CN207320121U - 显示基板和显示面板 - Google Patents

Abstract

一种显示基板和显示面板。该显示基板包括衬底以及设置于所述衬底上的像素界定层，所述像素界定层包括多个子像素区域，且在每个所述子像素区域中设置有至少一个由所述像素界定层围设而成的储槽，其中，在相对于所述衬底的同一高度处，在所述储槽的长度方向上，所述储槽的端部与所述储槽的两个端部之间的部分对待存储材料的润湿能力不同。上述储槽可以提升待储存材料的平坦度，提高显示基板的良率。

Description

显示基板和显示面板

技术领域

本实用新型至少一个实施例涉及一种显示基板和显示面板。

背景技术

有机发光二极管(Organic Light-Emitting Diode,OLED)具有自发光、广视角、高对比度、低耗电、反应速度高等优点，所以OLED显示产品越来越受到用户的青睐。

在实际工艺中，在制备OLED中的用于发光的结构层时，需要设置储槽来储存包括相应材料的墨水，然后对墨水进行干燥以得到相应的结构层。但是，对于当前的储槽结构，在对墨水的干燥过程中，形成的结构层的平坦度较差，会影响有机发光器件的性能，并且导致OLED产品的显示不良。

发明内容

本公开至少一个实施例提供一种显示基板，其特征在于，包括衬底；像素界定层，设置于所述衬底上，所述像素界定层包括多个子像素区域，且在每个所述子像素区域中设置有至少一个由所述像素界定层围设而成的储槽，其中，在相对于所述衬底的同一高度处，在所述储槽的长度方向上，所述储槽的端部与所述储槽的两个所述端部之间的部分对待存储材料的润湿能力不同。

例如，在本公开至少一个实施例提供的显示基板中，其特征在于，在所述储槽的长度方向上，在相对于所述衬底的同一高度处，所述储槽的所述端部的对待存储材料的润湿能力大于在所述储槽的两个所述端部之间的部分的对待存储材料的润湿能力。

例如，在本公开至少一个实施例提供的显示基板中，其特征在于，在所述储槽的长度方向上，从所述储槽的所述端部至所述储槽的位于两个所述端部之间的中心的方向上，在相对于所述衬底的同一高度处，所述润湿能力逐渐减小。

例如，在本公开至少一个实施例提供的显示基板中，其特征在于，在所述储槽的长度方向上，所述储槽的端部的高度大于所述储槽的位于两个所述端部之间的部分的高度。

例如，在本公开至少一个实施例提供的显示基板中，其特征在于，在所述储槽的长度方向上，从所述储槽的所述端部至所述储槽的位于两个所述端部之间的中心的方向上，所述储槽的高度逐渐减小。

例如，在本公开至少一个实施例提供的显示基板中，其特征在于，所述储槽的平面形状为矩形，所述储槽包括两个相对长边侧壁以及两个相对的短边侧壁，所述储槽的在所述长度方向上的所述端部包括所述短边侧壁；或者包括所述短边侧壁以及所述长边侧壁与所述短边侧壁相接的部分。

例如，在本公开至少一个实施例提供的显示基板中，其特征在于，在相对于所述衬底的同一高度处，所述短边侧壁的两端对待存储材料的润湿能力小于所述短边侧壁的位于两端之间的部分对待存储材料的润湿能力。

例如，在本公开至少一个实施例提供的显示基板中，其特征在于，从所述短边侧壁的两端至短边侧壁的位于两端之间的部分的方向上，所述储槽的高度逐渐增加。

例如，在本公开至少一个实施例提供的显示基板中，其特征在于，所述长边侧壁的侧表面的坡度角大于所述短边侧壁的侧表面的坡度角。

例如，在本公开至少一个实施例提供的显示基板中，其特征在于，所述储槽的平面形状为椭圆形，所述椭圆形包括两个彼此相接且相对的长边侧壁，所述储槽的在所述长度方向上的所述端部包括所述两个长边侧壁的位于所述长度方向上的端部。

例如，在本公开至少一个实施例提供的显示基板中，其特征在于，在所述储槽的长度方向上，在相对于所述衬底的同一高度处，所述储槽的所述端部的对待存储材料的润湿能力小于在所述储槽的两个所述端部之间的部分的对待存储材料的润湿能力。

例如，在本公开至少一个实施例提供的显示基板中，其特征在于，在所述储槽的长度方向上，从所述储槽的所述端部至所述储槽的位于两个所述端部之间的中心的方向上，在相对于所述衬底的同一高度处，所述润湿能力逐渐增加。

例如，在本公开至少一个实施例提供的显示基板中，其特征在于，在所述储槽的长度方向上，所述储槽的端部的高度小于所述储槽的位于两个所述端部之间的部分的高度。

例如，在本公开至少一个实施例提供的显示基板中，其特征在于，在所述储槽的长度方向上，从所述储槽的所述端部至所述储槽的位于两个所述端部之间的中心的方向上，所述储槽的高度逐渐增加。

本公开至少一个实施例提供一种显示面板，其特征在于，包括上述任一实施例中的显示基板。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例的技术方案，下面将对实施例的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅涉及本实用新型的一些实施例，而非对本实用新型的限制。

图1A为一种设置有储存材料的储槽的平面图；

图1B为图1A所示储槽沿A-B的截面图；

图2为本公开一个实施例提供的一种显示基板的平面图；

图3为图2所示显示基板的一个子像素区域的平面图；

图4A为图3所示显示基板中一种储槽的立体图；

图4B为图3所示显示基板中一种储槽的侧视图；

图4C为图3所示显示基板中一种储槽的主视图；

图4D为图3所示显示基板中一种储槽的一种截面图；

图4E为图3所示显示基板中一种储槽的另一种截面图；

图4F为图3所示显示基板中一种储槽的另一种截面图；

图5A为图3所示显示基板中另一种储槽的主视图；

图5B为图3所示显示基板中另一种储槽的侧视图；

图5C为图3所示显示基板中另一种储槽的一种截面图；

图5D为图3所示显示基板中另一种储槽的另一种截面图；

图6为本公开一个实施例提供的显示基板中另一种子像素区域的平面图；

图7A为图6所示显示基板中一种储槽的主视图；

图7B为图6所示显示基板中一种储槽的侧视图；

图8A为图6所示显示基板中另一种储槽的主视图；

图8B为图6所示显示基板中另一种储槽的侧视图；以及

图9为本公开一个实施例提供的一种显示基板的局部结构示意图。

附图标记：

1-像素界定层；2-储槽；3-结构层；100-衬底；200-像素界定层；210-子像素区域；300-储槽；310-长边侧壁；320-短边侧壁；400-有机发光器件；410-第一电极；420-发光层；430-第二电极；500-薄膜晶体管。

具体实施方式

为使本实用新型实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本实用新型实施例的附图，对本实用新型实施例的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例是本实用新型的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于所描述的本实用新型的实施例，本领域普通技术人员在无需创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

除非另外定义，本实用新型使用的技术术语或者科学术语应当为本实用新型所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。本实用新型中使用的“第一”、“第二”以及类似的词语并不表示任何顺序、数量或者重要性，而只是用来区分不同的组成部分。“包括”或者“包含”等类似的词语意指出现该词前面的元件或者物件涵盖出现在该词后面列举的元件或者物件及其等同，而不排除其他元件或者物件。“连接”或者“相连”等类似的词语并非限定于物理的或者机械的连接，而是可以包括电性的连接，不管是直接的还是间接的。“上”、“下”、“左”、“右”等仅用于表示相对位置关系，当被描述对象的绝对位置改变后，则该相对位置关系也可能相应地改变。

在有机发光二极体(OLED)的制备过程中，通常使用喷墨打印的方法制备OLED中的部分结构。示例性的，可以在像素界定层中设置储槽，然后将墨水(包括可以形成OLED中的部分结构层的材料)滴入储槽中，干燥后得到OLED中相应的结构层。

但是在实际工艺中，受显示产品的设计结构例如开口率等的影响，储槽的形状通常设计为矩形，如此，墨水在矩形储槽的长边和短边的界面分布不同，相应的，墨水在储槽的长边和短边处的干燥过程也不相同。此外，在墨水的干燥过程中，会受到其它多种因素例如真空度、温度、时间、材质(例如墨水中不同材料的性质)以及其它工艺条件等的综合影响，使得形成的结构层的平坦度差，而且该结构层的平坦度差异的大小在矩形储槽的长度方向和宽度方向上也不相同。

图1A为一种设置有储存材料的储槽的平面图，图1B为图1A所示储槽沿A-B的截面图。例如图1A和图1B所示，像素界定层1限定储槽2的形状，储槽2中形成有结构层3。通常，像素界定层1的表层通常具有疏液性质(参考图1B中的F区域)，像素界定层1的其它部分具有亲液性质，如此可以将墨水吸附在储槽2中。在制备结构层3的过程中，先在储槽2中滴入墨水，墨水为混合液体，例如包括溶剂和溶质(溶质可以形成结构层3)，溶质和溶剂的性质例如流动性等存在差异，在整个干燥过程中，导致溶质分布不均，导致结构层3的平坦度差。

在干燥过程中，随着溶剂的挥发，墨水的粘度增大，表面张力变小，墨水在储槽2的边缘会向上攀爬，使得储槽2的边缘位置处的溶剂的挥发速度大于中心区域，并且使得储槽2中的墨水流动。如果溶质的流动性良好，则在干燥过程中，大量的溶质会随着溶剂向储槽2的边缘流动，在干燥过程结束后，溶质主要分布于储槽2的边缘区域，使得结构层3平面形状为凹型。相应的，如果溶质的流动性差，在干燥过程中，靠近储槽边缘的溶质会在溶剂流动的带动下沿着储槽的边缘向上攀爬，而靠近储槽的中心区域的溶质会大量滞留，如图1B所示，使得结构层3的位于C区域中的主体部分的平面形状为凸型。结构层3的上述平坦度差异(例如凹型或者凸型)会导致OLED结构不良。而且，因为前述的多种工艺因素的影响，形成的结构层3的平坦度差异可能主要体现在储槽2的长度方向上，也可能体现在储槽2的宽度方向上。

本公开至少一个实施例提供一种显示基板及其制备方法、显示面板。该显示基板包括：衬底；像素界定层，设置于衬底上，像素界定层包括多个子像素区域，且在每个子像素区域中设置有至少一个由像素界定层围设而成的储槽，在相对于衬底的同一高度处，在储槽的长度方向上，储槽的端部与储槽的两个端部之间的部分对待存储材料的润湿能力不同。在同一水平面上，储槽各部分对待存储材料的润湿能力不同，可以针对储存材料在干燥过程中的分布情况对储槽的各区域的润湿能力的分布进行设计，对储存材料在干燥过程中的界面进行控制，提高由储存材料形成的结构层的平坦度，进一步提高显示基板的良率。

下面，结合附图对根据本公开至少一个实施例的显示基板和显示面板进行说明。

在本公开至少一个实施例中，图2为本公开一个实施例提供的一种显示基板的平面图，图3为图2所示显示基板的一个子像素区域的平面图。如图2和图3所示，显示基板可以包括衬底100和设置在衬底100上的像素界定层200，像素界定层200可以包括多个子像素区域210，每个子像素区域210中设置有至少一个由像素界定层200围设而成的储槽300，在相对于衬底100的同一高度处(例如平行于衬底100所在面的同一平面上)，在储槽300的长度方向上，储槽300的端部与储槽300的两个端部(例如下图3所示的两个相对的端部E1和E2)之间的部分对待存储材料的润湿能力不同。

由储存材料形成的结构层的平坦度差异的分布与储槽的形状有关。在本公开的实施例中，对储槽300的平面形状不做限制。

例如，在本公开至少一个实施例中，储槽的平面形状可以为矩形，储槽包括两个相对长边侧壁以及两个相对的短边侧壁，储槽的在长度方向上的端部包括短边侧壁；或者包括短边侧壁以及长边侧壁的与短边侧壁相接的部分。在本公开的实施例中，对该长边侧壁的与短边侧壁相接的部分的长度不做限制。例如，该长边侧壁的与短边侧壁相接的部分的长度可以占长边侧壁一半的例如，1/2、1/3或者1/5，可以是0～1/2范围内的任意数值。示例性的，如图3所示，矩形的储槽300包括两个相对的长边侧壁310以及两个相对的短边侧壁320，储槽300的在长度方向上的端部包括短边侧壁320，或者储槽300的在长度方向上的端部包括短边侧壁320以及长边侧壁310的与短边侧壁320相接的部分(例如图3中的虚线框E1和E2中的储槽的部分)。下面，以储槽300的平面形状为矩形为例，对本公开下述实施例中的技术方案进行说明。

下面，建立三维坐标系以对储槽300的具体化形状以及显示基板中的各个结构的位置等进行方向性指定。在本公开的实施例中，两个长边侧壁310的整体延伸方向设为储槽300的长度方向，与该长度方向垂直的方向为储槽300的宽度方向。三维坐标系中，X轴的方向为储槽的宽度方向，Y轴的方向为储槽的长度方向，Z轴的方向(图中未示出，参考图4B)为垂直于衬底100所在面的方向。

在实际工艺过程中，由储存材料形成的结构层的平坦度差异(例如平面形状为凸型或者凹型)可以主要沿着X轴方向(储槽300的宽度方向)分布，或者也可以主要沿着Y轴方向(储槽300的长度方向)分布，也就是，在X轴方向平坦度差异较大，或者在Y轴方向平坦度差异较大。所以，在本公开的一些实施例中，对于在X轴方向平坦度差异较大的情况，储槽300可以设置为主要降低由储存材料形成的结构层在X轴方向的平坦度差异；在本公开的另一些实施例中，对于在Y轴方向平坦度差异较大的情况，储槽300可以设置为主要降低由储存材料形成的结构层在Y轴方向的平坦度差异。

下面，根据上述储槽300的不同设置方式，在本公开的下述实施例中分别进行说明。

例如，在本公开至少一个实施例中，储槽300设置为主要降低储存材料在Y轴方向的平坦度差异，图4A为图3所示显示基板中一种储槽的立体图，图4B为图3所示显示基板中一种储槽的侧视图，图4C为图3所示显示基板中一种储槽的主视图。

例如，在本公开至少一个实施例中，在储槽的长度方向上，在相对于衬底的同一高度处，储槽的端部的对待存储材料的润湿能力大于在储槽的两个端部之间的部分的对待存储材料的润湿能力。本公开的实施例对储槽中的不同部分间的润湿能力的变化关系不做限制，例如，润湿能力的分布可以是渐变式的。例如，在本公开至少一个实施例中，在储槽的长度方向上，从储槽的端部至储槽的位于两个端部之间的中心的方向上，在相对于衬底的同一高度处，润湿能力逐渐减小。示例性的，如图4A～图4C所示，从短边侧壁320(或者短边侧壁320以及长边侧壁310的与短边侧壁320相接的部分)至长边侧壁310的中心的方向上，在相对于衬底100的同一高度处，储槽300对待储存材料的润湿能力逐渐减小。上述结构的储槽300可以减少储存材料在长边侧壁310的中间区域(长边侧壁310的两个端部之间的区域)的例如攀爬能力，从而在储存材料的蒸发干燥过程中，可以降低储存材料向长边侧壁310的中间区域处的流动量，如此，可以提高储存材料在Y轴的方向上的分布的均匀度，最终提高由储存材料形成的结构的平坦度。

备选地，润湿能力的分布可以不是渐变式的，只要储槽的端部的对待存储材料的润湿能力大于在储槽的两个端部之间的部分的对待存储材料的润湿能力即可，本公开的实施例不对此进行限制，可以是储槽的两个端部之间的部分润湿能力相同，或者部分相同、部分不同。

在本公开的实施例中，对实现如4A～图4C所示的储槽300的结构的方式不做限制。下面，在本公开的几个实施例中，提供几种可以实现上述储槽300的结构的技术方案。

例如，在本公开至少一个实施例中，在储槽的长度方向上，储槽的端部的高度大于储槽的位于两个端部之间的部分的高度。示例性的，如图4B所示，短边侧壁320的高度大于长边侧壁310的高度(不考虑长边侧壁310和短边侧壁320相接的共有边界)；或者短边侧壁320以及长边侧壁310的与短边侧壁320相接的部分的高度大于储槽300的长边侧壁310的其余部分的高度；或者长边侧壁310的端部以及短边侧壁320的高度大于长边侧壁310的其余部分的高度。

例如，在本公开至少一个实施例中，在储槽的长度方向上，从储槽的端部至储槽的位于两个端部之间的部分的中心的方向上，在相对于衬底的同一高度处，储槽的疏液性逐渐增加。示例性的，如图4B所示，在相对于衬底100的同一高度处，长边侧壁310的疏液性大于短边侧壁320的疏液性；或者长边侧壁310的中间部分的疏液性大于短边侧壁320以及长边侧壁310的端部的疏液性。

在实际工艺中，在像素界定层200中形成如图4B所示的形状(例如矩形)的储槽300后，对像素界定层200进行处理，以使得像素界定层200的远离衬底100的一侧具有疏液性，像素界定层200的靠近衬底100的一侧具有亲液性。像素界定层200中的亲液性和疏液性之间可以没有明确的界限，随着至衬底100的距离增加，像素界定层200可以由亲液性到疏液性渐变。因为长边侧壁310的端部的高度大于两个端部之间的部分的高度，所以在相对于衬底100的同一高度处，储槽300对储存材料的疏液性也从端部至两个端部之间的中心的方向上逐渐增加。需要说明的是，疏液性和亲液性是相对储存材料而言的。示例性的，疏液性从长边侧壁310的端部至两个端部之间的中心的方向上逐渐增加，也相当于亲液性从长边侧壁310的端部至两个端部之间的中心的方向上逐渐减小。

在本公开的实施例中，对储槽300的高度最小的区域(例如长边侧壁310的远离衬底的边缘中，距离衬底100的距离最小的部分)的位置不做限制，该位置可以位于长边侧壁310的两个端部之间的任何区域。

例如，在本公开至少一个实施例中，在储槽的长度方向上，从储槽的端部至储槽的位于两个端部之间的中心的方向上，储槽的侧壁的高度逐渐减小。示例性的，如图4B所示，对于每个长边侧壁310，从长边侧壁310的端部至两个端部之间的中心的方向上，储槽的侧壁的高度逐渐减小，即储槽300的高度最小的部分可以位于长边侧壁310的中心。

本公开的实施例对像素界定层200的远离衬底100的部分(例如像素界定层200的表面)具有疏液性的具体实施方式不做限制，可以参考下述实施例(关于显示基板的制备方法的实施例)中的具体内容，本公开的实施例在此不做赘述。

例如，在本公开至少一个实施例中，储槽还包括与长度方向垂直的宽度方向(例如平行于X轴的方向)，例如，储槽的短边侧壁的延伸方向可以平行于该宽度方向。例如，在本公开至少一个实施例中，在相对于衬底的同一高度处，短边侧壁的两端对待存储材料的润湿能力小于短边侧壁的位于两端之间的部分对待存储材料的润湿能力。示例性的，如图4C所示，在平行于X轴的方向上，从短边侧壁320的端部至短边侧壁320的中间部分(例如中心)的方向上，在相对于衬底100的同一高度处，储槽300对储存材料的润湿能力逐渐增加。如此，可以进一步降低储存材料在靠近长边侧壁310的区域的例如攀爬能力，从而在干燥过程中，可以进一步降低储存材料向长边侧壁310处的流动量，提高储存材料在Y轴的方向上的分布的均匀度，并且提高由储存材料形成的结构的平坦度。

在本公开的实施例中，如图4C所示的短边侧壁320的润湿能力的分布的实现方法，可以参考如图4B所示的关于长边侧壁310的方案的相关说明，本公开的实施例在此不做赘述。

例如，在本公开至少一个实施例中，从短边侧壁的两端至短边侧壁的位于两端之间的部分的方向上，储槽的高度逐渐增加。示例性的，如图4C所示，对于每个短边侧壁320，从短边侧壁320的端部到短边侧壁320的中心的方向上，短边侧壁320的高度逐渐增加。例如，在本公开至少一个实施例中，从短边侧壁的两端至短边侧壁的位于两端之间的部分的方向上，在相对于衬底的同一高度处，储槽的疏液性逐渐减小。示例性的，如图4C所示，对于每个短边侧壁320，从短边侧壁320的端部到短边侧壁320的中心的方向上，在相对于衬底100的同一高度处，疏液性逐渐减小。

例如，在本公开至少一个实施例中，长边侧壁的侧表面的坡度角大于短边侧壁的侧表面的坡度角。图4D为图3所示显示基板中一种储槽的一种截面图，其为储槽300的沿宽度方向的截面图；图4E为图3所示显示基板中一种储槽的另一种截面图，其为储槽300沿长度方向的截面图。示例性的，长边侧壁310的坡度角(长边侧壁310处的侧表面的坡度角)小于短边侧壁320的坡度角(短边侧壁320处的侧表面的坡度角)，即短边侧壁320比长边侧壁310更陡。例如图4D和图4E所示，长边侧壁310的坡度角Q1为长边侧壁310所在面与衬底100所在面的夹角，短边侧壁320的坡度角Q2为短边侧壁320所在面与衬底100所在面的夹角。与短边侧壁320相比，长边侧壁310的坡度角更小，使得储存材料在长边侧壁310上的例如攀爬能力弱于在短边侧壁320上的例如攀爬能力，可以进一步降低储存材料向长边侧壁310处的流动量，可以提高由储存材料形成的结构的平坦度。

本公开的实施例对储槽的长边侧壁310的坡度角Q1和储槽的短边侧壁320的坡度角Q2之间的差异程度不做限制，可以根据实际需要进行设计。例如，在本公开至少一个实施例中，储槽300的长边侧壁310的坡度角Q1和储槽300的短边侧壁320的坡度角Q2之间的差异不小于15度。示例性的，在如图4D和图4E所示的储槽结构中，短边侧壁320的坡度角Q2减去长边侧壁310的坡度角Q1的值不小于15度。

需要说明的是，在本公开的实施例中，储槽300的长边侧壁310和短边侧壁320的坡度角的形成方式不做限制，而且长边侧壁310和短边侧壁320的表面不限于如图4B～图4E所示的为平面，也可以为弧面等。

图4F为图3所示显示基板中一种储槽的另一种截面图。例如图4F所示，像素界定层200中的储槽300通常通过掩模板进行光刻构图工艺形成，例如，掩模板中的掩模图案可以对应于储槽300所在的位置。但是，在曝光过程中，在掩模图案的边缘区域(对应于图4F中的L1区域)，用于进行曝光的光线会产生干涉或者散射等现象，导致L1区域的光阻材料曝光不均匀，导致储槽300的侧表面例如长边侧壁310为斜面，而且在实际工艺中，该斜面通常为弧形面。光线在L1区域产生散射或者干涉的程度与掩模图案和掩模图案周边区域(例如对应于L2区域)的透光度的差异有关。掩模图案和掩模图案周边区域的透光度的差异越大，形成的该斜面(例如长边侧壁310或短边侧壁320)的坡度越陡，可以据此形成具有不同坡度角的斜面例如长边侧壁310或短边侧壁320，而且可以使得长边侧壁310或短边侧壁320的不同部分具有不同的坡度角。在本公开的实施例中，可以使用例如半掩模工艺对像素界定层进行光刻构图工艺处理，以形成具有不同形状的储槽结构，与当前的储槽的制备工艺相比，不会增加显示基板的制备工艺流程。

例如，在本公开的实施例中，光刻构图工艺例如可以包括：在需要被构图的结构层上涂覆光刻胶层，使用掩模板对光刻胶层进行曝光，对曝光的光刻胶层进行显影以得到光刻胶图案，使用光刻胶图案对结构层进行蚀刻，然后可选地去除光刻胶图案。

需要说明的是，在本公开的实施例中，对像素界定层200的制备材料不做限制。例如，在本公开的一些实施例中，像素界定层200可以为绝缘材料，在像素界定层200中形成储槽300的光刻构图工艺可以参考前述实施例中的内容，在此不做赘述。例如，在本公开的另一些实施例中，像素界定层200的制备材料还可以为光阻材料(光刻胶)，在像素界定层200中形成储槽300的光刻构图工艺可以包括：在衬底100上涂覆光刻胶层，使用掩模板对光刻胶层进行曝光，对曝光的光刻胶层进行显影以得到设置有储槽300的像素界定层200。

在本公开的实施例中，对储槽300的侧表面例如长边侧壁310在衬底100上的投影(对应于图4F中的L1区域)宽度不做限制。例如，长边侧壁310或短边侧壁320在衬底100上的投影的宽度可以约为1～15微米，进一步可以约为3微米。

在本公开的如图4A～图4F所示的实施例中，对长边侧壁310和短边侧壁320之间的高度变化的关系(短边侧壁320的整体高度大于长边侧壁310的整体高度)不做限制。例如，长边侧壁310和短边侧壁320之间的高度变化关系可以为渐变式的。示例性的，从短边侧壁320的中心至长边侧壁310的中心，储槽300的远离衬底100的边缘的高度平滑减小。

在本公开的实施例中，对储槽300的位于宽度方向上的两个端部(例如长边侧壁310)和储槽300的位于长度方向上的两个端部(例如短边侧壁320)的高度差不做限制。例如，在本公开至少一个实施例中，如图4F所示，长边侧壁310的与所述短边侧壁320的高度差的最大值不小于约0.5微米。示例性的，以如图4A～图4F所示的储槽结构为例，短边侧壁320的最大高度(例如短边侧壁320的中心处的高度)与长边侧壁310的最小高度(例如长边侧壁310的中心处的高度)的差值不小于约0.5微米。

例如，在本公开至少一个实施例中，储槽300设置为主要降低储存材料在X轴方向的平坦度差异，图5A为图3所示显示基板中另一种储槽的主视图；图5B为图3所示显示基板中另一种储槽的侧视图。

例如，在本公开至少一个实施例中，在储槽的长度方向上，在相对于衬底的同一高度处，储槽的端部的对待存储材料的润湿能力小于在储槽的两个端部之间的部分的对待存储材料的润湿能力。本公开的实施例对储槽中的不同部分间的润湿能力的变化关系不做限制，例如，润湿能力的分布可以是渐变式的。例如，在本公开至少一个实施例中，在储槽的长度方向上，从储槽的端部至储槽的位于两个端部之间的中心的方向上，在相对于衬底的同一高度处，储槽的润湿能力逐渐增加。示例性的，如图5A和图5B所示，从短边侧壁320(或者短边侧壁320以及长边侧壁310的与短边侧壁320相接的部分)至长边侧壁310的中心的方向上，在相对于衬底100的同一高度处，储槽300对待储存材料的润湿能力逐渐增加。上述结构的储槽300可以减少储存材料在长边侧壁310的两端区域的例如攀爬能力，从而在储存材料的蒸发干燥过程中，可以降低储存材料向长边侧壁310的两端区域处的流动量，如此，可以提高储存材料在X轴的方向上的分布的均匀度，最终提高由储存材料形成的结构的平坦度。

在本公开的实施例中，对实现如图5A和图5B所示的储槽300的结构的方式不做限制。下面，在本公开的几个实施例中，提供几种可以实现上述储槽300的结构的技术方案。

例如，在本公开至少一个实施中，在储槽的长度方向上，储槽的端部的高度小于储槽的位于两个端部之间的部分的高度。示例性的，如图5A和图5B所示，短边侧壁320的高度小于长边侧壁310的高度(不考虑长边侧壁310和短边侧壁320相接的共有边界)；或者短边侧壁320以及长边侧壁310的与短边侧壁320相接的部分的高度小于储槽300的长边侧壁310的其余部分的高度；或者长边侧壁310的端部以及短边侧壁320的高度小于长边侧壁310的其余部分的高度。例如，在本公开的实施例中，对长边侧壁310的高度最大的区域(长边侧壁310的远离衬底的边缘中，距离衬底100的距离最大的部分)的位置不做限制，该位置可以位于长边侧壁310的两个端部之间的任何区域。例如，在本公开至少一个实施例中，对于每个长边侧壁310，从端部到两个端部之间的部分的长边侧壁310的中心的方向上，高度逐渐增加。

例如，在本公开至少一个实施例中，在储槽的长度方向上，从储槽的端部至储槽的位于两个端部之间的部分的方向上，在相对于衬底的同一高度处，储槽的疏液性逐渐减小。示例性的，如图5A和图5B所示，在相对于衬底100的同一高度处，长边侧壁310的疏液性小于短边侧壁320的疏液性；或者长边侧壁310的中间部分的疏液性小于短边侧壁320以及长边侧壁310的端部的疏液性。储槽300的形状(例如长边侧壁310的形状)及其疏液性的分布之间的关系，可以参考前述实施例(如图4B所示的实施例)中的相关内容，本公开的实施例在此不做赘述。

例如，在本公开至少一个实施例中，储槽还包括与长度方向垂直的宽度方向(例如平行于X轴的方向)，例如，储槽的短边侧壁的延伸方向可以平行于该宽度方向。例如，在本公开至少一个实施例中，在相对于衬底的同一高度处，短边侧壁的两端对待存储材料的润湿能力大于短边侧壁的位于两端之间的部分对待存储材料的润湿能力。示例性的，如图5A和图5B所示，从短边侧壁320的端部至短边侧壁320的中间位置(例如中心)的方向上，在相对于衬底100的同一高度处，储槽300对储存材料的润湿能力逐渐减小。如此，可以进一步降低储存材料在靠近短边侧壁320的区域的例如攀爬能力，从而在干燥过程中，可以进一步降低储存材料向短边侧壁320处的流动量，提高储存材料在X轴的方向上的分布的均匀度，从而提高由储存材料形成的结构的平坦度。

在本公开的实施例中，如图5A和图5B所示的短边侧壁320的润湿能力的分布的实现方法，可以参考如图4B中的关于长边侧壁310的方案的相关说明，本公开的实施例在此不做赘述。

例如，在本公开至少一个实施例中，从短边侧壁的两端至短边侧壁的位于两端之间的部分的方向上，储槽的高度逐渐减小。示例性的，如图5A和图5B所示，对于每个短边侧壁320，从短边侧壁320的端部到短边侧壁320的位于两端之间的部分(例如短边侧壁320的中心)的方向上，侧壁的高度逐渐减小。例如，在本公开至少一个实施例中，从短边侧壁的两端至短边侧壁的位于两端之间的部分的方向上，在相对于衬底的同一高度处，储槽的疏液性逐渐增加。示例性的，如图5A和图5B所示，对于每个短边侧壁320，从端部至短边侧壁320的中心的方向上，在相对于衬底100的同一高度处，疏液性逐渐增加。如此，可以降低储存材料在靠近短边侧壁320的中心区域的例如攀爬能力，从而在干燥过程中，可以降低储存材料向短边侧壁320处的中心区域的流动量，提高储存材料在X轴的方向上的分布的均匀度，并且提高由储存材料形成的结构的平坦度。

例如，在本公开至少一个实施例中，长边侧壁的侧表面的坡度角小于短边侧壁的侧表面的坡度角。图5C为图3所示显示基板中另一种储槽的一种截面图，其为储槽300的沿宽度方向的截面图；图5D为图3所示显示基板中另一种储槽的另一种截面图，其为储槽300沿长度方向的截面图。示例性的，长边侧壁310的坡度角(长边侧壁310处的侧表面的坡度角)大于短边侧壁320(短边侧壁320处的侧表面的坡度角)的坡度角，即短边侧壁320比长边侧壁310更陡。例如图5C和图5D所示，长边侧壁310的坡度角Q1为长边侧壁310所在面与衬底100所在面的夹角，短边侧壁320的坡度角Q2为短边侧壁320所在面与衬底100所在面的夹角。与短边侧壁320相比，长边侧壁310的坡度角更大，使得储存材料在短边侧壁320上的例如攀爬能力弱于在长边侧壁310上的例如攀爬能力，可以进一步降低储存材料向短边侧壁320处的流动量，可以提高由储存材料形成的结构的平坦度。在该实施例中，储槽300中的长边侧壁310和短边侧壁320的形成、长边侧壁310和短边侧壁320之间的坡度角存在差异以及长边侧壁310和短边侧壁320的具体形状等，可以参考前述实施例(如图4D和图4E所示的实施例)中的相关说明，本公开的实施例在此不做赘述。

本公开的实施例对储槽的长边侧壁310的坡度角Q1和储槽的短边侧壁320的坡度角Q2之间的差异程度不做限制，可以根据实际需要设计。例如，在如图5C和图5D所示的储槽结构中，长边侧壁310的坡度角Q1短边侧壁320的坡度角Q2减去短边侧壁320的坡度角Q2的值不小于15度。

在本公开的实施例中，对储槽300的平面形状不做限制。例如，储槽300的平面形状不限于为图3中的矩形，也可以为椭圆形、多边形等形状。下面，以储槽300的平面形状为椭圆形为例，对本公开实施例中的储槽300的结构进行分析。

例如，在本公开至少一个实施例中，储槽的平面形状为椭圆形，椭圆形包括两个彼此相接且相对的长边侧壁，储槽的在长度方向上的端部包括两个长边侧壁的位于长度方向上的端部。图6为本公开一个实施例提供的显示基板中另一种子像素区域的平面图。如图6所示，位于像素界定层200中的储槽300的平面形状为椭圆形，并且，储槽300的两个长边侧壁310相互连接并且分别位于虚线P的两侧，虚线P可以为椭圆的两个焦点的连接线的延长线。虚线P所在的方向可以为储槽300的长度方向，例如平行于Y轴；与虚线P所在的方向垂直的方向可以为储槽300的宽度方向，例如平行于X轴。例如，在储槽300的长度方向上，储槽300的两端可以包括两个长边侧壁310的两端部分；例如，在储槽300的宽度方向上，储槽300的两端可以包括两个长边侧壁310的中间部分。

图7A为图6所示显示基板中一种储槽的主视图，图7B为图6所示显示基板中一种储槽的侧视图。如图7A和图7B所示，在储槽300的长度方向上，储槽300的端部对待存储材料的润湿能力大于储槽300的两个端部之间的部分对待存储材料的润湿能力。进一步的，对于每个长边侧壁310，从端部至两个端部之间的长边侧壁310的中心的方向上，在相对于衬底100的同一高度处，储槽300对待储存材料的润湿能力逐渐减小。在储存材料的蒸发干燥过程中，储槽300的上述结构可以降低储存材料沿X轴方向的流动量，进而可以提高储存材料在Y轴的方向上的分布的均匀度。

例如，如图7A和图7B所示，在平行于Y轴的方向(储槽300的长度方向)上，储槽300的两端部分的高度大于储槽300的中间部分的高度。进一步，例如，在平行于X轴的方向(储槽300的宽度方向)上，所述椭圆形的储槽300的高度从两端到中心逐渐增加。

例如，如图7A和图7B所示，在平行于Y轴的方向(储槽300的长度方向)上，在距离衬底100的同一高度处，储槽300的两端部分的疏液性小于储槽300的中间部分的疏液性。进一步，例如，在平行于X轴的方向(储槽300的宽度方向)上，在距离衬底100的同一高度处，所述椭圆形的储槽300的疏液性从两端到中心逐渐减小。

如图7A和图7B所示的储槽300的相关设计结构及技术效果可以参考如图4B～图4F所示的实施例中的相关内容，本公开的实施例在此不做赘述。

需要说明的是，在该实施例中，如图7A和图7B所示，椭圆形的储槽300的两个长边侧壁310相接，所以，储槽300的侧表面(长边侧壁310)的坡度角的分布规律可以设计为：在平行于Y轴的方向上，长边侧壁310的坡度角由储槽300的两端到储槽300的中间区域(例如中心)逐渐减小。

图8A为图6所示显示基板中一种储槽的主视图，图8B为图6所示显示基板中一种储槽的侧视图。如图8A和图8B所示，在储槽300的长度方向上，储槽300的端部对待存储材料的润湿能力小于储槽300的两个端部之间的部分对待存储材料的润湿能力。进一步的，对于每个长边侧壁310，从端部至两个端部之间的长边侧壁310的中心的方向上，在相对于衬底100的同一高度处，储槽300对待储存材料的润湿能力逐渐增加。在储存材料的蒸发干燥过程中，储槽300的上述结构可以降低储存材料沿Y轴方向的流动量，进而可以提高储存材料在X轴的方向上的分布的均匀度。

例如，如图8A和图8B所示，在平行于Y轴的方向(储槽300的长度方向)上，储槽300的两端部分的高度小于储槽300的中间部分的高度。进一步，例如，在平行于X轴的方向(储槽300的宽度方向)上，所述椭圆形的储槽300的高度从两端到中心逐渐减小。

例如，如图8A和图8B所示，在平行于Y轴的方向(储槽300的长度方向)上，在距离衬底100的同一高度处，储槽300的两端部分的疏液性大于储槽300的中间部分的疏液性。进一步，例如，在平行于X轴的方向(储槽300的宽度方向)上，在距离衬底100的同一高度处，所述椭圆形的储槽300的疏液性从两端到中心逐渐增加。

如图8A和图8B所示的储槽300的相关设计结构及技术效果可以参考如图5A～图5D所示的实施例中的相关内容，本公开的实施例在此不做赘述。

需要说明的是，在该实施例中，如图8A和图8B所示，椭圆形的储槽300的两个长边侧壁310相接，所以，储槽300的侧表面(长边侧壁310)的坡度角的分布规律可以设计为：在平行于Y轴的方向上，所述长边侧壁310的坡度角由储槽300的两端到储槽300的中间区域(例如中心)逐渐增加。

例如，在本公开至少一个实施例中，图9为本公开一个实施例提供的一种显示基板的局部结构示意图。如图9所示，该显示基板还可以包括设置在储槽300中的有机发光器件400。

本公开的实施例对有机发光器件400的具体化结构不做限制。例如，有机发光器件400可以包括第一电极410、第二电极430以及位于第一电极410和第二电极430之间的有机发光层420。例如，有机发光器件400还可以包括空穴注入层、空穴传输层、电子传输层和电子注入层等结构。在制备有机发光器件400的过程中，储槽300中的储存材料可以配置为形成有机发光器件400中的有机发光层420、空穴注入层、空穴传输层、电子传输层和电子注入层等中的一个或组合。

本公开的实施例对储槽300中待储存材料的类型不做限制。储存材料可以包括溶剂和溶质。例如，在干燥工艺过程中，溶剂蒸发，剩余的溶质形成需要的有机发光器件400中的结构层例如有机发光层420等。

本公开的实施例对储存材料中溶剂的类型不做限制。例如，溶剂的类型可以为下述材料中的一种或者组合。溶剂的类型可以为，芳香烃类：苯、甲苯、二甲苯等；脂肪烃类：戊烷、己烷、辛烷等；脂环烃类：环己烷、环己酮、甲苯环己酮等；卤化烃类：氯苯、二氯苯、二氯甲烷等；醇类：甲醇、乙醇、异丙醇等；醚类：乙醚、环氧丙烷等；酯类：醋酸甲酯、醋酸乙酯、醋酸丙酯等酮类：丙酮、甲基丁酮、甲基异丁酮等；二醇衍生物：乙二醇单甲醚、乙二醇单乙醚、乙二醇单丁醚等；其他：乙腈、吡啶、苯酚等。

本公开的实施例对储存材料中的溶质的类型不做限制，溶质的类型可以由需要形成的有机发光器件400中的机构层的类型来决定。

例如，有机发光层420的制备材料可以包括8-羟基喹啉铝、8-羟基喹啉铝、蒽的衍生物等。

例如，空穴注入层的制备材料包括酞氰铜、三氧化钼、2-TNATA(4,4',4”-三(2-萘基苯基氨基)三苯基胺)、聚苯胺、PEDOT(3,4-乙烯二氧噻吩单体的聚合物)等。

例如，空穴传输层的制备材料包括聚对苯撑乙烯类、聚噻吩类、聚硅烷类、三苯甲烷类、三芳胺类、腙类、吡唑啉类、嚼唑类、咔唑类、丁二烯类等。

例如，电子注入层的制备材料包括氟化锂、氧化锂、氧化锂硼、硅氧化钾、碳酸铯、8-羟基喹啉铝-锂等。

例如，电子传输层的制备材料包括唑衍生物、金属螯合物、唑类化合物、喹啉衍生物、喔啉衍生物、二氮蒽衍生物、含硅的杂环衍生物等。

在本公开的实施例中，如图9所示，对第一电极410和第二电极430的类型不做限制。例如，第一电极410和第二电极430的一方可以作为有机发光器件400的阳极，另一方作为有机发光器件400的阴极。例如，制备阳极的材料可以包括金属铝和导电氧化物(例如ITO、IGZO)等中任意一种。例如，制备阴极的材料包括金属钾、锂、钙、镁、铟或镁铝合金、镁银合金、锂铝合金中的任意一种。例如，每个子像素区域的显示基板中还设置有薄膜晶体管500，薄膜晶体管500例如可以与第一电极410电连接以控制有机发光器件400的工作状态。

本公开至少一个实施例提供一种显示面板，该显示面板可以包括上述任一实施例中的显示基板。该显示面板例如可以应用于手机、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、数码相框、导航仪等任何具有显示功能的产品或部件。

本公开至少一个实施例提供一种显示基板的制备方法，该方法包括：提供衬底；在衬底上形成绝缘材料薄膜；对绝缘材料薄膜进行图案化处理，以形成像素界定层，像素界定层包括多个子像素区域，且在每个子像素区域中形成有至少一个由像素界定层围设而成的储槽；其中，在相对于衬底的同一高度处，在储槽的长度方向上，储槽的端部与储槽的两个端部之间的部分对待存储材料的润湿能力不同。在同一水平面上，制备的储槽的各部分对待存储材料的润湿能力不同，可以针对储存材料在干燥过程中的分布情况对储槽的各区域的润湿能力的分布进行设计，对待储存材料在干燥过程中的界面进行控制，提高由储存材料形成的结构层的平坦度，进一步提高制备的显示基板的良率。在本公开的实施例中，形成的储槽的结构可以参考前述实施例(关于显示基板的实施例)中的相关内容，例如图4B～图4F中的实施例，或者图5A～图5D中的实施例，本公开的实施例在此不做赘述。

例如，在本公开至少一个实施例提供的显示基板的制备方法中，在储槽的长度方向上，从储槽的端部至储槽的位于两个端部之间的中心部分的方向上，在相对于衬底的同一高度处，润湿能力逐渐减小或增加。例如，对于制备的储槽中的每个长边侧壁，如图4B～图4C所示，从长边侧壁310的端部至长边侧壁310的中心的方向上，储槽300的远离衬底100的边缘的高度逐渐减小。例如，对于制备的储槽中的每个长边侧壁310，如图5A～图5B所示，从长边侧壁310的端部至长边侧壁310的中心的方向上，储槽300的远离衬底100的边缘的高度逐渐增加。

例如，在本公开至少一个实施例提供的显示基板的制备方法中，储槽还包括与长度方向垂直的宽度方向，并且，在宽度方向上，从储槽的端部至储槽的位于两个端部之间的中心的方向上，在相对于衬底的同一高度处，润湿能力逐渐增加。示例性的，储槽还包括两个相对的短边侧壁，短边侧壁的长度小于长边侧壁的长度且每个短边侧壁的两端分别与两个长边侧壁相接，从短边侧壁的端部至两个端部之间的短边侧壁的中心的方向上，在相对于衬底的同一高度处，润湿能力逐渐增加或减小。长边侧壁的形状和短边侧壁的形状的相关设计，可以分别参考图4B～图4C中的实施例和图5A～图5B中的实施例的相关内容，本公开的实施例在此不做赘述。

根据储槽300的形状，对像素界定层200进行相应处理，以使得储槽300对储存材料的疏液性也从端部至两个端部之间的中心的方向上逐渐增加或减小。下面，通过几个实施例进行说明。

例如，在本公开至少一个实施例提供的显示基板的制备方法中，像素界定层的制备材料包括卤素聚合物，制备方法还包括：对像素界定层进行烘烤，以使得像素界定层的远离衬底的部分变为疏液层，像素界定层的靠近衬底的部分转变为亲液层。例如，该卤素聚合物中可以包括氟，对像素界定层进行烘烤后，卤素例如氟会向像素界定层的表面聚集，如此，使得像素界定层的表面具有疏液性质，并且，像素界定层的疏液性从靠近衬底到像素界定层的表面逐渐增加。所以，根据已形成的储槽结构，可以直接使得储槽中的疏液性分布符合要求。

例如，在本公开至少一个实施例提供的显示基板的制备方法中，像素界定层的制备材料包括卤素聚合物，制备方法还包括：像素界定层的制备材料包括亲液的光阻材料，制备方法还包括：通过包括卤素化合物的气体对像素界定层的远离衬底的表面进行电浆处理，以使得像素界定层的远离衬底的部分具有疏液性。如此，从靠近衬底到像素界定层的表面，卤素化合物的含量逐渐增加，像素界定层的疏液性也逐渐增加。

在本公开的实施例中，对包括卤素化合物的气体的类型不做限制。例如，该卤素化合物可以为四氟化碳、四氟化硫或三氟化氮等中的一种或者组合。

对于不同的储槽结构，储槽中的疏液性分布也不相同，相关内容可以分别参考图4B～图4C中的实施例以及图5A～图5B中的实施例的相关内容，本公开的实施例在此不做赘述。

例如，在本公开至少一个实施例提供的显示基板的制备方法中，可以通过包括卤素化合物的等离子气体对像素界定层的表面进行处理。如此，根据储槽的结构，可以加大储槽在同一水平面上的各区域之间的润湿能力的差异，在储存材料的干燥过程中，可以进一步提升储槽对储存材料的界面的调节能力，提升由储存材料制备的结构层的平坦度。例如，以图4B～图4E所示的储槽结构为例，在同一水平面上，长边侧壁310的疏液性大于短边侧壁320的疏液性，经过上述等离子气体处理后，长边侧壁310的疏液性仍大于短边侧壁320的疏液性，并且两者之间的差异增大。如此，与短边侧壁320处的区域相比，可以进一步降低储存材料向长边侧壁310处的流动量，可以进一步提高储存材料在Y轴的方向上的分布的均匀度，最终进一步提高由储存材料形成的结构的平坦度。

例如，在本公开至少一个实施例提供的显示基板的制备方法中，如图9所示，还包括在储槽300中形成有机发光器件400。有机发光器件400的具体化结构可以参考前述实施例(如图9所示的与显示基板相关实施例)中的相关内容，本公开的实施例在此不做赘述。

示例性的，在制备完成储槽300之后，可以在储槽中滴入储存材料，然后进行干燥以获得有机发光器件400中的结构层。以显示基板中的子像素区域可以分别为红色子像素、绿色子像素、蓝色子像素三种，可以在不同的子像素区域的储槽中同时制备空穴注入层和空穴传输层或者电子注入层和电子传输层之后，分别在不同类型的子像素区域的储槽中制备红、绿、蓝三种发光颜色的有机发光层。例如，也可以在显示基板的每个子像素区域的储槽中，分别滴入储存材料以获得有机发光器件400中的结构层。

本实用新型的实施例提供一种显示基板和显示面板，并且可以具有以下至少一项有益效果：

(1)本公开至少一个实施例提供一种显示基板，在同一水平面上，储槽各部分对待存储材料的润湿能力不同，可以针对储存材料在干燥过程中的分布情况对储槽的各区域的润湿能力的分布进行设计，对待储存材料在干燥过程中的界面进行控制，提高由储存材料形成的结构层的平坦度。

(2)在本公开至少一个实施例提供的显示基板中，在储槽的长度方向上，储槽对待储存材料的润湿能力从两端部到中间区域逐渐减小，可以提高储存材料在储槽的长度方向上的分布的均匀度，最终提高由储存材料形成的结构的平坦度。

(3)本公开至少一个实施例提供的显示基板中，在储槽的长度方向上，储槽对待储存材料的润湿能力从两端部到中间区域逐渐增加，可以提高储存材料在储槽的宽度方向上的分布的均匀度，最终提高由储存材料形成的结构的平坦度。

对于本公开，还有以下几点需要说明：

(1)本公开实施例附图只涉及到与本公开实施例涉及到的结构，其他结构可参考通常设计。

(2)为了清晰起见，在用于描述本公开的实施例的附图中，层或区域的厚度被放大或缩小，即这些附图并非按照实际的比例绘制。

(3)在不冲突的情况下，本公开的实施例及实施例中的特征可以相互组合以得到新的实施例。

以上，仅为本公开的具体实施方式，但本公开的保护范围并不局限于此，本公开的保护范围应以权利要求的保护范围为准。

Claims (15)

1.一种显示基板，其特征在于，包括

衬底；

像素界定层，设置于所述衬底上，所述像素界定层包括多个子像素区域，且在每个所述子像素区域中设置有至少一个由所述像素界定层围设而成的储槽，

其中，在相对于所述衬底的同一高度处，在所述储槽的长度方向上，所述储槽的端部与所述储槽的两个所述端部之间的部分对待存储材料的润湿能力不同。

2.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，

在所述储槽的长度方向上，在相对于所述衬底的同一高度处，所述储槽的所述端部的对待存储材料的润湿能力大于在所述储槽的两个所述端部之间的部分的对待存储材料的润湿能力。

3.根据权利要求2所述的显示基板，其特征在于，

在所述储槽的长度方向上，从所述储槽的所述端部至所述储槽的位于两个所述端部之间的中心的方向上，在相对于所述衬底的同一高度处，所述润湿能力逐渐减小。

4.根据权利要求2或3所述的显示基板，其特征在于，

在所述储槽的长度方向上，所述储槽的端部的高度大于所述储槽的位于两个所述端部之间的部分的高度。

5.根据权利要求4所述的显示基板，其特征在于，

在所述储槽的长度方向上，从所述储槽的所述端部至所述储槽的位于两个所述端部之间的中心的方向上，所述储槽的高度逐渐减小。

6.根据权利要求2所述的显示基板，其特征在于，

所述储槽的平面形状为矩形，所述储槽包括两个相对长边侧壁以及两个相对的短边侧壁，所述储槽的在所述长度方向上的所述端部包括所述短边侧壁；或者包括所述短边侧壁以及所述长边侧壁与所述短边侧壁相接的部分。

7.根据权利要求6所述的显示基板，其特征在于，

在相对于所述衬底的同一高度处，所述短边侧壁的两端对待存储材料的润湿能力小于所述短边侧壁的位于两端之间的部分对待存储材料的润湿能力。

8.根据权利要求7所述的显示基板，其特征在于，

从所述短边侧壁的两端至短边侧壁的位于两端之间的部分的方向上，所述储槽的高度逐渐增加。

9.根据权利要求6-8中任一项所述的显示基板，其特征在于，

所述长边侧壁的侧表面的坡度角大于所述短边侧壁的侧表面的坡度角。

10.根据权利要求2所述的显示基板，其特征在于，

所述储槽的平面形状为椭圆形，所述椭圆形包括两个彼此相接且相对的长边侧壁，所述储槽的在所述长度方向上的所述端部包括所述两个长边侧壁的位于所述长度方向上的端部。

11.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，

在所述储槽的长度方向上，在相对于所述衬底的同一高度处，所述储槽的所述端部的对待存储材料的润湿能力小于在所述储槽的两个所述端部之间的部分的对待存储材料的润湿能力。

12.根据权利要求11所述的显示基板，其特征在于，

在所述储槽的长度方向上，从所述储槽的所述端部至所述储槽的位于两个所述端部之间的中心的方向上，在相对于所述衬底的同一高度处，所述润湿能力逐渐增加。

13.根据权利要求11或12所述的显示基板，其特征在于，

在所述储槽的长度方向上，所述储槽的端部的高度小于所述储槽的位于两个所述端部之间的部分的高度。

14.根据权利要求13所述的显示基板，其特征在于，

在所述储槽的长度方向上，从所述储槽的所述端部至所述储槽的位于两个所述端部之间的中心的方向上，所述储槽的高度逐渐增加。

15.一种显示面板，其特征在于，包括权利要求1-14中任一项所述的显示基板。