CN207271498U - 内釉施釉结构 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及施釉结构领域，旨在解决现有技术中的内釉施釉结构存在结构复杂，不方便实现自动化操作的问题，提供一种内釉施釉结构，其包括供釉系统、配合嘴、回位件。供釉系统设置有若干朝上开口的出釉管，供釉系统能够从出釉管的出口出釉。配合嘴具有贯通其上下端面的通口。出釉管的出口从下方对应于通口。配合嘴弹性支撑于回位件上端，并能够在外力的作用下克服回位件的回位力向下运动至使配合嘴的通口的下端密封接通出釉管的出口，使出釉管的出口出釉只能从通口的上端通出。本实用新型的有益效果是能够方便地实现上内釉，且容易实现上内釉的自动化、釉水利用率高。

Description

内釉施釉结构

技术领域

本实用新型涉及施釉结构领域，具体而言，涉及一种内釉施釉结构。

背景技术

内釉施釉为对瓶件等待上内釉的工件进行上内釉的操作。现有技术中的内釉施釉结构存在结构复杂，不方便实现自动化操作的问题。

实用新型内容

本实用新型旨在提供一种内釉施釉结构，以解决现有技术中的内釉施釉结构存在结构复杂，不方便实现自动化操作的问题。

本实用新型的实施例是这样实现的：

一种内釉施釉结构，其包括供釉系统、配合嘴、回位件。供釉系统设置有若干朝上开口的出釉管，供釉系统能够从出釉管的出口出釉。配合嘴具有贯通其上下端面的通口。出釉管的出口从下方对应于通口。配合嘴弹性支撑于回位件上端，并能够在外力的作用下克服回位件的回位力向下运动至使配合嘴的通口的下端密封接通出釉管的出口，使出釉管的出口出釉只能从通口的上端通出。

本实施例中的内釉施釉结构使用时，先将瓶件(或其他待施内釉的工件)以开口向下的倒置状态下压配合嘴，使配合嘴的通口上端接通瓶口。瓶件和配合嘴克服回位件的回位力继续向下运动，使配合嘴的通口的下端密封接通出釉管的出口。然后使供釉系统从出釉管的出口出釉，釉水通过瓶口进入到瓶件内腔，并附着于瓶件的内表面，实现上釉。上釉完毕后，取走瓶件，配合嘴在回位件的回位力的作用下回位和出釉管脱开，多余的釉水从通口下端流出。

本实施例中的内釉施釉结构具有结构简单，能够方便地实现施釉；并且只需配合能够带动瓶件以倒置状态上下运动的装置即可实现自动化的施内釉操作。

在本实用新型的一个实施例中：

出釉管为上小下大的台阶形管，其上管段和下管段之间具有台阶面。上管段的截面小于通口下端截面，且能够进入配合嘴的通口中。

在本实用新型的一个实施例中：

通口的上端为上大下小的锥形孔结构。

在本实用新型的一个实施例中：

回位件为套设于出釉管外的弹簧，回位力为弹簧的弹性力。

在本实用新型的一个实施例中：

配合嘴由弹性材料构成。

在本实用新型的一个实施例中：

内釉施釉结构还包括内釉接槽，出釉管的出口位于内釉接槽中。

在本实用新型的一个实施例中：

供釉系统包括进釉主管、分釉横管。分釉横管固定设置于内釉接槽中，且其连通若干出釉管。进釉主管连通分釉横管，并通过分釉横管向出釉管供釉。

在本实用新型的一个实施例中：

进釉主管一端连通供釉池，另一端通过多个进釉支管分别间隔连通分釉横管的长向不同位置。

在本实用新型的一个实施例中：

内釉接槽为环扇形结构，内釉接槽的径向外壁和径向内壁之间连接有两个相互间隔的支撑杆，分釉横管的两端分别对应连接于两个支撑杆。

在本实用新型的一个实施例中：

支撑杆设有沿垂直于分釉横管长向的长槽，分釉横管位置可调地配合连接于长槽处。

综上，本实用新型实施例中的内釉施釉结构具有能够方便地实现上内釉，且容易实现上内釉的自动化的有益效果。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，应当理解，以下附图仅示出了本实用新型的某些实施例，因此不应被看作是对范围的限定，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他相关的附图。

图1是本实用新型实施例中的内釉施釉结构的结构示意图；

图2是图1的俯视图；

图3是本实施例中出釉处部分的结构视图；

图4为本实施例中的内釉施釉结构使用状态(仅展示部分结构)的示意图。

图标：S001-内釉施釉结构；s01-台阶面；s02-下端面；s10-内釉接槽；s11-支撑杆；s12-长槽；s13-支撑架；s20-供釉系统；s21-分釉横管；s211-凸台；s22-进釉主管；s23-进釉支管；s24-供釉池；s30-配合嘴；s301-通口；s40-出釉管；s41-上管段；s42-下管段；s43-弹性垫；s44-配合管段；s50-回位件；W0-瓶件。

具体实施方式

为使本实用新型实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。通常在此处附图中描述和示出的本实用新型实施例的组件可以以各种不同的配置来布置和设计。

因此，以下对在附图中提供的本实用新型的实施例的详细描述并非旨在限制要求保护的本实用新型的范围，而是仅仅表示本实用新型的选定实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

应注意到：相似的标号和字母在下面的附图中表示类似项，因此，一旦某一项在一个附图中被定义，则在随后的附图中不需要对其进行进一步定义和解释。

在本实用新型的描述中，需要说明的是，若出现术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，或者是该实用新型产品使用时惯常摆放的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。此外，本实用新型的描述中若出现术语“第一”、“第二”等仅用于区分描述，而不能理解为指示或暗示相对重要性。

此外，本实用新型的描述中若出现术语“水平”、“竖直”等术语并不表示要求部件绝对水平或悬垂，而是可以稍微倾斜。如“水平”仅仅是指其方向相对“竖直”而言更加水平，并不是表示该结构一定要完全水平，而是可以稍微倾斜。

在本实用新型的描述中，还需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，若出现术语“设置”、“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。

实施例

图1是本实用新型实施例中的内釉施釉结构S001的结构示意图；图2是图1的俯视图(图1、图2中额外示出了本内釉施釉结构S001的一种施釉对象瓶件W0)；图3是本实施例中出釉处部分的结构视图。请参照图1、图2、图3，本实施例中的内釉施釉结构S001包括供釉系统s20、配合嘴s30、回位件s50。供釉系统s20设置有若干朝上开口的出釉管s40，供釉系统s20能够从出釉管s40的出口出釉。配合嘴s30具有贯通其上下端面的通口s301。出釉管s40的出口从下方对应于通口s301。配合嘴s30弹性支撑于回位件s50上端，并能够在外力的作用下克服回位件s50的回位力向下运动至使配合嘴s30的通口s301的下端密封接通出釉管s40的出口，使出釉管s40的出口出釉只能从通口s301的上端通出。

图4为本实施例中的内釉施釉结构S001使用状态的示意图。配合参见图3、图4，本实施例中的内釉施釉结构S001使用时，先将瓶件W0(或其他待施内釉的工件)以开口向下的倒置状态下压配合嘴s30，使配合嘴s30的通口s301上端接通瓶口。瓶件W0和配合嘴s30克服回位件s50的回位力继续向下运动，使配合嘴s30的通口s301的下端密封接通出釉管s40的出口。然后使供釉系统s20从出釉管s40的出口出釉，釉水通过瓶口进入到瓶件W0内腔，并附着于瓶件W0的内表面，实现上釉。上釉完毕后，取走瓶件W0，配合嘴s30在回位件s50的回位力的作用下回位和出釉管s40脱开，多余的釉水从通口s301下端流出。

本实施例中的内釉施釉结构S001具有结构简单，能够方便地实现施釉；并且只需配合能够带动瓶件W0以倒置状态上下运动的装置即可实现自动化的施内釉操作。

在本实用新型的一个实施例中，出釉管s40为上小下大的台阶形管，其上管段s41和下管段s42之间具有台阶面s01。压合时，台阶面s01密封压合于配合嘴s30的下端面s02上管段s41的截面小于通口s301下端截面，且能够进入配合嘴s30的通口s301中。本实施例中，优选的，上管段s41的外径小于瓶件W0的开口直径，且下压时，上管段s41能够直接插入到瓶件W0的开口内，以实现更好地供釉。

本实施例中，为使瓶件W0和配合嘴s30、配合嘴s30和出釉管s40之间压合时，接触面能够很好地密封，避免不严密接触导致釉水漏出，本实施例中的配合嘴s30采用橡胶、软性塑胶等弹性材料构成。可选地，在下管段s42的外端还设有弹性垫s43，以更好地和配合嘴s30密封压合，以及缓冲压合力，避免碰坏。另外，通口s301的上端为上大下小的锥形孔结构。这样，通口s301可较好地配合瓶口尺寸一定区间的不同瓶件W0，提高使用范围的同时也提高了配合的紧密性。

本实施例中的回位件s50可以设置成多种形式，例如回位件s50为套设于出釉管s40外的弹簧，回位力为弹簧的弹性力。为配合弹簧，出釉管s40下部设置截面尺寸较大的配合管段s44。

在本实施例中，请再次参见图1、图2，内釉施釉结构S001还包括内釉接槽s10，出釉管s40的出口位于内釉接槽s10中，以使得向瓶件W0内施釉后多余的釉水能够收集到内釉接槽s10。收集后的釉水可直接通过供釉系统s20循环利用；或经过过滤等处理后再进行利用。

在本实用新型的一个实施例中，供釉系统s20包括进釉主管s22、分釉横管s21。分釉横管s21固定设置于内釉接槽s10中，且其连通若干出釉管s40。本实施例中，共设置五个出釉管s40，以实现同时对五个瓶件W0进行上内釉。五个出釉管s40分别垂直连接于分釉横管s21之上。参见图3，各个出釉管s40外套设的作为回位件s50的弹簧的下端支撑于设置在分釉横管s21上的凸台s211上，另一端支撑于配合嘴s30的下端。进釉主管s22连通分釉横管s21，并通过分釉横管s21向出釉管s40供釉。可选的，进釉主管s22一端连通供釉池s24，另一端通过多个进釉支管s23分别间隔连通分釉横管s21的长向不同位置，以减小各个出釉管s40出釉的不同步度，降低等待时间和对应的出釉量。本实施例中的内釉接槽s10可连通供釉池s24或通过过滤结构过滤后连通供釉池s24，以实现釉水的再利用。具体设置方式可以为，将内釉接槽s10的底壁设置为截面向下缩小的锥形结构，在其锥形最小端设有由开关阀控制的出水管，出水管连通供釉池s24。

在本实用新型的一个实施例中，内釉接槽s10为环扇形结构，内釉接槽s10的径向外壁和径向内壁之间连接有两个相互间隔的支撑杆s11，分釉横管s21的两端分别对应连接于两个支撑杆s11。支撑杆s11设有沿垂直于分釉横管s21长向的长槽s12，分釉横管s21位置可调地配合连接于长槽s12处。本实施例中的内釉接槽s10通过带滚轮的支撑架s13支撑于地面。

综上，本实用新型实施例中的内釉施釉结构S001具有结构简单，能够方便地实现上内釉，且容易实现上内釉的自动化的有益效果。另外本实施例中的内釉施釉结构S001通过结构设计，减小多个出釉管s40出釉不同步率，减少一次出釉时间和出釉量、以及对多余的釉水收集和再利用的结构，使得本实施例中的内釉施釉结构S001还具备釉水利用率高的有益效果。

以上所述仅为本实用新型的优选实施例而已，并不用于限制本实用新型，对于本领域的技术人员来说，本实用新型可以有各种更改和变化。凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。

Claims (10)

1.一种内釉施釉结构，其特征在于：

所述内釉施釉结构包括供釉系统、配合嘴、回位件；

所述供釉系统设置有若干朝上开口的出釉管，所述供釉系统能够从所述出釉管的出口出釉；

所述配合嘴具有贯通其上下端面的通口；所述出釉管的出口从下方对应于所述通口；

所述配合嘴弹性支撑于所述回位件上端，并能够在外力的作用下克服所述回位件的回位力向下运动至使所述配合嘴的通口的下端密封接通所述出釉管的出口，使所述出釉管的出口出釉只能从所述通口的上端通出。

2.根据权利要求1所述的内釉施釉结构，其特征在于：

所述出釉管为上小下大的台阶形管，其上管段和下管段之间具有台阶面；

所述上管段的截面小于所述通口下端截面，且能够进入所述配合嘴的通口中。

3.根据权利要求1所述的内釉施釉结构，其特征在于：

所述通口的上端为上大下小的锥形孔结构。

4.根据权利要求1所述的内釉施釉结构，其特征在于：

所述回位件为套设于所述出釉管外的弹簧，所述回位力为所述弹簧的弹性力。

5.根据权利要求1所述的内釉施釉结构，其特征在于：

所述配合嘴由弹性材料构成。

6.根据权利要求1所述的内釉施釉结构，其特征在于：

所述内釉施釉结构还包括内釉接槽，所述出釉管的出口位于所述内釉接槽中。

7.根据权利要求6所述的内釉施釉结构，其特征在于：

所述供釉系统包括进釉主管、分釉横管；

所述分釉横管固定设置于所述内釉接槽中，且其连通若干所述出釉管；

所述进釉主管连通所述分釉横管，并通过所述分釉横管向所述出釉管供釉。

8.根据权利要求7所述的内釉施釉结构，其特征在于：

所述进釉主管一端连通供釉池，另一端通过多个进釉支管分别间隔连通所述分釉横管的长向不同位置。

9.根据权利要求8所述的内釉施釉结构，其特征在于：

所述内釉接槽为环扇形结构，所述内釉接槽的径向外壁和径向内壁之间连接有两个相互间隔的支撑杆，所述分釉横管的两端分别对应连接于两个所述支撑杆。

10.根据权利要求9所述的内釉施釉结构，其特征在于：

所述支撑杆设有沿垂直于所述分釉横管长向的长槽，所述分釉横管位置可调地配合连接于所述长槽处。