CN207170415U - 一种静电水消除及表面除尘结构 - Google Patents
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Abstract
本实用新型提供一种静电水消除及表面除尘结构，包括壳体、压力腔、离子发生器和真空腔，所述壳体底部开口下方有基板横向移动，所述壳体的底部有开口，所述壳体内有真空腔，所述壳体内通过隔板间隔成两个压力腔，两个压力腔分别在对应真空腔下方两侧，所述压力腔内有离子发生器，所述离子发生器底部有喷口。本实用新型提供一种静电水消除及表面除尘结构，能够同进对产品进行消除静电及对产品表面进行除尘，从而能够间接提高产品质量。
Description
技术领域
本实用新型涉及电容式触摸屏相关结构领域，特别是涉及 一种静电水消除及表面除尘结构。
背景技术
触摸屏对生产的环境主是管控难点在产品的洁净度及静电，洁净度直接影响产品良率，静电则可避免IC被打坏，及静电吸附落尘引起的不良，因此控制好产能的洁净度及消除静电可以有效解决上述问题。而目前在生产过程中，静电消除和表面清洁都是分开行，且基本都是人要处理，存在工艺繁琐，效果不理想的问题。
实用新型内容
为了解决上述存在的问题，本实用新型提供一种静电水消除及表面除尘结构，能够同进对产品进行消除静电及对产品表面进行除尘，从而能够间接提高产品质量，为达此目的，本实用新型提供一种静电水消除及表面除尘结构，包括壳体、压力腔、离子发生器和真空腔，所述壳体底部开口下方有基板横向移动，所述壳体的底部有开口，所述壳体内有真空腔，所述壳体内通过隔板间隔成两个压力腔，两个压力腔分别在对应真空腔下方两侧，所述压力腔内有离子发生器，所述离子发生器底部有喷口。
本实用新型的进一步改进，所述壳体为矩形，本实用新型壳体采用矩形这样受压方向朝下除尘效果较佳。
本实用新型的进一步改进，所述离子发生器底部喷口朝壳体中心倾斜，当压力腔产生产气流经过离子发生器产生了离子风经压力腔的斜口吹到工件表面后，工件表面静电被中和而消除了静电，同时工件表面的落尘在静电清除后，附着力下降的同时，再加上压力腔出的气流的吹洗力，很容易就将表面落尘带起，因此离子发生器底部喷口最好倾斜设计。
本实用新型提供一种静电水消除及表面除尘结构，包括真空腔、压力腔、离子发生器，其中离子发生器后在左右两个腔体为压力腔，为正压，真空腔为负压，当压力腔产生产气流经过离子发生器产生了离子风经压力腔的斜口吹到工件表面后，工件表面静电被中和而消除了静电，同时工件表面的落尘在静电清除后，附着力下降的同时，再加上压力腔出的气流的吹洗力，很容易就将表面落尘带起，同时真空腔因负压，两侧压力腔的气流及时从真空腔排走，达到气流平衡，减少二次落尘和因紊流造成的二次污染，达到表面静电消除和工件表除尘的效果。
附图说明
图1为本实用新型示意图；
图示说明:
1、壳体；2、压力腔；3、离子发生器；4、真空腔；5、基板。
具体实施方式
下面结合附图与具体实施方式对本实用新型作进一步详细描述：
本实用新型提供一种静电水消除及表面除尘结构，能够同进对产品进行消除静电及对产品表面进行除尘，从而能够间接提高产品质量。
作为本实用新型一种实施例，本实用新型提供一种静电水消除及表面除尘结构，包括壳体1、压力腔2、离子发生器3和真空腔4，所述壳体1底部开口下方有基板5横向移动，所述壳体1的底部有开口，所述壳体1内有真空腔4，所述壳体1内通过隔板间隔成两个压力腔2，两个压力腔2分别在对应真空腔4下方两侧，所述压力腔2内有离子发生器3，所述离子发生器3底部有喷口。
作为本实用新型一种具体实施例，本实用新型提供如图1所示的一种静电水消除及表面除尘结构，包括壳体1、压力腔2、离子发生器3和真空腔4，所述壳体为矩形，本实用新型壳体采用矩形这样受压方向朝下除尘效果较佳，所述壳体1底部开口下方有基板5横向移动，所述壳体1的底部有开口，所述壳体1内有真空腔4，所述壳体1内通过隔板间隔成两个压力腔2，两个压力腔2分别在对应真空腔4下方两侧，所述压力腔2内有离子发生器3，所述离子发生器3底部有喷口，所述离子发生器底部喷口朝壳体中心倾斜，当压力腔产生产气流经过离子发生器产生了离子风经压力腔的斜口吹到工件表面后，工件表面静电被中和而消除了静电，同时工件表面的落尘在静电清除后，附着力下降的同时，再加上压力腔出的气流的吹洗力，很容易就将表面落尘带起，因此离子发生器底部喷口最好倾斜设计。
本实用新型工作原理如下：
当压力腔产生产气流经过离子发生器产生了离子风经压力腔的斜口吹到工件表面后，工件表面静电被中和而消除了静电，同时工件表面的落尘在静电清除后，附着力下降的同时，再加上压力腔出的气流的吹洗力，很容易就将表面落尘带起，同时真空腔因负压，两侧压力腔的气流及时从真空腔排走，达到气流平衡，减少二次落尘和因紊流造成的二次污染，达到表面静电消除和工件表除尘的效果。
以上所述，仅是本实用新型的较佳实施例而已，并非是对本实用新型作任何其他形式的限制，而依据本实用新型的技术实质所作的任何修改或等同变化，仍属于本实用新型所要求保护的范围。
Claims (3)
1.一种静电水消除及表面除尘结构，包括壳体（1）、压力腔（2）、离子发生器（3）和真空腔（4），所述壳体（1）底部开口下方有基板（5）横向移动，其特征在于：所述壳体（1）的底部有开口，所述壳体（1）内有真空腔（4），所述壳体（1）内通过隔板间隔成两个压力腔（2），两个压力腔（2）分别在对应真空腔（4）下方两侧，所述压力腔（2）内有离子发生器（3），所述离子发生器（3）底部有喷口。
2.根据权利要求1所述的一种静电水消除及表面除尘结构，其特征在于：所述壳体（1）为矩形。
3.根据权利要求1所述的一种静电水消除及表面除尘结构，其特征在于：所述离子发生器（3）底部喷口朝壳体（1）中心倾斜。
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|---|---|---|---|
| CN201721523970.5U CN207170415U (zh) | 2017-11-15 | 2017-11-15 | 一种静电水消除及表面除尘结构 |
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Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN109622514A (zh) * | 2018-12-28 | 2019-04-16 | 上海华岭集成电路技术股份有限公司 | 一种自动清洁prober腔体的方法及装置 |
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2017
- 2017-11-15 CN CN201721523970.5U patent/CN207170415U/zh not_active Expired - Fee Related
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