CN207663759U - 图标结构、具有图标结构的壳体及电子设备 - Google Patents

Abstract

本实用新型提供一种图标结构、具有图标结构的壳体及电子设备。所述图标结构包括基材层及设置于所述基材层表面的图标层，所述图标层远离所述基材层的表面包括多条沿预定方向排列的棱镜结构，每个棱镜结构的宽度及/或高度小于等于1000纳米。所述图标结构的图标层的棱镜尺寸在1000纳米以内，不仅在视觉上难于察觉其纹理从而到达高质感的视觉效果，而且通过棱镜的反射也可以可呈现高光泽、高立体的视觉效果，提高用户体验性。

Description

图标结构、具有图标结构的壳体及电子设备

技术领域

本实用新型涉及电子设备技术领域，尤其涉及一种图标结构、具有图标结构的壳体及电子设备。

背景技术

随着信息技术和电子技术的发展，各种电子设备(例如：手机、平板、电脑等终端)已经与人们的日常生活息息相关，由于各种电子设备可以实现各种各样的功能，例如打电话、拍照、存储各类文件、即时通信等，人们对终端的依赖性越来越高。然而，这些电子设备的壳体上一般设置有具有图形或特定文字的图标(如logo、icon等)结构，用于显示商标、品牌、或名称、功能等。

然而，现有图标结构的压花纹理一般视觉可见，且大多视觉上仅呈现单一的金属质感和光泽立体效果或者一般的拉丝、CD纹效果及触感，难于消费者获得高质感、高光泽、及/或高立体的视觉效果，有必要改善。

实用新型内容

有鉴于此，有必要提供一种具有良好视觉效果的图标结构、具有图标结构的壳体及电子设备。

一种图标结构，其包括基材层及设置于所述基材层表面的图标层，所述图标层远离所述基材层的表面包括多条沿预定方向排列的棱镜结构，每个棱镜结构的宽度及/或高度小于等于1000纳米。

在一种实施方式中，每个棱镜结构的宽度及/或高度在500纳米至1000纳米的范围内。

在一种实施方式中，每个棱镜结构的表面还包括多个微结构，每个微结构的宽度、长度及/或高度小于等于1000纳米。

在一种实施方式中，每个微结构的宽度、长度及/或高度在100纳米至1000纳米的范围内。

在一种实施方式中，所述微结构为设置于所述棱镜结构表面的凸起结构。

在一种实施方式中，所述微结构为棱锥或圆锥。

在一种实施方式中，所述图标结构还包括镀膜层，所述镀膜层位于所述图标层远离所述基材层的一侧。

在一种实施方式中，所述镀膜层的厚度在20纳米至500纳米的范围内。

在一种实施方式中，所述图标结构还包括附着层，所述附着层设置于所述图标层远离所述基材层的一侧。

一种壳体，所述壳体具有图标结构，所述图标结构包括基材层及设置于所述基材层表面的图标层，所述图标层远离所述基材层的表面包括多条沿预定方向排列的棱镜结构，每个棱镜结构的宽度及/或高度小于等于1000纳米。

在一种实施方式中，每个棱镜结构的宽度及/或高度在500纳米至1000纳米的范围内。

在一种实施方式中，每个棱镜结构的表面还包括多个微结构，每个微结构的宽度、长度及/或高度小于等于1000纳米。

在一种实施方式中，每个微结构的宽度、长度及/或高度在100纳米至1000纳米的范围内。

在一种实施方式中，所述微结构为设置于所述棱镜结构表面的凸起结构。

在一种实施方式中，所述微结构为棱锥或圆锥。

在一种实施方式中，所述图标结构还包括镀膜层，所述镀膜层位于所述图标层远离所述基材层的一侧；所述镀膜层的材料包括一氧化硅、二氧化铪、二硼化铪、氯氧化铪、二氧化锆、二氧化钛、一氧化钛、二氧化硅、三氧化二钛、五氧化三钛、五氧化二钽、五氧化二铌、三氧化二铝、氧化钪、三氧化二铟、二钛酸镨、二氧化錇、氧化镁、三氧化钨、氧化钐、三氧化二钕、氧化铋、氧化镨、氧化锑、氧化钒、氧化镍、氧化锌、氧化铁、氧化铬、氧化铜中的一种或几种。

在一种实施方式中，所述镀膜层的厚度在20纳米至500纳米的范围内。

在一种实施方式中，所述图标结构还包括附着层，所述附着层设置于所述图标层远离所述基材层的一侧。

在一种实施方式中，所述壳体还包括基板及粘接层，所述基材层远离所述图标层的表面通过所述粘接层粘接于所述基板上。

一种电子设备，其包括壳体，所述壳体包括图标结构，所述图标结构包括基材层及设置于所述基材层表面的图标层，所述图标层远离所述基材层的表面包括多条沿预定方向排列的棱镜结构，每个棱镜结构的宽度及/或高度小于等于1000纳米。

在一种实施方式中，每个棱镜结构的宽度及/或高度在500纳米至1000纳米的范围内。

在一种实施方式中，每个棱镜结构的表面还包括多个微结构，每个微结构的宽度、长度及/或高度小于等于1000纳米。

在一种实施方式中，每个微结构的宽度、长度及/或高度在100纳米至1000纳米的范围内。

在一种实施方式中，所述微结构为设置于所述棱镜结构表面的凸起结构。

在一种实施方式中，所述微结构为棱锥或圆锥。

在一种实施方式中，所述图标结构还包括镀膜层，所述镀膜层位于所述图标层远离所述基材层的一侧；所述镀膜层的材料包括一氧化硅、二氧化铪、二硼化铪、氯氧化铪、二氧化锆、二氧化钛、一氧化钛、二氧化硅、三氧化二钛、五氧化三钛、五氧化二钽、五氧化二铌、三氧化二铝、氧化钪、三氧化二铟、二钛酸镨、二氧化錇、氧化镁、三氧化钨、氧化钐、三氧化二钕、氧化铋、氧化镨、氧化锑、氧化钒、氧化镍、氧化锌、氧化铁、氧化铬、氧化铜中的一种或几种。

在一种实施方式中，所述镀膜层的厚度在20纳米至500纳米的范围内。

在一种实施方式中，所述图标结构还包括附着层，所述附着层设置于所述图标层远离所述基材层的一侧。

在一种实施方式中，所述壳体还包括基板及粘接层，所述基材层远离所述图标层的表面通过所述粘接层粘接于所述基板上。

相较于现有技术，本实用新型的图标结构、具有图标结构的壳体及电子设备中，所述图标结构的图标层的棱镜尺寸在1000纳米以内，不仅在视觉上难于察觉其纹理从而到达高质感的视觉效果，而且通过棱镜的反射也可呈现高光泽、高立体的视觉效果，提高用户体验性。

进一步地，在一种实施方式中，所述棱镜结构表面进一步设置微结构，所述微结构可以进一步对光线进行折射、反射从而使得光线散射、叠加，使得所述图标结构可以呈现高质感、高光泽、及/或高立体的视觉效果，特别是，在任一角度时观看均可以呈现一种非常炫酷流动感，并且在不同角度看可呈现变换流动的视觉效果。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施方式或现有技术中的技术方案，下面将对实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施方式，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1是本实用新型一较佳实施方式的具有图标结构的壳体的立体结构示意图。

图2是图1沿线II-II的剖面示意图。

图3是图2所示的图标结构的图标层的立体反面结构示意图。

图4是图2所示的图标层的微结构的立体结构示意图。

图5是本实用新型一较佳实施方式的电子设备的背面结构示意图。

主要元件符号说明

图标结构 10

基材层 12

图标层 13

镀膜层 14

附着层 15

棱镜结构 16

微结构 17

壳体 20

基板 21

粘接层 22

电子设备 30

前壳 31

中框 32

后壳 33

如下具体实施方式将结合上述附图进一步说明本实用新型。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施方式中的附图，对本实用新型实施方式中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施方式仅仅是本实用新型一部分实施方式，而不是全部的实施方式。基于本实用新型中的实施方式，本领域普通技术人员在没有付出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施方式，都属于本实用新型保护的范围。

需要说明的是，在本实用新型实施方式中使用的术语是仅仅出于描述特定实施方式的目的，而非旨在限制本实用新型。在本实用新型实施方式和所附权利要求书中所使用的单数形式的“一种”、“所述”和“该”也旨在包括多数形式，除非上下文清楚地表示其他含义。还应当理解，本文中使用的术语“和/或”是指并包含一个或多个相关联的列出项目的任何或所有可能组合。另外，本实用新型的说明书和权利要求书及上述附图中的术语“第一”、“第二”等是用于区别不同对象，而不是用于描述特定顺序。此外，术语“包括”和“具有”以及它们任何变形，意图在于覆盖不排他的包含。例如包含了一系列步骤或单元的过程、方法、系统、产品或设备没有限定于已列出的步骤或单元，而是可选地还包括没有列出的步骤或单元，或可选地还包括对于这些过程、方法、产品或设备固有的其它步骤或单元。

请参阅图1，图1是本实用新型一较佳实施方式的具有图标结构10的壳体20的立体结构示意图。所述壳体20可以为电子设备的前壳、后壳或中框等壳体，所述壳体20包括基板21及粘接/贴附于所述壳体内侧或外侧的图标结构10，所述图标结构10可以粘接/贴附设置于所述基板21的内侧或者外侧。可以理解，本实施方式中，主要以所述图标结构10贴附于所述基板21的内侧进行示例性说明。其中，所述图标结构可以具有图形或特定文字的图标(如logo、icon等)结构，用于显示商标、品牌、名称、或功能标识等。

具体地，请参阅图2，图2是图1所示的壳体20沿线II-II的剖面示意图。所述壳体20中，所述图标结构10通过粘接层22粘接于所述基板21上。

本实施方式中，所述基板21及所述粘接层22均为透明材料，具体地，所述基板21可为玻璃、PMMA聚甲基丙烯酸甲酯、PET聚对苯二甲酸乙二醇酯、PC聚碳酸酯等透明基材或PMMA/PC透明复合板材，厚度在0.15毫米至2毫米的范围内；为了保证所述图标层13的通透性，要求所有透明层透光率大于90。

所述粘接层22的厚度范围在0.085毫米至0.18毫米之间，当在所述基材层21制作完成所述图标层13、所述镀膜层14及所述附着层15后，需要通过所述粘接层22与所述基板21进行贴合，得到所述壳体20；其中，在贴合期间需要跟进实际结构进行贴合压力调整及除泡压力、温度、时间调整，其中，在一种实施例中，一般贴合压力为4kg至10kg；一般除泡温度为40摄氏度至80摄氏度，时间为30分钟至120分钟。进一步地，需要对所述粘接层22进行光固化(如UV光固化)，所述UV光固化的能量为500-1000mj/cm²(即每平方厘米500兆焦至1000兆焦)，时间在5秒至20秒的范围内。

所述图标结构10包括基材层12、设置于所述基材层12表面的图标层13、镀膜层14及附着层15。具体地，所述图标结构10的基材层12远离所述图标层13的表面可以通过所述粘接层22粘接于所述基板21上。

所述图标层13远离所述基材层12的表面包括多个沿预定方向排列的棱镜结构16，每个棱镜结构16的宽度及/或高度小于等于1000纳米。本实施方式中，每个棱镜结构16的宽度及高度均在500纳米至1000纳米的范围内。

请参阅图3，图3是图2所示的图标结构10的图标层13的立体反面结构示意图。每个棱镜结构16的表面还包括多个微结构17，每个微结构17的宽度、长度及/或高度小于等于1000纳米。为了在棱镜结构16的表面上设置多个微结构17并尽可能的增大反射面积，所述微结构17的尺寸(如长度、宽度及/或高度)小于所述棱镜结构16。本实施方式中，每个微结构17的宽度、长度及高度在100纳米至1000纳米的范围内。具体地，所述微结构17为设置于所述棱镜结构16表面的凸起结构，如为棱锥或圆锥结构。请参阅图4，图4是图2所示的图标层的微结构17的立体结构示意图。如图4(a)、(b)、(c)所示，所述微结构17可以为圆锥、多棱锥(如三棱锥、四棱锥)，且并不以上述为限。可以理解，所述微结构17可以成排成列，且每个棱镜结构16的一个侧面上的微结构17可以为一排、两排或多排，图3仅以每个侧面上具有两排微结构17作为示例。

所述图标层13可以通过在转印模具上进行高光处理，然后在所述基材层12上涂布图标材料层再进行光固化(如UV光固化)转印得到，由于所述图标层12的棱镜结构16及微结构17的尺寸为小于等于1000纳米的纹理设计，而且是所述棱镜结构16及微结构17相结合的光栅设计，通过多个角度的光线的折射与反射叠加，在得到高光泽的视觉效果的同时，也可以得到不同视觉角度的光线变换效果。进一步地，如上所述，通过转印模组的转印固化获得所述图标层13，可以理解，此时获得的所述图标层为转印白片，需要进行光学镀膜处理形成所述镀膜层14，得到所要的高光颜色效果。

请再次参阅图2，所述镀膜层14位于所述图标层远离所述基材层12的一侧。所述镀膜层14的材料可以为高纯度氧化物，纯度为99.9％-99.99999％，具体地，所述镀膜层14的材料可以包括一氧化硅、二氧化铪、二硼化铪、氯氧化铪、二氧化锆、二氧化钛、一氧化钛、二氧化硅、三氧化二钛、五氧化三钛、五氧化二钽、五氧化二铌、三氧化二铝、氧化钪、三氧化二铟、二钛酸镨、二氧化錇、氧化镁、三氧化钨、氧化钐、三氧化二钕、氧化铋、氧化镨、氧化锑、氧化钒、氧化镍、氧化锌、氧化铁、氧化铬、氧化铜中的一种或几种。所述镀膜层14的厚度可以在20纳米至500纳米的范围内，优选在50纳米至300纳米的范围内。

一般现有光学镀膜处理仅提供单一的金属高光效果，而本实用新型对所述图标层13的表面进行光学镀膜处理是一层或多层光学膜叠加，在提供金属高光效果的同时，叠加出所需的颜色效果，可以理解，所述镀膜层14的颜色可根据实际需要设计。

所述附着层15设置于所述图标层13远离所述基材层12的一侧，其可以为普通印刷油墨层。现有一些附着层的制作过程中，需要进行底涂剂层、底色剂层、防冲墨层、粘结剂层等多层印刷，制程较多，导致不良率增加。而由于本实用新型图标层13及镀膜层14的设计，本实用新型对油墨盖底层可以仅为一层保护层，制程简单、成本较低、不良率减少。

如上所述，本案的壳体20可以通过利用所述粘接层22将所述图标结构10与所述基板21贴合得到，一般仅需要贴合治具和脱泡处理得到，制程简单，并且所述基板21可为玻璃、PMMA、PC、PMMA/PC等透明材质，材料可选择性广，相较于现有通过热压、冲切、注塑三套模成型获得的成本较高的壳体，本案壳体20制程简单、材料运用单一、成本较低。

如前所述，所述壳体20的制作方法可以概括为以下步骤：

A、在基材层12上进行图标层13的转印制作；

B、对所述图标层13表面上进行光学镀膜形成镀膜层14；

C、在所述镀膜层14表面形成盖底用的附着层15；

D、通过粘接层22将所述基材层12远离所述图标层13的表面贴合在基板21上。

可以理解，本实施方式中，所述基板21为透明基板，且所述基板21远离所述粘接层22的表面作为所述壳体的外表面，但是，在变更实施方式中，所述基板21也可以为金属基板、塑料基板等不透明基板，此时，所述图标结构10的附着层16表面可以作为外表面，且所述附着层16在所述图标层13所在的位置为透明保护层，在所述图标层13以外的位置可以为依据需要设计的颜色层。

进一步地，在一种变更实施方式中，所述图标结构10的基材层12也可以直接延长从而作为电子设备壳体的基板，从而无需图1所示的基板21与粘接层22，此时，所述图标层13与镀膜层14尺寸小于所述基材层12的尺寸，构成可以用于显示商标、品牌、名称、或功能标识等的图标区，所述附着层15则可以进一步延伸至所述基材层12的内表面，作为所述壳体的遮蔽层。

相较于现有技术，本实用新型的图标结构10中，所述图标结构10的图标层13的棱镜尺寸在1000纳米以内，不仅在视觉上难于察觉其纹理从而到达高质感的视觉效果，而且通过棱镜结构16的反射也可呈现高光泽、高立体的视觉效果，提高用户体验性。

进一步地，所述棱镜结构16表面进一步设置微结构17，所述微结构17可以进一步对光线进行折射、反射从而使得光线散射、叠加，使得所述图标结构10可以呈现高质感、高光泽、及/或高立体的视觉效果，特别是，在任一角度时观看均可以呈现一种非常炫酷流动感，并且在不同角度看可呈现变换流动的视觉效果。

请参阅图5，图5是本实用新型一较佳实施方式的电子设备30的立体结构示意图。所述电子设备30可以为手机、平板电脑、笔记本电脑等终端设备，所述电子设备30包括前壳31、中框32及后壳33，本实施方式中，所述后壳33采用上述壳体20。可以理解，在变更实施方式中，所述前壳31也可以采用上述壳体20，或者，在变更实施方式中，所述中框32也可以具有上述图标结构10。

以上所揭露的仅为本实用新型较佳实施方式而已，当然不能以此来限定本实用新型之权利范围，因此依本实用新型权利要求所作的等同变化，仍属本实用新型所涵盖的范围。

Claims (10)

1.一种图标结构，其特征在于：所述图标结构包括基材层及设置于所述基材层表面的图标层，所述图标层远离所述基材层的表面包括多条沿预定方向排列的棱镜结构，每个棱镜结构的宽度及/或高度小于等于1000纳米。

2.如权利要求1所述的图标结构，其特征在于：每个棱镜结构的宽度及/或高度在500纳米至1000纳米的范围内。

3.如权利要求1所述的图标结构，其特征在于：每个棱镜结构的表面还包括多个微结构，每个微结构的宽度、长度及/或高度小于等于1000纳米。

4.如权利要求3所述的图标结构，其特征在于：每个微结构的宽度、长度及/或高度在100纳米至1000纳米的范围内。

5.如权利要求3所述的图标结构，其特征在于：所述微结构为设置于所述棱镜结构表面的凸起结构。

6.如权利要求3所述的图标结构，其特征在于：所述微结构为棱锥或圆锥。

7.如权利要求1所述的图标结构，其特征在于：所述图标结构还包括镀膜层，所述镀膜层位于所述图标层远离所述基材层的一侧；所述镀膜层的厚度在20纳米至500纳米的范围内；所述图标结构还包括附着层，所述附着层设置于所述图标层远离所述基材层的一侧。

8.一种壳体，所述壳体具有图标结构，其特征在于：所述图标结构采用如权利要求1-7项任意一项所述的图标结构。

9.如权利要求8所述的壳体，其特征在于：所述壳体还包括基板及粘接层，所述基材层远离所述图标层的表面通过所述粘接层粘接于所述基板上。

10.一种电子设备，其包括壳体，其特征在于，所述壳体采用权利要求8或9所述的壳体。