CN207331058U - 一种镀膜装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型涉及金属镀膜技术领域，公开了一种镀膜装置，以改善基板在镀膜时受热不均的现象，提高镀膜品质。镀膜装置包括镀膜腔室以及设置于所述镀膜腔室内的基板支撑结构、加热装置和驱动装置，其中：所述基板支撑结构包括多个支撑单元；所述加热装置包括具有多个通孔的加热板体以及对应每个通孔设置的加热填充部，所述多个通孔与所述多个支撑单元一一对应套装，所述加热填充部位于所述支撑单元内，所述加热填充部通过滑动装配于所述支撑单元的连接部与所述通孔内壁连接；所述驱动装置用于驱动所述加热装置沿支撑方向运动。
Description
技术领域
本实用新型涉及金属镀膜技术领域，特别是涉及一种镀膜装置。
背景技术
在显示装置的制作过程中，通常采用CVD(Chemical Vapor Deposition，化学气相沉积法)工艺制作TFT(Thin Film Transistor，薄膜晶体管)的半导体有源层。CVD工艺是一种利用含有薄膜材料的混合气体，在加热后的基板表面进行化学反应，析出并生成薄膜的方法。CVD工艺通常包括PECVD(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition，等离子体增强化学的气相沉积法)、APCVD(Atmospheric Pressure Chemical Vapor Deposition，常压化学气相淀积)、LPCVD(Low Pressure Chemical Vapor Deposition，低压力化学气相沉积法)等。
随着显示技术的飞速发展，消费者对显示装置的品质要求也越来越高。因此，基板的镀膜品质成为业内关注和研究的问题。
实用新型内容
本实用新型实施例提供一种镀膜装置，以改善基板在镀膜时受热不均的现象，提高镀膜品质。
本实用新型实施例提供了一种镀膜装置，包括镀膜腔室以及设置于所述镀膜腔室内的基板支撑结构、加热装置和驱动装置，其中：
所述基板支撑结构包括多个支撑单元；
所述加热装置包括具有多个通孔的加热板体以及对应每个通孔设置的加热填充部，所述多个通孔与所述多个支撑单元一一对应套装，所述加热填充部位于所述支撑单元内，所述加热填充部通过滑动装配于所述支撑单元的连接部与所述通孔内壁连接；
所述驱动装置用于驱动所述加热装置沿支撑方向运动。
较佳的，所述加热板体和所述加热填充部靠近基板的一侧表面位于同一平面内。这样，加热板体和加热填充部均与基板接触并对基板进行加热，使基板在镀膜时受热更加均匀。
较佳的，每个支撑单元包括至少两个支撑杆，所述至少两个支撑杆沿所对应通孔的周向均匀分布。采用该结构设计，加热填充部位于支撑单元内，从而进一步增加了加热装置与基板的接触面积，使基板在镀膜时受热更加均匀；此外，加热板体和加热填充部对支撑单元同时加热，支撑单元的内外两侧同步受热，从而提高了支撑单元的温度均一性，进而使基板在镀膜时受热更加均匀。
较佳的，每个支撑单元具有沿支撑方向开设的导向槽，所述连接部滑动装配于所述导向槽内。
优选的，所述支撑单元为支撑筒。
较佳的，对应每个通孔，所述连接部为至少两个，且沿所述通孔的周向均匀分布。
可选的，所述加热装置包括电阻式加热装置、红外加热装置或激光加热装置。
可选的，所述加热填充部垂直于支撑方向的截面形状包括圆形或多边形。
可选的，所述基板支撑结构包括陶瓷基板支撑结构或铝基板支撑结构。
可选的，所述驱动装置包括步进电机或伺服电机。
本实用新型实施例提供的镀膜装置，基板支撑结构用于支撑基板；在镀膜时，驱动装置驱动加热装置沿支撑方向移动，使加热装置与基板接触并对基板进行加热，相比现有技术，加热装置的加热板体和加热填充部可以同时对基板进行加热，从而改善了基板在镀膜时受热不均的现象，提高了镀膜品质。
附图说明
图1为现有技术中加热装置的结构示意图；
图2为现有技术中加热基座的俯视图；
图3为本实用新型实施例镀膜装置的结构示意图；
图4为本实用新型实施例加热装置的俯视图；
图5为图4中A-A截面示意图；
图6为本实用新型一实施例支撑结构的结构示意图；
图7为本实用新型另一实施例支撑结构的结构示意图。
附图标记：
现有技术部分：
01-镀膜腔室；02-加热装置；03-进料口；04-排气口；05-底座；
06-加热基座；07-支柱；08-通孔；
本实用新型部分：
11-镀膜腔室；12-基板支撑结构；13-加热装置；14-支撑单元；
15-导向槽；16-通孔；17-加热板体；18-加热填充部；19-连接部；
20-进料口；21-排气口；22-支撑杆。
具体实施方式
如图1和图2所示，现有一种PECVD镀膜装置，包括镀膜腔室01，以及设置于镀膜腔室01内的加热装置02，其中：镀膜腔室01具有进料口03和排气口04；加热装置02包括底座05、加热基座06和支柱07，加热基座06具有对应支柱07设置的通孔08且加热基座06能够相对底座05上下移动，支柱07位于通孔08内且伸出通孔08与底座05固定连接。在镀膜之前，加热基座06下降，机械手将基板放置于立柱07上；在基板镀膜时，加热基座06需要上升至与基板接触并对基板进行加热，混合气体从进料口03进入，并在加热的基板表面生成薄膜；基板镀膜完成后，加热基座06下降，机械手从立柱07上将基板移出镀膜腔室01。
发明人发现上述镀膜装置在基板镀膜过程中，由于支柱07的顶部与基板接触，加热基座06无法对基板与立柱07接触的部分进行加热，导致基板受热不均，从而使镀膜品质欠佳。
为了改善基板在镀膜时受热不均的现象，提高镀膜品质，本实用新型实施例提供了一种镀膜装置。为使本实用新型的目的、技术方案和优点更加清楚，以下举实施例对本实用新型作进一步详细说明。
如图3和图4所示，本实用新型实施例提供了一种镀膜装置，包括镀膜腔室11以及设置于镀膜腔室11内的基板支撑结构12、加热装置13和驱动装置(图中未示出)，其中：
基板支撑结构12包括多个支撑单元14；
加热装置13包括具有多个通孔16的加热板体17以及对应每个通孔16设置的加热填充部18，前述多个通孔16与前述多个支撑单元14一一对应套装，加热填充部18位于支撑单元14内，加热填充部18通过滑动装配于支撑单元14的连接部19与通孔16内壁连接；
驱动装置用于驱动加热装置14沿支撑方向运动。
本实用新型实施例提供的镀膜装置，基板支撑结构12用于支撑基板；在镀膜时，驱动装置驱动加热装置13沿支撑方向移动，使加热装置13与基板接触并对基板进行加热，相比现有技术，加热装置13的加热板体17和加热填充部18可以同时对基板进行加热，从而改善了基板在镀膜时受热不均的现象，提高了镀膜品质。
请继续参照图3和图4所示，镀膜装置还包括位于镀膜腔室11顶部的进料口20和位于镀膜腔室11底部的排气口21。在镀膜前，加热装置13位于初始位置，基板支撑结构12的顶部伸出加热板体17的通孔16，机械手通过基板支撑结构12之间的间隙将基板放置于基板支撑结构12上；在镀膜时，加热装置13移动至与基板接触，加热板体17和加热填充部18同时对基板进行加热，混合气体进入镀膜腔室11后在加热的基板表面发生化学反应，析出并在基板表面生成薄膜；镀膜完成后，加热装置13移动到初始位置，镀膜后的基板位于基板支撑结构12的顶端，机械手将镀膜后的基板移出镀膜装置。
如图5所示，加热板体17和加热填充部19靠近基板的一侧表面位于同一平面内。这样，加热板体17和加热填充部19均与基板接触并对基板进行加热，使基板在镀膜时受热更加均匀。
如图6所示，在本实用新型的实施例中，较佳的，每个支撑单元14包括至少两个支撑杆22，前述至少两个支撑杆22沿所对应通孔16的周向均匀分布。采用该结构设计，加热填充部18位于支撑单元14内，从而进一步增加了加热装置13与基板的接触面积，使基板在镀膜时受热更加均匀；此外，加热板体17和加热填充部18对支撑单元14同时加热，支撑单元14的内外两侧同步受热，从而提高了支撑单元14的温度均一性，进而使基板在镀膜时受热更加均匀。
如图7所示，每个支撑单元14具有沿支撑方向开设的导向槽15，连接部滑动装配于导向槽15内。在本实用新型的优选实施例中，支撑单元14为支撑筒。
在本实用新型的优选实施例中，对应每个通孔，连接部为至少两个，且沿通孔的周向均匀分布。支撑单元为支撑筒，支撑筒的侧壁具有分别与前述至少两个连接部滑动装配的导向槽。
在本实用新型的实施例中，基板支撑结构的具体类型不限，例如可以为陶瓷基板支撑结构或铝基板支撑结构。
在本实用新型的实施例中，加热装置的具体类型不限，例如可以为电阻式加热装置、红外加热装置或激光加热装置。在本实用新型的一实施例中，加热装置为电阻式加热装置，在镀膜过程中，加热装置的电阻元件通电并产生热量，加热板体和加热填充部与基板接触，通过热传递对基板进行加热。
在本实用新型的实施例中，加热填充部垂直于支撑方向的截面形状不限，例如可以为圆形或多边形。
在本实施例中，驱动装置的具体类型不限，例如可以为步进电机或伺服电机。
显然，本领域的技术人员可以对本实用新型进行各种改动和变型而不脱离本实用新型的精神和范围。这样，倘若本实用新型的这些修改和变型属于本实用新型权利要求及其等同技术的范围之内，则本实用新型也意图包含这些改动和变型在内。
Claims (10)
1.一种镀膜装置，其特征在于，包括镀膜腔室以及设置于所述镀膜腔室内的基板支撑结构、加热装置和驱动装置，其中：
所述基板支撑结构包括多个支撑单元；
所述加热装置包括具有多个通孔的加热板体以及对应每个通孔设置的加热填充部，所述多个通孔与所述多个支撑单元一一对应套装，所述加热填充部位于所述支撑单元内，所述加热填充部通过滑动装配于所述支撑单元的连接部与所述通孔内壁连接；
所述驱动装置用于驱动所述加热装置沿支撑方向运动。
2.如权利要求1所述的镀膜装置，其特征在于，所述加热板体和所述加热填充部靠近基板的一侧表面位于同一平面内。
3.如权利要求1所述的镀膜装置，其特征在于，每个支撑单元包括至少两个支撑杆，所述至少两个支撑杆沿所对应通孔的周向均匀分布。
4.如权利要求1所述的镀膜装置，其特征在于，每个支撑单元具有沿支撑方向开设的导向槽，所述连接部滑动装配于所述导向槽内。
5.如权利要求4所述的镀膜装置，其特征在于，所述支撑单元为支撑筒。
6.如权利要求5所述的镀膜装置，其特征在于，对应每个通孔，所述连接部为至少两个，且沿所述通孔的周向均匀分布。
7.如权利要求1所述的镀膜装置，其特征在于，所述加热装置包括电阻式加热装置、红外加热装置或激光加热装置。
8.如权利要求1所述的镀膜装置，其特征在于，所述加热填充部垂直于支撑方向的截面形状包括圆形或多边形。
9.如权利要求1所述的镀膜装置，其特征在于，所述基板支撑结构包括陶瓷基板支撑结构或铝基板支撑结构。
10.如权利要求1所述的镀膜装置，其特征在于，所述驱动装置包括步进电机或伺服电机。
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