CN207035825U - 一种微型烧结系统 - Google Patents
一种微型烧结系统 Download PDFInfo
- Publication number
- CN207035825U CN207035825U CN201720965115.3U CN201720965115U CN207035825U CN 207035825 U CN207035825 U CN 207035825U CN 201720965115 U CN201720965115 U CN 201720965115U CN 207035825 U CN207035825 U CN 207035825U
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- sintering
- cabinet
- temperature
- mini
- atmosphere
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Landscapes
- Carbon And Carbon Compounds (AREA)
Abstract
本实用新型公开了一种微型烧结系统,包括烧结装置、真空系统、气氛系统、温度系统,且四者集成一个微型柜体内,所述烧结装置设置在微型柜体左侧上方的竖向柜体上,所述竖向柜体一侧设置有用于控制烧结装置、真空系统、气氛系统以及温度系统操作的控制屏,另一侧则设置有温度系统中用于温度监控的温度监控仪,所述竖向柜体正面设置有烧结装置的密封盖,所述竖向柜体背面设置有用于气氛系统的充气线路,外接泵体,所述竖向柜体下方设置有用于支撑竖向柜体的横向柜体,本实用新型通过改变烧结系统原来结构设计来形成一个占地面积小集成度高以及便于操作的微型烧结系统。
Description
技术领域
本实用新型涉及烧结系统领域,具体为占地面积小集成度高的微型烧结系统。
背景技术
烧结是指把粉状物料转变为致密体,是一个传统的工艺过程。人们很早就利用这个工艺来生产陶瓷、粉末冶金、耐火材料、超高温材料等。一般来说,粉体经过成型后,通过烧结得到的致密体是一种多晶材料,其显微结构由晶体、玻璃体和气孔组成。烧结过程直接影响显微结构中的晶粒尺寸、气孔尺寸及晶界形状和分布,进而影响材料的性能。
而烧结系统根据其加热环境以及加热方式的不同,可分为放电等离子烧结、热压烧结、电阻加热烧结,其中放电等离子烧结(Spark Plasma Sintering,简称SPS)工艺是将金属等粉末装入石墨等材质制成的模具内,利用上、下模冲及通电电极将特定烧结电源和压制压力施加于烧结粉末,经放电活化、热塑变形和冷却完成制取高性能材料的一种新的粉末冶金烧结技术,放电等离子烧结具有在加压过程中烧结的特点,脉冲电流产生的等离子体及烧结过程中的加压有利于降低粉末的烧结温度,放电等离子烧结法(SPS)通过在压粉坯粉粒间隙送入脉冲电能,将火花放电瞬时发生的高温等离子(放电等离子) 的高热能有效地应用于热扩散和电场扩散等,在由低温升温到 2000℃以上的超高温下,保温大约在5至20min左右的短时间内即可完成“烧结”或“烧结接合”,是新材料合成加工的新技术,这一新技术不同于传统的“放电烧结法”,所适用的材料种类非常多而且广泛,可用来合成包括纤维/颗粒复合材料、梯度功能材料、异种材料接合在内的复合材料,以及包括非晶态合金、磁性材料、金属间化合物、 硬质合金在内的金属材料,也可能用于多孔材料的结构控制,应用前景十分广泛。而热压烧结是将干燥粉料充填入模型内,再从单轴方向边加压边加热,使成型和烧结同时完成的一种烧结方法。其特点为热压烧结由于加热加压同时进行,粉料处于热塑性状态,有助于颗粒的接触扩散、流动传质过程的进行,因而成型压力仅为冷压的1/10;还能降低烧结温度,缩短烧结时间,从而抵制晶粒长大,得到晶粒细小、致密度高和机械、电学性能良好的产品。无需添加烧结助剂或成型助剂,可生产超高纯度的陶瓷产品。而电阻加热烧结
但是上述系统均存在设备体积大,造成占地面积大,尤其是对科研单位及大专院校,其实验场地比较小,不适宜放置在常规实验室中,放置场所需要重新设计,造成大量浪费。
实用新型内容
本实用新型的目的在于通过改变烧结系统原来结构设计来形成一个占地面积小集成度高以及便于操作的微型烧结系统。
为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:
一种微型烧结系统,其特征在于,包括烧结装置、真空系统、气氛系统、温度系统,且四者集成一个微型柜体内,其中,所述烧结装置设置在微型柜体左侧上方的竖向柜体上,所述竖向柜体一侧设置有用于控制烧结装置、真空系统、气氛系统以及温度系统操作的控制屏,另一侧则设置有温度系统中用于温度监控的温度监控仪,所述竖向柜体正面设置有烧结装置的密封盖,所述竖向柜体背面设置有用于气氛系统的充气线路,外接泵体,所述竖向柜体下方设置有用于支撑竖向柜体的横向柜体,所述横向柜体内部集成有烧结装置、真空系统、气氛系统以及温度系统的控制电路,所述烧结装置采用真空烧结模块,其包括加压装置和石墨碳管。
优选地,所述加压装置设置在竖向柜体顶部,包括设置烧结装置中烧结模块上方的上压头,且烧结模块外部的水冷真空室。
优选地,所述加压装置设置有压力控制器及位移控制系统,其中所述压力控制器发出的脉冲压力大小为0~200kN,频率为0~100Hz,所述压力控制器与驱动上压头的驱动元件相连接,所述位移控制系统包括依次相连接的传感器、采集卡、上位机、PLC控制系统和伺服阀,所述伺服阀用以控制上压头。
优选地,所述温度系统包括依次连接的温度监控仪、PLC控制系统和石墨碳管,所述烧结装置左侧设置有一个用于红外检测温度的通孔。
优选地,所述气氛系统包括进气系统和排气系统;所述进气系统包括一条快充气线路和一条慢充气线路,所述快充气线路包括快充阀和流量计,所述慢充气线路包括慢充阀和流量计,所述快充气线路的流速在3~30L/mim,所述慢充气线路的流速在1~10L/min,所述排气系统包括依次连接的气氛压力传感器、真空计、排气阀、手动放气阀和调节阀,所述调节阀可以改变阀口的大小,控制电流范围在4~20mA之间,所述调节阀后连接有过滤器和旋片式直连泵。
而一种微型烧结系统的烧结方法,包括以下步骤:
S1、将竖向柜体中烧结装置密封盖打开,被烧结物放入烧结装置中,密封后通过控制屏控制微型烧结系统抽取真空至5pa;
S2、通过控制屏控制加压装置中的上压头位移,对模具施加压力,压力范围在2-15kN,稳压1-5min;
S3、通过控制屏控制温度系统中的石墨碳管,使得温度调整在500-2000℃波动,保持一定时间;
S4、加工完成后,待被烧结物冷却至室温取出。
与现有技术相比,本实用新型的有益效果如下:
1、本微型烧结系统在其结构优化,通过合理的布置,使得整个烧结系统的占地面积小,且竖向高度控制在一定范围内,便于实验室或其他研究机构进行使用;
2、本微型烧结系统具有其他大型烧结系统的全部功能,且智能化、集成度高,操作人员可直接通过控制屏完成烧结系统的全部操作,并通过控制屏查看整个烧结过程中各个部位的具体参数。
附图说明
图1为本实用新型微型烧结系统的正视图;
图2为本实用新型微型烧结系统的示意图;
图3为本实用新型微型烧结系统的结构示意图。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。
请参阅图1-3,本实用新型提供一种技术方案:该微型烧结系统,包括烧结装置1、真空系统、气氛系统、温度系统,且四者集成一个微型柜体100内,其中,所述烧结装置1设置在微型柜体100左侧上方的竖向柜体101上,所述竖向柜体101一侧设置有用于控制烧结装置1、真空系统、气氛系统以及温度系统操作的控制屏5,另一侧则设置有温度系统中用于温度监控的温度监控仪4,所述竖向柜体101正面设置有烧结装置1的密封盖11,所述竖向柜体101背面设置有用于气氛系统的充气线路3,外接泵体31,所述竖向柜体101下方设置有用于支撑竖向柜体101的横向柜体102,所述横向柜体102内部集成有烧结装置1、真空系统、气氛系统以及温度系统的控制电路,所述烧结装置1采用真空烧结模块,其包括加压装置6和石墨碳管73。所述石墨碳管布置在烧结模具8中。
所述加压装置6设置在竖向柜体101顶部,包括设置烧结装置1中烧结模块上方的上压头61,且烧结模块外部的水冷真空室2。
所述加压装置6设置有压力控制器及位移控制系统,其中所述压力控制器发出的脉冲压力大小为0~200kN,频率为0~100Hz,所述压力控制器与驱动上压头61的驱动元件相连接,该驱动元件可以为液压缸或者气缸或者其他机械传动方式,以此来实现单侧压头的脉冲式或单一式压合,其中多选用单侧压头的脉冲式或单一式压合方式,带来的压合效果更好,稳定性更高。所述位移控制系统包括依次相连接的传感器、采集卡、上位机、PLC控制系统和伺服阀,所述伺服阀用以控制上压头61。所述传感器包括力传感器与位移传感器,力传感器和位移传感器设置在上压头处,便于传感的精准性。由于本系统数据量较为庞大,采用普通的PLC控制系统自带的采集模块无法完成采集,因此PLC配合采集卡、上位机进行数据的采集和分析,同时采集卡采用10KHz的规格,保证数据的正常采集。
所述温度系统包括依次连接的温度监控仪4、PLC控制系统和石墨碳管73,所述烧结装置1左侧设置有一个用于红外检测温度的通孔41。
所述气氛系统包括进气系统和排气系统;所述进气系统包括一条快充气线路和一条慢充气线路,所述快充气线路包括快充阀和流量计,所述慢充气线路包括慢充阀和流量计,所述快充气线路的流速在3~30L/mim,所述慢充气线路的流速在1~10L/min,所述排气系统包括依次连接的气氛压力传感器、真空计、排气阀、手动放气阀和调节阀,所述调节阀可以改变阀口的大小,控制电流范围在4~20mA之间,所述调节阀后连接有过滤器和旋片式直连泵。
而一种微型烧结系统的烧结方法,包括以下步骤:
S1、将竖向柜体101中烧结装置1密封盖11打开,被烧结物放入烧结装置1中,密封后通过控制屏5控制微型烧结系统抽取真空至5pa;
S2、通过控制屏5控制加压装置6中的上压头61位移,对模具施加压力,压力范围在2-15kN,稳压1-5min;
S3、通过控制屏5控制温度系统中的石墨碳管73,使得温度调整在500-2000℃波动,保持一定时间;
S4、加工完成后,待被烧结物冷却至室温取出。
尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例,对于本领域的普通技术人员而言,可以理解在不脱离本实用新型的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型,本实用新型的范围由所附权利要求及其等同物限定。
Claims (5)
1.一种微型烧结系统,其特征在于,包括烧结装置、真空系统、气氛系统、温度系统,且四者集成一个微型柜体内,其中,所述烧结装置设置在微型柜体左侧上方的竖向柜体上,所述竖向柜体一侧设置有用于控制烧结装置、真空系统、气氛系统以及温度系统操作的控制屏,另一侧则设置有温度系统中用于温度监控的温度监控仪,所述竖向柜体正面设置有烧结装置的密封盖,所述竖向柜体背面设置有用于气氛系统的充气线路,外接泵体,所述竖向柜体下方设置有用于支撑竖向柜体的横向柜体,所述横向柜体内部集成有烧结装置、真空系统、气氛系统以及温度系统的控制电路,所述烧结装置采用真空烧结模块,其包括加压装置和石墨碳管。
2.根据权利要求1所述的一种微型烧结系统,其特征在于,所述加压装置设置在竖向柜体顶部,包括设置烧结装置中烧结模块上方的上压头,且烧结模块外部的水冷真空室。
3.根据权利要求2所述的一种微型烧结系统,其特征在于,所述加压装置设置有压力控制器及位移控制系统,其中所述压力控制器发出的脉冲压力大小为0~200kN,频率为0~100Hz,所述压力控制器与驱动上压头的驱动元件相连接,所述位移控制系统包括依次相连接的传感器、采集卡、上位机、PLC控制系统和伺服阀,所述伺服阀用以控制上压头。
4.根据权利要求3所述的一种微型烧结系统,其特征在于,所述温度系统包括依次连接的温度监控仪、PLC控制系统和脉冲电流发生器,所述烧结装置左侧设置有一个用于红外检测温度的通孔。
5.根据权利要求4所述的一种微型烧结系统,其特征在于,所述气氛系统包括进气系统和排气系统;所述进气系统包括一条快充气线路和一条慢充气线路,所述快充气线路包括快充阀和流量计,所述慢充气线路包括慢充阀和流量计,所述快充气线路的流速在3~30L/mim,所述慢充气线路的流速在1~10L/min,所述排气系统包括依次连接的气氛压力传感器、真空计、排气阀、手动放气阀和调节阀,所述调节阀可以改变阀口的大小,控制电流范围在4~20mA之间,所述调节阀后连接有过滤器和旋片式直连泵。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201720965115.3U CN207035825U (zh) | 2017-08-04 | 2017-08-04 | 一种微型烧结系统 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201720965115.3U CN207035825U (zh) | 2017-08-04 | 2017-08-04 | 一种微型烧结系统 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN207035825U true CN207035825U (zh) | 2018-02-23 |
Family
ID=61473824
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201720965115.3U Active CN207035825U (zh) | 2017-08-04 | 2017-08-04 | 一种微型烧结系统 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN207035825U (zh) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN107314676A (zh) * | 2017-08-04 | 2017-11-03 | 浙江晨华科技有限公司 | 一种微型烧结系统 |
-
2017
- 2017-08-04 CN CN201720965115.3U patent/CN207035825U/zh active Active
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN107314676A (zh) * | 2017-08-04 | 2017-11-03 | 浙江晨华科技有限公司 | 一种微型烧结系统 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN106238732B (zh) | 一种放电等离子烧结系统 | |
CN105135873B (zh) | 一种动态压力电脉冲双场控烧结炉及烧结方法 | |
CN107052350B (zh) | 一种连接钨材与铜材的方法 | |
CN201697857U (zh) | 用于压裂支撑剂的检测装置 | |
CN106045482B (zh) | 稀土氧化物掺杂氧化铝基高性能金属熔体定氢探头材料的制备方法 | |
CN207035825U (zh) | 一种微型烧结系统 | |
CN206330417U (zh) | 一种单向振荡压力的陶瓷材料致密化烧结炉 | |
CN207066126U (zh) | 一种微型烧结系统 | |
CN207006862U (zh) | 一种微型烧结系统 | |
CN107314676A (zh) | 一种微型烧结系统 | |
CN111122340A (zh) | 一种破碎岩体多场耦合试验及监测系统 | |
CN104316260A (zh) | 适用于高温环境微压力传感器的校准系统 | |
CN205537095U (zh) | 一种基于加压的微波加热烧结炉 | |
CN107988541A (zh) | 微波烧结制备纳米晶硬质合金的方法 | |
CN105256161A (zh) | 一种Ag2Se块体热电材料的免烧致密化制备工艺 | |
CN110469301B (zh) | 一种用于大尺度模型下稠油热采三维注采模拟装置 | |
CN206474677U (zh) | 一种热等静压装置 | |
CN102826856A (zh) | 一种高纯低密度ito靶材及其制备方法 | |
CN110044799A (zh) | 非均质含煤岩系注氮运移路径及渗透率测试装置及方法 | |
CN109128171A (zh) | 一种细化增材制造钛合金晶粒的装置 | |
CN116379767B (zh) | 一种立体热压振荡烧结炉 | |
CN204584267U (zh) | 一种静压机装置 | |
CN115165502A (zh) | 试验岩样的制备方法和多场耦合试验方法 | |
Urbanovich | Computerized system for the sintering of nanoceramics at high pressures | |
CN206114680U (zh) | 一种工程力学用疲劳实验机 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
GR01 | Patent grant | ||
GR01 | Patent grant | ||
TR01 | Transfer of patent right |
Effective date of registration: 20181026 Address after: 200000 room 17006, East Daming Road, Shanghai 17006. Patentee after: SHANGHAI CHENHUA TECHNOLOGY CO., LTD. Address before: 313000 No. 66, eight Li shop, Tian Lu, Wuxing District, Huzhou, Zhejiang. Patentee before: Zhejiang morning Technology Co., Ltd. |
|
TR01 | Transfer of patent right |