和晶圆料篮5的凸延与限位槽31，可以方便更换化学试剂存储槽4和晶圆料篮5，以适应不同规格晶圆的清洗；

其中，化学试剂存储槽4的上端设有与化学试剂存储槽4活动连接的提手6；通过提手6可以方便放取化学试剂存储槽4；提手6包括把手61和环状板62，把手61的两端与环状板62的两端上表面相接；的环状板62两端向外侧设有凸延；化学试剂存储槽4的凸延上方设有侧开口式的挡槽41；化学试剂存储槽4的另一凸延上方也设有挡槽41，且挡槽41的开口方向相反；环状板62的凸延嵌入挡槽41内。优选的，晶圆料篮5的上方也设有提手6，提手6和晶圆料篮5的连接方式与提手6和化学试剂存储槽4的连接方式相同。通过把手61转动环状板62，可使环状板62的凸延嵌入挡槽41内，从而将提手6固定，固定方式不仅牢靠，且方便拆装；

本实用新型的工作方式：

如图1至图4所示，将返工晶圆置于晶圆料篮5内，通过化学试剂存储槽4内的化学试剂将晶圆清洗，通过电机1带动联轴器2，并带动底盘3转动，实现化学试剂存储槽4的转动，将化学试剂通过镂空状的晶圆料篮5，提高清洗速度，进而确保生产的顺利进行；且通过化学试剂存储槽4和晶圆料篮5的凸延与限位槽31，可以方便更换化学试剂存储槽4和晶圆料篮5，以适应不同规格晶圆的清洗；通过把手61转动环状板62，可使环状板62的凸延嵌入挡槽41内，从而将提手6固定，固定方式不仅牢靠，且方便拆装。

以上所述仅为本实用新型的优选实施例而已，并不用于限制本实用新型，尽管参照前述实施例对本实用新型进行了详细的说明，对于本领域的技术人员来说，其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换。凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。

Claims (4)

1.一种晶圆返工清洗装置，其特征在于：包括电机、联轴器和沿水平面方向设置的底盘，所述电机的驱动轴通过所述联轴器与所述底盘相接，所述底盘上方设有与所述底盘活动连接的化学试剂存储槽；

所述化学试剂存储槽的两端向外侧设有凸延，所述底盘表面设有若干与所述化学试剂存储槽的轮廓相匹配的限位槽，且所述限位槽的中心点在同一竖直方向上，所述化学试剂存储槽的底端嵌入所述限位槽内；

所述化学试剂存储槽底部设有与所述化学试剂存储槽活动连接的晶圆料篮，所述晶圆料篮的外围为镂空状；所述晶圆料篮两端向外侧设有凸延，所述化学试剂存储槽底部也设有与所述晶圆料篮的轮廓相匹配的限位槽，所述晶圆料篮的底端嵌入所述限位槽内。

2.根据权利要求1所述的一种晶圆返工清洗装置，其特征在于：所述化学试剂存储槽的上端设有与所述化学试剂存储槽活动连接的提手。

3.根据权利要求2所述的一种晶圆返工清洗装置，其特征在于：所述提手包括把手和环状板，所述把手的两端与所述环状板的两端上表面相接；所述的环状板两端向外侧设有凸延；所述化学试剂存储槽的凸延上方设有侧开口式的挡槽；所述化学试剂存储槽的另一凸延上方也设有挡槽，且所述挡槽的开口方向相反；所述环状板的凸延嵌入所述挡槽内。

4.根据权利要求3所述的一种晶圆返工清洗装置，其特征在于：所述晶圆料篮的上方也设有提手，所述提手和晶圆料篮的连接方式与所述提手和所述化学试剂存储槽的连接方式相同。