CN207131744U - 一种磁流体密封水冷装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种磁流体密封水冷装置,用于磁流体旋转装置,水冷装置包括基座本体和与基座本体固接的基座法兰,基座本体的端部设有环状的沟槽,沟槽与基座法兰的下表面构成密封的空腔,空腔内设有用于隔断空腔的隔板,基座本体上设有与空腔相通的进水孔和出水孔,本实用新型在基座本体上设计环状水道和隔板,通过导入冷却水源并循环流动而快速带走部分热量,能有效降低磁流体旋转装置的温升,防止各部件因温度过高而损坏,提高了装置的使用安全性和可靠性。
Description
技术领域
本实用新型涉及到一种水冷装置,尤其涉及到一种用于降低磁流体旋转装置表面温度的磁流体密封水冷装置。
背景技术
磁流体旋转装置用于单晶炉使用时,由于炉体温度高,炽热的炉内热源通过单晶炉转轴传递到磁流体旋转装置上,使得磁流体旋转装置温度升高,过高的温度使得磁流体旋转装置上的磁性流体、油脂、氟橡胶密封圈等部件的使用寿命大大减少,严重的甚至造成部件损坏和密封结构破坏,降低了磁流体旋转装置的使用安全性和可靠性。因此在磁流体旋转装置上应采用冷却装置,以降低磁流体旋转装置各部件的温升,保证部件的正常使用。
实用新型内容
本实用新型主要解决现有磁流体旋转装置使用在高温场合中容易因高温损坏装置各部件的技术问题;提供了一种用于降低磁流体旋转装置表面温度的磁流体密封水冷装置。
为了解决上述存在的技术问题,本实用新型主要是采用下述技术方案:
本实用新型的一种磁流体密封水冷装置,用于磁流体旋转装置,所述水冷装置包括基座本体和与基座本体固接的基座法兰,所述基座本体的端部设有环状的沟槽,所述沟槽与所述基座法兰的下表面构成密封的空腔,基座本体上设有与所述空腔相通的进水孔和出水孔,所述空腔形成水流通道,在基座本体上设计环状水道,通过导入冷却水源并循环流动而快速带走部分热量,能有效降低磁流体旋转装置的温升,使磁流体旋转装置表面温度保持在一个相对安全的较低温度,防止磁流体旋转装置各部件因温度过高而损坏,提高了装置的使用安全性和可靠性。
作为优选,所述空腔内设有用于隔断空腔并与空腔截面相吻合的隔板,隔板的左右侧边和底边分别与沟槽的侧壁和底面贴合且固接,隔板的顶边与所述基座法兰的底面贴合,所述进水孔和出水孔分置于隔板的两侧,在空腔中设置隔板,将空腔隔断,使冷却水流可以沿空腔环流,提升了水流的流速,提高了水冷装置的冷却效率。
作为优选,所述基座法兰底面与所述隔板接触处设有凹槽,所述凹槽长度与隔板的顶边长度相吻合,凹槽宽度与隔板厚度相吻合,隔板顶部嵌设于凹槽内,通过隔板顶部嵌设在凹槽内,在两者连接处形成迷宫式密封结构,有效防止了冷却水流的短路,提高隔板的密封效果和装置的冷却效率。
作为优选,所述沟槽的壁面上设有花纹结构,花纹结构增加了冷却水流的紊流作用,使水流的传热能力得到有效提升。
本实用新型的有益效果是:在基座本体上设计环状水道和隔板,通过导入冷却水源并循环流动而快速带走部分热量,能有效降低磁流体旋转装置的温升,使磁流体旋转装置表面温度保持在一个相对安全的较低温度,防止磁流体旋转装置各部件因温度过高而损坏,提高了装置的使用安全性和可靠性。
附图说明
图1是本实用新型的一种结构示意图。
图2是图1结构的剖面示意图。
图中1.基座本体,2.基座法兰,3.沟槽,4.进水孔,5.出水孔,6.隔板。
具体实施方式
下面通过实施例,并结合附图,对本实用新型的技术方案作进一步具体的说明。
实施例:本实施例的一种磁流体密封水冷装置,用于磁流体旋转装置,如图1和图2所示,水冷装置包括基座本体1和与基座本体固接的基座法兰2,基座本体的端部设计有环状的沟槽3,沟槽截面为矩形,沟槽顶部与基座法兰的下表面贴合构成密封的空腔,在空腔内安装有与空腔截面相吻合的且用于隔断空腔的隔板6,隔板的左右侧边和底边分别与沟槽的侧壁和底面贴合且焊接,隔板的顶边与基座法兰的底面贴合,基座本体上设计有与空腔相通的进水孔4和出水孔5,进水孔和出水孔分置于隔板的两侧。使用时,冷却水从进水孔流入,经环状空腔的循环从出水孔流出,将部分热量带走,有效降低了装置的温升,提升了装置的使用安全性和可靠性。
在本实用新型的描述中,技术术语“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“纵”、“横”、“内”、“外”等表示方向或位置关系是基于附图所示的方向或位置关系,仅是为了便于描述和理解本实用新型的技术方案,以上说明并非对本实用新型作了限制,本实用新型也不仅限于上述说明的举例,本技术领域的普通技术人员在本实用新型的实质范围内所做出的变化、改型、增添或替换,都应视为本实用新型的保护范围。
Claims (4)
1.一种磁流体密封水冷装置,用于磁流体旋转装置,其特征在于:所述水冷装置包括基座本体(1)和与基座本体固接的基座法兰(2),所述基座本体的端部设有环状的沟槽(3),所述沟槽与所述基座法兰的下表面构成密封的空腔,基座本体上设有与所述空腔相通的进水孔(4)和出水孔(5),所述空腔形成水流通道。
2.根据权利要求1所述的一种磁流体密封水冷装置,其特征在于:所述空腔内设有与空腔截面相吻合且用于隔断空腔的隔板(6),隔板的左右侧边和底边分别与沟槽(3)的侧壁和底面贴合且固接,隔板的顶边与所述基座法兰(2)的底面贴合,所述进水孔(4)和出水孔(5)分置于隔板的两侧。
3.根据权利要求2所述的一种磁流体密封水冷装置,其特征在于:所述基座法兰(2)底面与所述隔板(6)接触处设有凹槽,所述凹槽长度与隔板的顶边长度相吻合,凹槽宽度与隔板厚度相吻合,隔板顶部嵌设于凹槽内。
4.根据权利要求1或2或3所述的一种磁流体密封水冷装置,其特征在于:
所述沟槽的壁面上设有花纹结构。
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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CN201720535603.0U CN207131744U (zh) | 2017-05-15 | 2017-05-15 | 一种磁流体密封水冷装置 |
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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CN201720535603.0U CN207131744U (zh) | 2017-05-15 | 2017-05-15 | 一种磁流体密封水冷装置 |
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CN207131744U true CN207131744U (zh) | 2018-03-23 |
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ID=61631206
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CN201720535603.0U Active CN207131744U (zh) | 2017-05-15 | 2017-05-15 | 一种磁流体密封水冷装置 |
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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CN109157760A (zh) * | 2018-08-07 | 2019-01-08 | 中国原子能科学研究院 | 用于医疗装置中的旋转式束流拦阻装置 |
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2017
- 2017-05-15 CN CN201720535603.0U patent/CN207131744U/zh active Active
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