CN206985701U - 一种超高纯氢气、氩氦气纯化系统 - Google Patents

一种超高纯氢气、氩氦气纯化系统 Download PDF

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Abstract

本实用新型涉及半导体、LED、光伏太阳能生产等领域,具体的涉及一种超高纯氢气、氩氦气纯化系统。主要技术方案如下:包括机械装置和控制系统;所述的机械装置包括依次连通的原料气入口、程控阀门、吸附干燥器、换热器、吸气反应器、水冷却器;所述的吸附干燥器包括吸附干燥器A、吸附干燥器B,所述的吸附干燥器A、吸附干燥器B循环作为吸附反应器和再生反应器,所述的吸附干燥器A、吸附干燥器B内设有温度传感器、电加热器、储热机构;本实用新型的对原料气中O2、H2O、CO、CO2、N2、CH4、TCH等杂质深度脱出,解决了气体杂质影响电子行业生产器件,造成电子元件质量下降的问题。

Description

一种超高纯氢气、氩氦气纯化系统
技术领域
本实用新型属于半导体、LED、光伏太阳能生产等领域,具体涉及光电子行业生产用保护气,更具体的为一种超高纯氢气、氩氦气纯化系统。
背景技术
目前,我国纯化氢气、氩氦气采用最普遍的一种技术是前端催化脱氧,后端干燥脱水。此项技术脱氧过程中会产生大量的反应水;且只能脱除氢气中的氧、水,而对于H2、CO、CH4、TCH、N2等杂质则不能去除,而这些杂质对电子器件的生产质量有重要影响,故现有纯化方法不能满足国内大规模集成电路生产需求。
发明内容
为弥补现有技术的不足,本实用新型提供一种超高纯氢气、氩氦气纯化系统,对原料气中O2、H2O、CO、CO2、N2、CH4、TCH等杂质深度脱出,解决了气体杂质影响电子行业生产器件,造成电子元件质量下降的问题。
本实用新型的技术方案如下:一种超高纯氢气、氩氦气纯化系统,包括机械装置和控制系统;
所述的机械装置包括依次连通的原料气入口、程控阀门、吸附干燥器、换热器、吸气反应器、水冷却器;
所述的吸附干燥器包括吸附干燥器A、吸附干燥器B,所述的吸附干燥器A、吸附干燥器B循环作为吸附反应器和再生反应器,所述的吸附干燥器A、吸附干燥器B内设有温度传感器、电加热器、储热机构;所述的吸附干燥器A、吸附干燥器B通过程控阀门连接再生气入口,所述的水冷却器分别与冷却水入口和冷却水出口连接;
所述的吸气反应器包括吸气反应器A、吸气反应器B,所述的吸气反应器A、吸气反应器B内设有加热管;
所述的控制系统包括中央控制单元、以及分别与中央控制单元连接的流量计、程控阀门、交流接触器、压力传感器、加温元件。
进一步的,所述的吸附干燥器A、吸附干燥器B内设有脱氧剂;所述的吸气反应器A、吸气反应器B内设有吸气剂,所述的脱氧剂、吸气剂为本领域常规原料,作为优选,本实用新型的脱氧剂选用申请号为201410407743.0中公开的脱氧剂,杂质脱除深度高,抗波动能力强;进一步的,所述的吸气剂为金属吸气剂,所述的金属吸气剂由锆、钒、铁组成,其中锆约占60%-75%、钒占约20%-25%、铁占3%-10%。
本实用新型的有益效果如下:本实用新型的对氢气或氩氦气中 O2、H2O、CO、CO2、N2、CH4、TCH等杂质深度脱出,解决了气体杂质影响电子行业生产器件,造成电子元件质量下降的问题。纯化系统干燥脱氧工序采用两塔纯化流程,其中一个吸附干燥器工作(吸收杂质),另一个吸附干燥器则进行再生(或保压待用),这样两个吸附干燥器交替工作和再生,从而可实现对原料气的连续净化。
附图说明
图1为本实用新型的结构示意图;
其中:1、吸附干燥器A,2、吸附干燥器B,3、吸气反应器A, 4、换热器,5、吸气反应器B,6、原料气入口,7、水冷却器,8、再生气入口,9、冷却水入口,10、冷却水出口、11、产品气出口、 12、废气排放出口、13、流量计。
具体实施方式
下面结合附图对本实用新型做进一步说明:
如图1所示,一种超高纯氢气、氩氦气纯化系统,包括机械装置和控制系统;所述的机械装置包括依次连通的原料气入口6、程控阀门、吸附干燥器、换热器4、吸气反应器、水冷却器7;所述的吸附干燥器包括吸附干燥器A1、吸附干燥器B2,所述的吸附干燥器A1、吸附干燥器B2循环作为吸附反应器和再生反应器,所述的吸附干燥器A1、吸附干燥器B2内设有温度传感器、电加热器、储热机构;所述的吸附干燥器A1、吸附干燥器B2通过程控阀门连接再生气入口8,所述的水冷却器7分别与冷却水入口9和冷却水出口10连接;所述的吸气反应器包括吸气反应器A3、吸气反应器B5,所述的吸气反应器A3、吸气反应器B5内设有加热管;所述的控制系统包括中央控制单元、以及分别与中央控制单元连接的流量计13、程控阀门、交流接触器、压力传感器、加温元件。所述的吸附干燥器A1、吸附干燥器B2内设有脱氧剂;所述的吸气反应器A3、吸气反应器B5内设有吸气剂。
本实用新型的纯化系统的工作原理和过程说明如下:
纯化工艺由两塔干燥脱氧工序(W)和吸气工序(X)两个工序组成。原料气首先进入干燥脱氧工序,在脱氧剂的作用下,将气体中的 O2、H2O、CO2等杂质;然后进入吸气工序深度脱除气体中的N2、CH4、 TCH等杂质。干燥脱氧工序采用脱氧剂脱除杂质有一定容量,当脱氧剂吸收杂质达到饱和后,可通入氮氢混合气对其进行再生。干燥脱氧工序采用两塔纯化流程,其中一个吸附干燥器工作(吸收杂质),另一个吸附干燥器则进行再生(或保压待用),这样两个吸附干燥器交替工作和再生,从而可实现对原料气的连续净化。具体分为以下步骤:
1)原料气进入干燥脱氧工序。本工序中采用申请号为 201410407743.0中公开的脱氧剂,杂质脱除深度高,抗波动能力强;吸附干燥器集成内电加热器,升温速度快,内置储热机构,短时间断电,不影响产气指标。工序由吸附干燥器、阀门组(自动设备采用气开膜片阀)、再生气冷却器、以及相关的流量计仪表等组成。
吸附干燥器内装脱氧剂,气体中的氧在常温下与还原态的脱氧剂发生反应而得到脱除:脱氧:O2+AO—AO2
脱氧剂吸附杂质有一定容量,当脱氧剂吸附饱和后,可加热通氮氢混合气对其进行再生。
再生:
本工序所采用脱氧剂为经过改性处理的专用产品,同时具备深度脱除水和CO2的功能,吸附饱和后在脱氧剂再生时可同步再生,恢复吸附活性。
两台吸附干燥器交替进行工作和再生以实现对原料气的连续净化。从而保证使用企业的连续、不间断生产。
2)经过脱氧干燥后的气体,进入后续吸气工序。深度脱除其中的CO、CO2、N2、CH4、TCH等杂质纯化至ppb级。纯化后的氢气、氩氦气输送至使用点。
3)整套系统采用Siemens公司的S7系列PLC作为中心控制单元,采用触摸控制屏对整个生产工艺过程实施监测和控制。具备自动再生时序控制(阀门开关、温度控制)、自动、手动操作、运行状态监控等功能。可实现远程监控或接入客户的中央控制系统(MODBUS),并可实现双控平台。
4)本系统温度控制由PLC、固态继电器、热电偶、电加热器等组成。系统各反应器温度由热电偶进行检测并将信号传给PLC,PLC 则根据预先编制、设定的程序和条件,控制固态继电器电流的通断,以控制电加热器的开、停,从而对各反应器的温度进行控制。具有加热功能的反应器具有3点温控,通常其中任何一点达到设定的报警或联锁温度都会发出报警或联锁。控制系统还可在反应器温度、压力、流量、冷却水断流等异常情况时报警和根据情况进行自动联锁等。
报警说明:当PLC得到的反馈信号异常,并且持续超过所设定的报警值的时间超过抗波延时(避免波动导致误报警),装置将发出报警信号。可人工进入报警显示界面,根据提示判断故障点。所有的报警信息都会记录在报警列表里。报警时装置仍保持净化产气状态。
联锁说明:联锁操作在报警之后,或同时发出报警。部分报警信号在设定的时间内没有得到处理,或信号超标达到所设定的联锁值,装置将根据情况自动采取相应的联锁方案,以避免危险事故的发生。非跨线联锁,不会中断产气,但再生步骤等将停止。
以上自控方案可靠地保证了填料再生效果和整套系统的安全。以下以纯化氢气为例对本实用新型的纯化具体过程进行说明:
原料氢气经入口阀门、流量计13后通过程控阀门进入吸附干燥器A1,深度脱出原料氢气中的氧、水、二氧化碳等杂质后,经出口阀门输送至换热器4,换热后的气体进入吸气反应器3和吸气反应器 5,在温度为450-550℃和吸气剂的作用下,将气体中的N2、CO、CH4、TCH等杂质,转化为H2O和CO2而除去,同时吸收H2O、CO2、O2,纯化后的氢气经水冷却器7冷却后送往使用点。当一台吸附干燥器处于吸附产气步骤时,则另一台吸附干燥器则处于再生的不同步骤,每台吸附干燥器经历相同的步骤程序。
下面以吸附干燥器A1为例说明每台吸附器的工作过程如下(以下步骤均在PLC的控制下全自动运行,所有加热的温度、各个时序的时间可进行设定):
1)吸附(A)
原料气自下而上通过吸附干燥器A1,原料气中的氧、二氧化碳、水被吸附分离。吸附工作的时间为工作周期,工作周期可根据设备参数进行设定,并需要在实际工作中根据实际情况进行调整。
过程压力:工作压力。
过程温度:常温。
步骤执行时间:半个周期。
2)切换
当吸附干燥器A1吸附产气时间达到切换时间后,切塔至备用吸附干燥器B2工作,结束工作的吸附器进行再生。切换操作过程说明如下:
切塔(操作):2分钟,
确认备用吸附干燥器B2三点温度(TIC1/2/3)均小于切换许可温度(60℃)时,PLC发出打开备用吸附干燥器B2入口及其出口阀门信号,根据回信确认出口阀门打开-关闭结束工作的吸附干燥器A 入口及其出口阀门。
如吸附干燥器B2三点温度(TIC1/2/3)有任一点大于切换许可温度(60℃),则不切换,并报警。
如在规定的阀门报警判断时间内标准设定为30秒,经阀门回信判断,阀门没有打开,则切换时序暂停(吸附干燥器A继续保持加热状态,并发出报警信号。故障排除后,手动暂停返回继续运行,仍首先判断阀门回信位置是否正确,正确时序继续执行)。
结束工作的吸附干燥器则进入再生阶段。再生步骤一般由卸压、再生、吹冷、充压等几个步骤组成,总时间约为24~36小时(再生各段时间均可设定)。吸附干燥器再生完毕后,保压待用,待另一台吸附器结束工作时,切换至进行原料处理。以下以吸附干燥器A1为例说明再生步骤:
3)卸压(A)
确认再生吸附干燥器A1入、出口阀门回信显示为关闭,打开再生吸附干燥器A1再生放空阀,由卸压限流阀的旁通管缓慢卸压至常压,以避免吸附干燥器A1压力剧烈波动影响填料寿命,执行时间达到步骤执行时间后,确认吸附干燥器A1压力小于再生许可压力(标准设定为0.1Mpa)后执行下一步骤(再生步骤)。如不小于再生压力,则继续卸压,推迟执行下一步,直至再生吸附干燥器A1的压力小于再生压力。
过程压力:由工作压力降至常压(当时外界大气压)。
过程温度:常温。
步骤执行时间:约为30min。
4)再生
打开再生吸附干燥器A1内的电加热器给吸附干燥器A1加热,同时打开再生气阀门抽取确定量产品氢气,打开再生气阀门配入确定量的氮气,此次氢气和氮气的量根据容器的大小确定,打开再生吸附器再生气入口阀、打开卸压限流阀再生吸附干燥器A1再生气出口阀通入再生氮气、氢气对吸附干燥器A1进行再生。用手动阀调节再生氮气、氢气流量至额定流量。
再生时脱氧剂生成的水以及解吸出来的水和CO2被再生气体携带出吸附干燥器A1,再通过阀门保护冷却器冷却后放空。
过程压力:常压。
再生温度:控制为260℃。
步骤执行时间:约为16hr。
5)吹扫冷却
当脱氧剂再生完毕后,停止加热。关闭再生氢气入口阀,停止加入再生氢气,继续用再生气吹扫吸附干燥器A1,直到步骤时间结束后,确认吸附干燥器A1的三点温度(TICA1/2/3)温度均低于切换许可温度(60℃),执行下一步,如确认步骤时间结束吸附干燥器A1的三点温度(TICA1/2/3)有任一点的温度大于60℃,则继续吹扫,推迟执行下一步直到确认吸附干燥器A1的三点温度(TICA1/2/3)温度均低于60℃后开始执行下一步骤。
过程压力:常压。
过程温度:从260℃到常温。
步骤执行时间:约为12hr。
6)充压:
再生结束后用产品气给吸附干燥器A1升压至工作压力,以避免切换时压力波动过大影响吸附剂寿命。
关闭吸附干燥器A1再生放空阀、卸压限流阀,用产品气给吸附干燥器A1升压,
过程压力:常压到工作压力。
过程温度:常温;
步骤执行时间:约为25min。
7)备用:
升压时间结束后关闭再生阀门,再生吸附器再生气入口阀。进入保压备用步骤。至此吸附干燥器A1完成了一个工作循环,然后处于保压待用状态,等待该半周期结束。开始准备进行下一个循环。
过程压力:常压到工作压力。
过程温度:常温;
步骤执行时间:至工作吸附器工作周期结束。
综上,大处理量超高纯纯化系统由自控系统全自动控制,实现对原料气的纯化。

Claims (2)

1.一种超高纯氢气、氩氦气纯化系统,其特征在于:包括机械装置和控制系统;
所述的机械装置包括依次连通的原料气入口(6)、程控阀门、吸附干燥器、换热器(4)、吸气反应器、水冷却器(7);
所述的吸附干燥器包括吸附干燥器A(1)、吸附干燥器B(2),所述的吸附干燥器A(1)、吸附干燥器B(2)循环作为吸附反应器和再生反应器,所述的吸附干燥器A(1)、吸附干燥器B(2)内设有温度传感器、电加热器、储热机构;所述的吸附干燥器A(1)、吸附干燥器B(2)通过程控阀门连接再生气入口(8),所述的水冷却器(7)分别与冷却水入口(9)和冷却水出口(10)连接;
所述的吸气反应器包括吸气反应器A(3)、吸气反应器B(5),所述的吸气反应器A(3)、吸气反应器B(5)内设有加热管;
所述的控制系统包括中央控制单元、以及分别与中央控制单元连接的流量计(13)、程控阀门、交流接触器、压力传感器、加温元件、报警装置。
2.如权利要求1所述的超高纯氢气、氩氦气纯化系统,其特征在于,所述的吸附干燥器A(1)、吸附干燥器B(2)内设有脱氧剂;所述的吸气反应器A(3)、吸气反应器B(5)内设有吸气剂。
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GR01 Patent grant
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Denomination of utility model: A Ultra High Purity Hydrogen, Argon, and Helium Purification System

Effective date of registration: 20230504

Granted publication date: 20180209

Pledgee: China Construction Bank Corporation Dalian high tech Industrial Park sub branch

Pledgor: DALIAN ZHONGDING CHEMICAL Co.,Ltd.

Registration number: Y2023210000093

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