CN207581906U - 一种物理气相沉积设备 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种物理气相沉积设备，包括第一箱壁、第二箱壁和吸气管，所述第一箱壁和第二箱壁分别设置有两个，所述第一箱壁和第二箱壁相互垂直固定连接，所述第一箱壁和第二箱壁构成气相沉积箱，所述吸气管一端贯穿固定连接在第二箱壁的一侧，所述吸气管的另一端固定在真空泵的一侧，所述第一箱壁内侧的上部均固定有基片托板，所述基片托板的顶部放置有基片，通过在钳锅一侧的罩壁内部开设了凹槽，在凹槽内放入微型电机，微型电机外接电源，带动连接杆，使连接杆带动滑轮在滑槽内滑动，带动钳锅在基片的下方运动，均匀的将蒸镀的蒸镀液喷向基片的底面，能让基片均匀的收到蒸镀效果，让基片膜不容易掉落。

Description

一种物理气相沉积设备

技术领域

本实用新型涉及镀膜技术领域，具体为一种物理气相沉积设备。

背景技术

物理气相沉积技术表示在真空条件下，采用物理方法，将材料源--固体或液体表面气化成气态原子、分子或部分电离成离子，并通过低压气体或等离子体过程，在基体表面沉积具有某种特殊功能的薄膜的技术。物理气相沉积的主要方法有，真空蒸镀、溅射镀膜、电弧等离子体镀、离子镀膜，及分子束外延等。发展到目前，物理气相沉积技术不仅可沉积金属膜、合金膜、还可以沉积化合物、陶瓷、半导体、聚合物膜等。

现有技术中在使用过程中还存在着不完善的地方：

1.现有技术中在使用蒸镀技术过程中，因为气体的不稳定性，在真空中无规则运动，导致在蒸镀中的基片上的膜中心点厚,四周薄，造成了不均匀的膜，使基片膜层易脱落。

2.现有技术中在使用蒸镀技术过程中还存在因为气体不稳定性，蒸发的气体没有指向性，不能对单独的一块地方进行镀膜处理，需要整体的镀膜，浪费了更多的资源和时间。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种物理气相沉积设备，以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种物理气相沉积设备，包括第一箱壁、第二箱壁和吸气管，所述第一箱壁和第二箱壁分别设置有两个，所述第一箱壁和第二箱壁相互垂直固定连接，所述第一箱壁和第二箱壁构成气相沉积箱，所述吸气管一端贯穿固定连接在第二箱壁的一侧，所述吸气管的另一端固定在真空泵的一侧，两个所述第一箱壁内侧的上部均固定有基片托板，所述基片托板的顶部放置有基片，所述气相沉积箱的顶部密封活动连接有箱盖，所述气相沉积箱底部的上表面活动连接有蒸发罩机构，所述蒸发罩机构包括转轮、电阻丝、钳锅、罩壁和蒸发物，所述钳锅的内部固定有电阻丝，所述钳锅的底部固定有转轮，所述钳锅中部的上表面放置有蒸发物，所述钳锅的顶部固定有罩壁，所述罩壁的内部固定有电阻丝，所述第一箱壁的内壁上开设有滑槽，所述滑槽的内部滑动连接有滑轮，所述罩壁的外壁开设有凹槽，所述凹槽的内部固定有固定柱，所述固定柱的顶部固定有微型电机，所述微型电机的输出端固定有连接杆，所述连接杆的另一端固定在滑轮的一侧，所述连接杆的外侧套接有保护管，所述保护管的一端固定在罩壁靠近滑轮的一侧。

优选的，所述罩壁的顶部固定有导流板，所述导流板与罩壁内壁之间的夹角为120-150度。。

所述微型电机与电阻丝均外接电源。

所述箱盖的顶部固定有把手。

所述转轮共设置有4个。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：

1.通过在钳锅一侧的罩壁内部开设了凹槽，在凹槽内放入微型电机，微型电机外接电源，带动连接杆，使连接杆带动滑轮在滑槽内滑动，带动钳锅在基片的下方运动，均匀的将蒸镀的蒸镀液喷向基片的底面，能让基片均匀的收到蒸镀效果，让基片膜不容易掉落。

2.通过在钳锅顶部的罩壁上固定了导流板，将蒸镀的雾气集中在一个固定的区域，通过这个固定的区域涌向基片固定的位置，能够单独蒸镀基片某一个固定的区域，极大的方便了工作人员的工作，节省了工作的时间和使用的资源。

附图说明

图1为本实用新型整体结构主视图；

图2为本实用新型整体结构侧视图；

图3为本实用新型结构局部示意图；

图4为本实用新型整体结构俯视图。

图中：1-气相沉积箱；2-吸气管；3-真空泵；4-蒸发罩机构；5-转轮；6-电阻丝；7-钳锅；8-罩壁；9-导流板；10-基片；11-基片托板；12-第一箱体；13-滑槽；14-滑轮；15-连接杆；16-保护管；17-凹槽；8-微型电机；19-固定柱；20-箱盖；21-第二箱体；22-蒸发物；23-把手；24-密封圈。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

请参阅图1-4，本实用新型提供一种技术方案：一种物理气相沉积设备，包括第一箱壁12、第二箱壁21和吸气管2，第一箱壁12和第二箱壁21分别设置有两个，第一箱壁12和第二箱壁21相互垂直固定连接，第一箱壁12和第二箱壁21构成气相沉积箱1，吸气管2一端贯穿固定连接在第二箱壁21的一侧，吸气管2的另一端固定在真空泵3的一侧，两个第一箱壁12内侧的上部均固定有基片托板11，基片托板11的顶部放置有基片10，气相沉积箱1的顶部密封活动连接有箱盖20，气相沉积箱1底部的上表面活动连接有蒸发罩机构4，蒸发罩机构4包括转轮5、电阻丝6、钳锅7、罩壁8和蒸发物22，钳锅7的内部固定有电阻丝6，钳锅7的底部固定有转轮5，钳锅7中部的上表面放置有蒸发物22，钳锅7的顶部固定有罩壁8，罩壁8的内部固定有电阻丝6，第一箱壁12的内壁上开设有滑槽13，滑槽13的内部滑动连接有滑轮14，罩壁8的外壁开设有凹槽17，凹槽17的内部固定有固定柱19，固定柱19的顶部固定有微型电机18，微型电机18的输出端固定有连接杆15，连接杆15的另一端固定在滑轮14的一侧，连接杆15的外侧套接有保护管16。

罩壁8的顶部固定有导流板9，导流板9与罩壁8内壁之间的夹角为120-150度，能够将蒸发的气体集中在一个位置，对基片10进行膜镀。

微型电机18、电阻丝6和真空泵3均外接电源。

箱盖20的顶部固定有把手23，能方便工作人员取出基片10。

转轮5共设置有4个，可以稳定的移动蒸发机构。

工作原理：打开箱盖20，将基片10放置基片托11上，在钳锅7内放置蒸发物22，盖上箱盖20，打开真空泵3，将气相沉积箱1内部吸成真空，电阻丝6连接外部电源，开始加热钳锅6和罩壁8，将蒸发物22蒸发成气态，通过导流板9的引导，将雾化的蒸发液均匀的接触基片10，微型电机10外接电源将开始转动，通过带动滑槽13内的滑轮14滑动，带动蒸发机构4在气相沉积箱1内移动。

需要说明的是，在本文中，诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。

尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本实用新型的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本实用新型的范围由所附权利要求及其等同物限定。

Claims (5)

1.一种物理气相沉积设备，包括第一箱壁(12)、第二箱壁(21)和吸气管(2)，其特征在于：所述第一箱壁(12)和第二箱壁(21)分别设置有两个，所述第一箱壁(12)和第二箱壁(21)相互垂直固定连接，所述第一箱壁(12)和第二箱壁(21)构成气相沉积箱(1)，所述吸气管(2)一端贯穿固定连接在第二箱壁(21)的一侧，所述吸气管(2)的另一端固定在真空泵(3)的一侧，两个所述第一箱壁(12)内侧的上部均固定有基片托板(11)，所述基片托板(11)的顶部放置有基片(10)，所述气相沉积箱(1)的顶部密封活动连接有箱盖(20)，所述气相沉积箱(1)底部的上表面活动连接有蒸发罩机构(4)，所述蒸发罩机构(4)包括转轮(5)、电阻丝(6)、钳锅(7)、罩壁(8)和蒸发物(22)，所述钳锅(7)的内部固定有电阻丝(6)，所述钳锅(7)的底部固定有转轮(5)，所述钳锅(7)中部的上表面放置有蒸发物(22)，所述钳锅(7)的顶部固定有罩壁(8)，所述罩壁(8)的内部固定有电阻丝(6)，所述第一箱壁(12)的内壁上开设有滑槽(13)，所述滑槽(13)的内部滑动连接有滑轮(14)，所述罩壁(8)的外壁开设有凹槽(17)，所述凹槽(17)的内部固定有固定柱(19)，所述固定柱(19)的顶部固定有微型电机(18)，所述微型电机(18)的输出端固定有连接杆(15)，所述连接杆(15)的另一端固定在滑轮(14)的一侧，所述连接杆(15)的外侧套接有保护管(16)，所述保护管(16)的一端固定在罩壁(8)靠近滑轮(14)的一侧。

2.根据权利要求1所述的一种物理气相沉积设备，其特征在于：所述罩壁(8)的顶部固定有导流板(9)，所述导流板(9)与罩壁(8)内壁之间的夹角为120-150度。

3.根据权利要求2所述的一种物理气相沉积设备，其特征在于：所述微型电机(18)与电阻丝(6)均外接电源。

4.根据权利要求1所述的一种物理气相沉积设备，其特征在于：所述箱盖(20)的顶部固定有把手(23)，所述箱盖(20)下表面四周的边缘固定密封圈(24)。

5.根据权利要求1所述的一种物理气相沉积设备，其特征在于：所述转轮(5)共设置有4个。