CN207552432U - 坩埚 - Google Patents
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Abstract
本实用新型涉及一种坩埚,包括:坩埚本体和盖体;坩埚本体设置有开口,坩埚本体于开口的外侧边缘开设有多个第一螺孔,盖体盖设于坩埚本体的开口,且盖体抵接于坩埚本体的开口的边缘,盖体开设有多个第二螺孔,各第二螺孔与各第一螺孔分别一一对齐,第二螺孔和第一螺孔内螺接一螺接件;坩埚本体和盖体中的其中一个凸起设置有至少一个凸起部,坩埚本体和盖体中的另一个开设有至少一个凹槽,每一凸起部插设于一凹槽内,且凸起部与凹槽具有相互匹配的截面形状。通过坩埚本体和盖体通过螺接件连接,并且坩埚本体和盖体的凸起部插设在凹槽内,使得坩埚本体和盖体之间的密闭性更佳,能够有效防止蒸镀材料泄漏,有效降低了成本,且使得蒸镀效果更佳。
Description
技术领域
本实用新型涉及有机发光显示制造技术领域,特别是涉及用于OLED蒸镀的坩埚。
背景技术
在平板显示技术中,有机发光二极管(Organic Light—Emitting Diode,OLED)显示器具有轻薄、主动发光、快速响应、广视角、色彩丰富、高亮度、低功耗和耐高低温等众多优点,而被业界公认为继液晶显示器(LCD)之后的第三代显示技术。
按驱动方式,OLED分为被动式的PMOLED(Passive Matrix OLED,PMOLED,被动矩阵有机电激发光二极管)及主动式的AMOLED(Active Martix OLED,主动矩阵有机发光二极管),其中,PMOLED只能制作小尺寸、低分辨率的显示面板,而AMOLED因通过在每个像素中集成TFT(Thin Film Transistor,薄膜晶体管)和电容器并由电容器维持电压的方法进行驱动,因而可以实现大尺寸、高分辨率的显示,是当前研究的重点及未来显示技术的发展方向。
AMOLED在制备过程中采用线性蒸镀源进行材料的蒸镀,作为蒸镀源的坩埚的盖体上设置若个喷嘴,通过喷嘴将蒸发材料蒸镀在面板上,蒸镀源上的喷嘴均匀排布,故而可以控制有机材料均匀分布在面板上。
坩埚如果密闭性不佳,容易导致蒸镀材料的泄漏,造成蒸镀效果不佳,且使得蒸镀材料的浪费,造成成本上升。
实用新型内容
基于此,有必要提供一种坩埚。
一种坩埚,包括:坩埚本体和盖体;
所述坩埚本体设置有开口,所述坩埚本体于所述开口的外侧边缘开设有多个第一螺孔,所述盖体盖设于所述坩埚本体的所述开口,且所述盖体抵接于所述坩埚本体的所述开口的边缘,所述盖体开设有多个第二螺孔,各所述第二螺孔与各所述第一螺孔分别一一对齐,所述第二螺孔和所述第一螺孔内螺接一螺接件;
所述坩埚本体和所述盖体中的其中一个凸起设置有至少一个凸起部,所述坩埚本体和所述盖体中的另一个开设有至少一个凹槽,每一所述凸起部插设于一所述凹槽内,且所述凸起部与所述凹槽具有相互匹配的截面形状。
在其中一个实施例中,所述凸起部与所述凹槽具有相互相同的截面形状。
在其中一个实施例中,所述凸起部具有梯形截面。
在其中一个实施例中,所述凸起部具有三角形截面。
在其中一个实施例中,所述凹槽具有梯形截面。
在其中一个实施例中,所述凹槽具有三角形截面。
在其中一个实施例中,所述凸起部凸起设置于所述盖体朝向所述坩埚本体的一面。
在其中一个实施例中,所述凸起部凸起设置于所述盖体的两侧。
在其中一个实施例中,所述凸起部的数量为四个。
在其中一个实施例中,各所述凸起部凸起高度相异设置。
上述坩埚,通过坩埚本体和盖体通过螺接件连接,并且坩埚本体和盖体的凸起部插设在凹槽内,使得坩埚本体和盖体之间的密闭性更佳,能够有效防止蒸镀材料泄漏,有效降低了成本,且使得蒸镀效果更佳。
附图说明
图1为一个实施例的坩埚的剖面结构示意图;
图2为一个实施例的坩埚本体和盖体的剖面结构示意图;
图3为图2中A处局部放大示意图;
图4为另一个实施例的坩埚本体和盖体的剖面结构示意图。
具体实施方式
为了便于理解本实用新型,下面将参照相关附图对本实用新型进行更全面的描述。附图中给出了本实用新型的较佳实施方式。但是,本实用新型可以以许多不同的形式来实现,并不限于本文所描述的实施方式。相反地,提供这些实施方式的目的是使对本实用新型的公开内容理解的更加透彻全面。
除非另有定义,本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本实用新型的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中所使用的术语只是为了描述具体的实施方式的目的,不是旨在于限制本实用新型。本文所使用的术语“及/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。
例如,一种坩埚,包括坩埚本体和盖体;所述坩埚本体设置有开口,所述坩埚本体于所述开口的外侧边缘开设有多个第一螺孔,所述盖体盖设于所述坩埚本体的所述开口,且所述盖体抵接于所述坩埚本体的所述开口的边缘,所述盖体开设有多个第二螺孔,各所述第二螺孔与各所述第一螺孔分别一一对齐,所述第二螺孔和所述第一螺孔内螺接一螺接件;所述坩埚本体和所述盖体中的其中一个凸起设置有至少一个凸起部,所述坩埚本体和所述盖体中的另一个开设有至少一个凹槽,每一所述凸起部插设于一所述凹槽内,且所述凸起部与所述凹槽具有相互匹配的截面形状。
上述实施例中,通过坩埚本体和盖体通过螺接件连接,并且坩埚本体和盖体的凸起部插设在凹槽内,使得坩埚本体和盖体之间的密闭性更佳,能够有效防止蒸镀材料泄漏,有效降低了成本,且使得蒸镀效果更佳。
在一个实施例中,如图1和图2所示,提供一种坩埚10,包括:坩埚本体100和盖体200;所述坩埚本体100设置有开口102,所述坩埚本体100于所述开口102的外侧边缘开设有多个第一螺孔103,所述盖体200盖设于所述坩埚本体100的所述开口102,且所述盖体200抵接于所述坩埚本体100的所述开口102的边缘,所述盖体200开设有多个第二螺孔201,各所述第二螺孔201与各所述第一螺孔103分别一一对齐,所述第二螺孔201和所述第一螺孔103内螺接一螺接件400;所述坩埚本体100和所述盖体200中的其中一个凸起设置有至少一个凸起部,所述坩埚本体100和所述盖体200中的另一个开设有至少一个凹槽,每一所述凸起部插设于一所述凹槽内,且所述凸起部与所述凹槽具有相互匹配的截面形状。
例如,盖体朝向坩埚本体的一面凸起设置有至少一个凸起部,坩埚本体坩埚本体位抵接于盖体的部分开设至少一个凹槽。也就是说,所述坩埚本体和所述盖体,这两个物件中的其中一个物件,凸起设置有至少一个凸起部,这两个物件中的另一个物件,开设有至少一个凹槽;例如,所述坩埚本体凸起设置有至少一个凸起部,所述盖体开设有至少一个凹槽;又如,所述盖体凸起设置有至少一个凸起部,所述坩埚本体开设有至少一个凹槽。各凸起部与各凹槽一一对应设置,每一所述凸起部插设于对应的一所述凹槽内。
本实施例中,盖体200凸起设置有凸起部210,凹槽105凹陷设于坩埚本体100的开口的边沿的位置。
具体地,该坩埚本体100内部设置有空腔101,且空腔101与开口102连通,该盖体200抵接于坩埚本体100位于开口102外侧边缘的部分,进而使得盖体200封闭该开口102。该盖体200开设有通孔202,坩埚10包括喷嘴300,喷嘴300与盖体200螺纹连接,且喷嘴300与通孔202连通,即喷嘴300通过通孔202与坩埚本体100的开口102连通,这样,坩埚本体100内的蒸镀材料能够通过盖体200的喷嘴300蒸镀在面板上。例如,该喷嘴300设置有外螺纹,该通孔202设置有内螺纹,喷嘴300与盖体200螺纹连接,能够使得喷嘴300能够方便地从盖体200上进行安装和拆卸。
该坩埚本体100在开口102的外侧边缘开设有第一螺孔103,盖体200开设有第二螺孔201,这样,坩埚本体100和盖体200之间可以通过螺接件400进行连接,使得两者之间得到固定。例如,该螺接件400为螺钉,例如,该螺接件400为螺丝,又如,该螺接件400为螺栓。
通过凸起部210与凹槽105的配合,使得坩埚本体100与盖体200之间的抵接更为紧密,使得坩埚本体100和盖体200之间的密闭性更佳,能够有效防止蒸镀材料泄漏,有效降低了成本,且使得蒸镀效果更佳。
值得一提的是,如图3所示,凸起部210与凹槽105具有相互匹配的截面形状,即凸起部210的截面的形状与凹槽105的截面的形状匹配,或者说,在同一方向上,凸起部210的截面的形状与凹槽105的截面的形状匹配,例如,凸起部210的截面的形状与凹槽105的截面的形状至少部分相同,这样,能够使得凸起部210能够更好地抵接于凹槽105的侧壁,进而使得坩埚本体100与盖体200之间的密闭性更佳。
例如,如图3所示,所述凸起部210具有梯形截面,所述凹槽105具有三角形截面,例如,三角形的凹槽105的槽口为三角形的宽度较大的一端,这样,该梯形的凸起部210的形状和三角形的凹槽105的形状至少部分相同,比如,凸起部210的宽度较大的一端的形状与凹槽105的三角形凹槽105的宽度较大的一端的形状相同,例如,凸起部210的表面倾斜于盖板朝向坩埚本体100的一面的角度与凹槽105的侧壁倾斜于盖板朝向坩埚本体100的一面的角度相同,这样,使得凸起部210插入凹槽105后,凸起部210的表面能够充分抵接于凹槽105的侧壁,使得两者之间的密闭性更佳。
在一个实施例中,所述凸起部与所述凹槽具有相同的截面形状。例如,凸起部的截面的形状与凹槽的截面的形状相同,例如,在同一方向上,凸起部的截面的形状与凹槽的截面的形状相同。这样,使得凸起部与凹槽能够充分配合,使得凸起部能够充分抵接于凹槽的侧壁,进而使得坩埚本体与盖体之间的密闭性更佳。例如,所述凸起部具有梯形截面,所述凹槽具有梯形截面。例如,所述凸起部具有三角形截面,例如,所述凹槽具有三角形截面。这样,各凸起部与凹槽的形状能够完全匹配,凸起部的外侧表面的倾斜度与凹槽的侧壁的倾斜度相等,使得凸起部能够充分抵接于凹槽的侧壁,进而使得两者之间的间隙更小,有利于提高坩埚本体与盖体之间的密闭性。
为了使得盖体200的结构更为稳固,在一个实施例中,如图2所示,所述凸起部210凸起设置于所述盖体200朝向所述坩埚本体100的一面。应该理解的是,由于盖板的厚度要小于坩埚本体100的厚度,在盖体200上设置凸起部210能够避免在盖体200上开设槽,有利于使得盖体200平均厚度更大,有利于提高盖体200的强度,使得盖体200的结构更为稳固。
为了使得盖体200对坩埚本体100的封闭效果更佳,例如,如图2所示,所述凸起部210凸起设置于所述盖体200的两侧。例如,所述凸起部210的数量为四个。例如,四个凸起部210中的两个设置于盖体200的一侧,另四个凸起部210中的另外两个设置于盖体200的另一侧,例如,凹槽105分别开设于坩埚本体100的两侧,坩埚本体100开设有四个凹槽105,四个凹槽105中的两个开设于坩埚本体100的一侧,四个凹槽105中的另外两个开设于坩埚本体100的另一侧,这样,能够使得坩埚本体100和盖体200在两侧都能够通过凸起部210和凹槽105的配合进行充分密闭连接,从而有效提高坩埚本体100与盖体200之间的密闭性。
又如,盖体200朝向所述坩埚本体100的一面均匀设置有若干凸起部210,例如,坩埚本体100为中部开设有空腔101的圆柱体,坩埚本体100在开口102的边沿均匀开设若干凹槽105,这样,凸起部210和凹槽105均呈圆形分布设置,有利于坩埚本体100和盖体200之间的充分密封,使得两者之间的密闭性更佳。
上述实施例中,由于设置了多个凸起部210和凹槽105,增加了坩埚本体100与盖体200在之间接触的面,且由于凸起部210和凹槽105的形状为梯形或者三角形,使得两者之间的接触面均不在一个平面上,即使其中一个面出现了变形也不影响其密闭性,可以有效减低蒸镀时材料蒸汽泄露的风险。
为了使得盖体和坩埚本体之间的密闭性,例如,各所述凸起部凸起高度相异设置,例如,各所述凹槽的深度相异设置,例如,每一凸起部与一凹槽对应,且对应的凸起部的高度与凹槽的深度相等,这样,使得不对应的凸起部不能插入凹槽内,使得盖体只能在预设位置上对坩埚本体进行连接,使得盖体和坩埚本体之间的连接位置得到固定,而不会错位,避免由于盖体转动至另一方向,导致盖体和坩埚本体之间产生间隙,从而使得盖体与坩埚本体之间的连接更为紧密。
值得一提的是,所述坩埚本体和所述盖体中的其中一个凸起设置有至少一个凸起部,所述坩埚本体和所述盖体中的开设有至少一个凹槽,也就是说,凸起部可以设置在坩埚本体上,也可以设置在盖体上,该凹槽可以开设与盖体上,也可以开设在坩埚本体上,例如,如图4所示,坩埚本体100抵接于盖体200的部分朝向盖体200凸起设置有至少一个凸起部110,盖体200朝向坩埚本体100的一面开设至少一个凹槽203。此外,本实施例中的其他结构也可采用上述实施例中的结构,只要其与本实施例中的技术方案不冲突即可,本实施例中不累赘描述。
上述实施例中,通过坩埚本体和盖体通过螺接件连接,并且坩埚本体和盖体的凸起部插设在凹槽内,使得坩埚本体和盖体之间的密闭性更佳,此外,由于多个凸起部和多个凹槽的倾斜面均不相同,使得两者之间的接触面均不在一个平面上,即使其中一个面出现了变形也不影响其密闭性,可以有效减低蒸镀时材料蒸汽泄露的风险。能够有效防止蒸镀材料泄漏,有效降低了成本,且使得蒸镀效果更佳。
以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合,为使描述简洁,未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述,然而,只要这些技术特征的组合不存在矛盾,都应当认为是本说明书记载的范围。
以上所述实施例仅表达了本实用新型的几种实施方式,其描述较为具体和详细,但并不能因此而理解为对实用新型专利范围的限制。应当指出的是,对于本领域的普通技术人员来说,在不脱离本实用新型构思的前提下,还可以做出若干变形和改进,这些都属于本实用新型的保护范围。因此,本实用新型专利的保护范围应以所附权利要求为准。
Claims (10)
1.一种坩埚,其特征在于,包括坩埚本体和盖体;
所述坩埚本体设置有开口,所述坩埚本体于所述开口的外侧边缘开设有多个第一螺孔,所述盖体盖设于所述坩埚本体的所述开口,且所述盖体抵接于所述坩埚本体的所述开口的边缘,所述盖体开设有多个第二螺孔,各所述第二螺孔与各所述第一螺孔分别一一对齐,所述第二螺孔和所述第一螺孔内螺接一螺接件;
所述坩埚本体和所述盖体中的其中一个凸起设置有至少一个凸起部,所述坩埚本体和所述盖体中的另一个开设有至少一个凹槽,每一所述凸起部插设于一所述凹槽内,且所述凸起部与所述凹槽具有相互匹配的截面形状。
2.根据权利要求1所述的坩埚,其特征在于,所述凸起部与所述凹槽具有相互相同的截面形状。
3.根据权利要求1所述的坩埚,其特征在于,所述凸起部具有梯形截面。
4.根据权利要求1所述的坩埚,其特征在于,所述凸起部具有三角形截面。
5.根据权利要求1所述的坩埚,其特征在于,所述凹槽具有梯形截面。
6.根据权利要求1所述的坩埚,其特征在于,所述凹槽具有三角形截面。
7.根据权利要求1所述的坩埚,其特征在于,所述凸起部凸起设置于所述盖体朝向所述坩埚本体的一面。
8.根据权利要求7所述的坩埚,其特征在于,所述凸起部凸起设置于所述盖体的两侧。
9.根据权利要求1所述的坩埚,其特征在于,所述凸起部的数量为四个。
10.根据权利要求1所述的坩埚,其特征在于,各所述凸起部凸起高度相异设置。
Priority Applications (1)
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CN201721602078.6U CN207552432U (zh) | 2017-11-24 | 2017-11-24 | 坩埚 |
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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CN111676453A (zh) * | 2020-07-30 | 2020-09-18 | 京东方科技集团股份有限公司 | 蒸镀坩埚 |
CN114657634A (zh) * | 2022-03-16 | 2022-06-24 | 齐鲁工业大学 | 一种用于制备氮化铝预制料的坩埚装置 |
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2017
- 2017-11-24 CN CN201721602078.6U patent/CN207552432U/zh active Active
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