CN207641473U - 一种方便清洗维护的反应釜 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种方便清洗维护的反应釜，通过设置的伺服电机，实现转轴的转动功能，在需要清洗时，将反应釜主体的开口旋转至水平位置，利于工作人员对其进行清洗，清洗后，再将反应釜主体的开口旋转至朝下的位置，将清洗水倒掉并晾干，晾干后调节反应釜主体至正常工作位置即可进行后续的反应；盖板两端连接有伸缩杆，伸缩杆下端设有电动伸缩缸，实现伸缩杆的伸缩功能，进而实现盖板的升降功能，需要添加物料时，调节盖板至反应釜主体上端即可将物料从反应釜主体上端添加至其内部，需要进行化工反应时，将盖板调节至和反应釜主体上端接触，并调节电动滑块在电动滑轨上的位置，使得橡胶板和反应釜主体内壁接触，保证反应的密闭性。

Description

一种方便清洗维护的反应釜

技术领域

本实用新型涉及一种反应釜，尤其是涉及一种方便清洗维护的反应釜。

背景技术

在化工行业中，反应釜是必不可缺少的设备之一。反应釜在食品、医药、化工等领域的应用十分广泛，然而，现有反应釜在物料反应完毕后不便于清洗，给后续的反应工作带来不便。针对此问题，设计一种方便清洗维护的反应釜，该反应釜将整个装置两端均连接转轴，转轴由伺服电机控制，在需要清洗时，将反应釜主体的开口旋转至水平位置，利于工作人员对其进行清洗，清洗后，再将反应釜主体的开口旋转至朝下的位置，将清洗水倒掉并晾干，晾干后调节反应釜主体至正常工作位置即可进行后续的反应，且此装置将搅拌轴设置于盖板下端，盖板两端连接有升降装置，利于将物料添加进反应釜主体，且不影响反应釜的清洗和反应工作，该装置一侧还连接有一个管道，管道内安装有压力表，压力表两端均设有电磁阀，在进行清洗工作时，将两个电磁阀关闭，防止清洗水浸没压力表对其造成损坏，在反应工作进行时，打开其中一个电磁阀，在压力表感应到反应釜主体内部的压力过大时，自动打开另一个电磁阀，保持反应釜主体内外的压力平衡。该反应釜结构简单，成本低昂，便于清洗和维护，给化工反应作业带来极大便利。

实用新型内容

本实用新型要解决的技术问题是在化工设备应用的基础上，为化工反应釜提供一种辅助功能，设计一种方便清洗维护的反应釜，从而解决上述问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：

本实用新型一种方便清洗维护的反应釜，包括反应釜主体，所述反应釜主体下端两侧均固定设有支脚，所述反应釜主体底端连通设有出料口，每个所述支脚外侧均设有安装座，每个所述安装座上端均安装有伺服电机和电动伸缩缸，所述电动伸缩缸位于伺服电机一侧，每个所述伺服电机内侧均连接有转轴，所述转轴远离伺服电机一端固定于反应釜主体外侧，每个所述电动伸缩缸上端均连接有伸缩杆，所述伸缩杆上端内侧设有连接轴，两个所述连接轴之间固定连接有盖板，所述盖板上端安装有旋转电机，所述旋转电机下端固定连接有搅拌轴，所述搅拌轴外周设有搅拌叶，所述盖板下端安装有若干电动轨道，每个所述电动轨道内部均安装有电动滑块，所述电动滑块下端固定连接有密封板，所述密封板一侧设有橡胶板，所述橡胶板和反应釜主体内壁接触，所述反应釜主体一侧还连通设有通气管，所述通气管内部安装有压力表，所述反应釜主体外设有智能控制器，所述智能控制器以MCU单片机为控制单元。

作为本实用新型的一种优选技术方案，所述反应釜主体为中空结构，所述出料口上安装有出料口。

作为本实用新型的一种优选技术方案，所述转轴和伺服电机为轴连接，所述伸缩杆和电动伸缩缸也为轴连接。

作为本实用新型的一种优选技术方案，所述搅拌轴和旋转电机为轴连接，所述搅拌叶为网格形状。

作为本实用新型的一种优选技术方案，所述电动滑块和电动轨道为滑动连接。

作为本实用新型的一种优选技术方案，所述压力表两侧分别安装有第一电磁阀和第二电磁阀。

作为本实用新型的一种优选技术方案，所述智能控制器电性连接旋转电机、伺服电机、电动伸缩缸、电动滑块、压力表、第一电磁阀和第二电磁阀。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：该种方便清洗维护的反应釜，结构设计完整紧凑，通过设置的伺服电机，实现转轴的转动功能，在需要清洗时，将反应釜主体的开口旋转至水平位置，利于工作人员对其进行清洗，清洗后，再将反应釜主体的开口旋转至朝下的位置，将清洗水倒掉并晾干，晾干后调节反应釜主体至正常工作位置即可进行后续的反应；且此装置将搅拌轴设置于盖板下端，搅拌轴外周设有网格型搅拌叶，使得物料反应更加完全，盖板两端连接有伸缩杆，伸缩杆下端设有电动伸缩缸，实现伸缩杆的伸缩功能，进而实现盖板的升降功能，需要添加物料时，调节盖板至反应釜主体上端即可将物料从反应釜主体上端添加至其内部，需要进行化工反应时，将盖板调节至和反应釜主体上端接触，并调节电动滑块在电动滑轨上的位置，使得橡胶板和反应釜主体内壁接触，保证反应的密闭性，需要对反应釜主体进行清洗时，将搅拌轴调节至反应釜主体上端即可进行后续清洗工作；该装置一侧还连接有一个通气管，通气管内安装有压力表，压力表两端均设有电磁阀，在进行清洗工作时，将两个电磁阀关闭，防止清洗水浸没压力表对其造成损坏，在反应工作进行时，打开其中一个电磁阀，在压力表感应到反应釜主体内部的压力过大时，自动打开另一个电磁阀，保持反应釜主体内外的压力平衡，该反应釜成本低昂，便于清洗和维护，给化工反应作业带来极大便利，本实用新型结构简单高效且设计合理，更加人性化，适合推广使用。

附图说明

附图用来提供对本实用新型的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与本实用新型的实施例一起用于解释本实用新型，并不构成对本实用新型的限制。在附图中：

图1为本实用新型的主体结构示意图；

图2为本实用新型的升降装置结构示意图；

图3为本实用新型的搅拌装置结构示意图；

图4为本实用新型的A的放大结构示意图；

图中：1、反应釜主体；2、支脚；3、出料口；4、控制阀门；5、搅拌轴；6、旋转电机；7、搅拌叶；8、安装座；9、伺服电机；10、转轴；11、电动伸缩缸；12、伸缩杆；13、连接轴；14、盖板；15、电动轨道；16、电动滑块；17、密封板；18、橡胶板；19、通气管；20、压力表。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例，基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

请参阅图1-4，本实用新型提供一种技术方案：一种方便清洗维护的反应釜，包括反应釜主体1，反应釜主体1下端两侧均固定设有支脚2，反应釜主体1底端连通设有出料口3，每个支脚2外侧均设有安装座8，每个安装座8上端均安装有伺服电机9和电动伸缩缸11，电动伸缩缸11位于伺服电机9一侧，每个伺服电机9内侧均连接有转轴10，转轴10远离伺服电机9一端固定于反应釜主体1外侧，每个电动伸缩缸11上端均连接有伸缩杆12，伸缩杆12上端内侧设有连接轴13，两个连接轴13之间固定连接有盖板14，盖板14上端安装有旋转电机6，旋转电机6下端固定连接有搅拌轴5，搅拌轴5外周设有搅拌叶7，盖板14下端安装有若干电动轨道15，每个电动轨道15内部均安装有电动滑块16，电动滑块16下端固定连接有密封板17，密封板17一侧设有橡胶板18，橡胶板18和反应釜主体1内壁接触，反应釜主体1一侧还连通设有通气管19，通气管19内部安装有压力表20，反应釜主体1外设有智能控制器，智能控制器以MCU单片机为控制单元。

反应釜主体1为中空结构，出料口3上安装有出料口3，转轴10和伺服电机9为轴连接，伸缩杆12和电动伸缩缸11也为轴连接，搅拌轴5和旋转电机6为轴连接，搅拌叶7为网格形状，电动滑块16和电动轨道15为滑动连接，压力表20两侧分别安装有第一电磁阀和第二电磁阀，智能控制器电性连接旋转电机6、伺服电机9、电动伸缩缸11、电动滑块16、压力表20、第一电磁阀和第二电磁阀。

具体原理：该种方便清洗维护的反应釜，首先利用智能控制器开启电动伸缩缸11，调节伸缩杆12的长度进而实现盖板14的调节，调节盖板14至反应釜主体1上端，将物料从反应釜主体1上端添加至其内部，添加完毕后，将盖板14调节至和反应釜主体1上端接触，并调节电动滑块16在电动滑轨15上的位置，使得橡胶板18和反应釜主体1内壁接触，打开旋转电机6，在旋转电机6的带动下，搅拌叶7开始搅拌，使得物料混合会更加均匀，加速物料的反应，此时，靠近反应釜主体1一侧的第一电磁阀处于开启状态，第二电磁阀处于关闭状态，在压力表20感应到反应釜主体1内部的压力过大时，自动打开第二电磁阀，保持反应釜主体1内外的压力平衡，反应完毕后，打开控制阀门4，通过出料口3对物料进行收集待用，需要对装置进行清洗时，将搅拌轴5调节至反应釜主体1上端，打开伺服电机9，将反应釜主体1的开口旋转至水平位置，对反应釜主体1内部进行清洗，清洗完毕后，再将反应釜主体1的开口旋转至朝下的位置，将清洗水倒掉并晾干，晾干后调节反应釜主体1至正常工作位置即可进行后续的反应。

该种方便清洗维护的反应釜，结构设计完整紧凑，通过设置的伺服电机9，实现转轴10的转动功能，在需要清洗时，将反应釜主体1的开口旋转至水平位置，利于工作人员对其进行清洗，清洗后，再将反应釜主体1的开口旋转至朝下的位置，将清洗水倒掉并晾干，晾干后调节反应釜主体1至正常工作位置即可进行后续的反应；且此装置将搅拌轴5设置于盖板14下端，搅拌轴5外周设有网格型搅拌叶7，使得物料反应更加完全，盖板14两端连接有伸缩杆12，伸缩杆12下端设有电动伸缩缸11，实现伸缩杆12的伸缩功能，进而实现盖板14的升降功能，需要添加物料时，调节盖板14至反应釜主体1上端即可将物料从反应釜主体1上端添加至其内部，需要进行化工反应时，将盖板14调节至和反应釜主体1上端接触，并调节电动滑块16在电动滑轨15上的位置，使得橡胶板18和反应釜主体1内壁接触，保证反应的密闭性，需要对反应釜主体1进行清洗时，将搅拌轴5调节至反应釜主体1上端即可进行后续清洗工作；该装置一侧还连接有一个通气管19，通气管19内安装有压力表20，压力表20两端均设有电磁阀，在进行清洗工作时，将两个电磁阀关闭，防止清洗水浸没压力表20对其造成损坏，在反应工作进行时，打开其中一个电磁阀，在压力表20感应到反应釜主体1内部的压力过大时，自动打开另一个电磁阀，保持反应釜主体1内外的压力平衡，该反应釜成本低昂，便于清洗和维护，给化工反应作业带来极大便利，本实用新型结构简单高效且设计合理，更加人性化，适合推广使用。

最后应说明的是：以上所述仅为本实用新型的优选实施例而已，并不用于限制本实用新型，尽管参照前述实施例对本实用新型进行了详细的说明，对于本领域的技术人员来说，其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换,凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。

Claims (7)

1.一种方便清洗维护的反应釜，包括反应釜主体（1），其特征在于，所述反应釜主体（1）下端两侧均固定设有支脚（2），所述反应釜主体（1）底端连通设有出料口（3），每个所述支脚（2）外侧均设有安装座（8），每个所述安装座（8）上端均安装有伺服电机（9）和电动伸缩缸（11），所述电动伸缩缸（11）位于伺服电机（9）一侧，每个所述伺服电机（9）内侧均连接有转轴（10），所述转轴（10）远离伺服电机（9）一端固定于反应釜主体（1）外侧，每个所述电动伸缩缸（11）上端均连接有伸缩杆（12），所述伸缩杆（12）上端内侧设有连接轴（13），两个所述连接轴（13）之间固定连接有盖板（14），所述盖板（14）上端安装有旋转电机（6），所述旋转电机（6）下端固定连接有搅拌轴（5），所述搅拌轴（5）外周设有搅拌叶（7），所述盖板（14）下端安装有若干电动轨道（15），每个所述电动轨道（15）内部均安装有电动滑块（16），所述电动滑块（16）下端固定连接有密封板（17），所述密封板（17）一侧设有橡胶板（18），所述橡胶板（18）和反应釜主体（1）内壁接触，所述反应釜主体（1）一侧还连通设有通气管（19），所述通气管（19）内部安装有压力表（20），所述反应釜主体（1）外设有智能控制器，所述智能控制器以MCU单片机为控制单元。

2.根据权利要求1所述的一种方便清洗维护的反应釜，其特征在于，所述反应釜主体（1）为中空结构，所述出料口（3）上安装有出料口（3）。

3.根据权利要求1所述的一种方便清洗维护的反应釜，其特征在于，所述转轴（10）和伺服电机（9）为轴连接，所述伸缩杆（12）和电动伸缩缸（11）也为轴连接。

4.根据权利要求1所述的一种方便清洗维护的反应釜，其特征在于，所述搅拌轴（5）和旋转电机（6）为轴连接，所述搅拌叶（7）为网格形状。

5.根据权利要求1所述的一种方便清洗维护的反应釜，其特征在于，所述电动滑块（16）和电动轨道（15）为滑动连接。

6.根据权利要求1所述的一种方便清洗维护的反应釜，其特征在于，所述压力表（20）两侧分别安装有第一电磁阀和第二电磁阀。

7.根据权利要求6所述的一种方便清洗维护的反应釜，其特征在于，所述智能控制器电性连接旋转电机（6）、伺服电机（9）、电动伸缩缸（11）、电动滑块（16）、压力表（20）、第一电磁阀和第二电磁阀。