CN206945405U - 样本处理装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及一种样本处理装置，包括：壳体，所述壳体上具有放置可安放玻片的玻片架的放置部，位于所述壳体内对所述玻片架上的玻片进行染色的染色装置，带动所述染色装置进行升降运动的升降装置，使所述升降装置进行水平运动的水平运动装置，向所述染色装置中提供液体和从所述染色装置中回收液体的液路系统，控制所述液路系统的第一控制器，控制所述升降装置进行升降运动及所述水平运动装置进行水平运动第二控制器。玻片架放置于放置部，与壳体相对静止，由升降装置及水平运动装置共同作用带动染色装置相对壳体和玻片架进行移动，避免因玻片架在移动过程中，玻片架掉到染缸之外，造成玻片架上的玻片损坏。

Description

样本处理装置

技术领域

本实用新型涉及体外诊断技术领域，更具体地说，涉及一种对样本进行染色的样本处理装置。

背景技术

目前在医院的病理科或各类研究所或生物医药公司均需要对脱落细胞 (如宫颈筛查)或生物组织(如动物或人体的局部组织)或血液进行切片染色后，医生通过对组织内的细胞核与细胞质的变异情况进行显微镜观察后才能对各类病症进行精确的诊断，例如判断如是否有炎症、是良性肿瘤还是恶性肿瘤等。

现在进行载玻片染色时，主要有三种方法：一是滴染法，滴染法是染色液自然滴落玻片进行染色，具有染色不均匀、染液消耗量大、染片一致性差的缺点。二是喷染法，喷染法是将染色液雾化，将染液喷出至玻片上，采用喷染法则产生易堵喷头的问题，且对仪器的密封性和对泵压力要求高。三是浸染法，即将载玻片浸泡在染液中进行染色，其存在易在玻片上形成染液渍的缺点。

目前全自动样本处理装置中多采用浸染的方式对玻片进行染色，中国专利CN201110306858.7中公开了一种染色机，包括染色柜，染色柜上具有若干个试剂缸，位于染色柜上方的用于悬挂玻片吊篮架的吊钩、用于固定吊钩的横梁、位于横梁上的偏心电机和电机卡，所述的电机卡与横梁固定连接，所述的偏心电机与电机卡固定连接；将装有玻片的吊篮架放置到试剂缸内；当满足漂染时间，吊钩下降扣住吊篮架，吊钩提起吊篮架向上移动。

中国专利CN201410131971.X公开了一种染色机，包括箱体、位于箱体内的多个试剂缸、玻片架和机械臂，还包括用于盖住所述多个试剂缸的缸盖；机械臂包括玻片架夹持组件和缸盖夹持组件；旋转驱动单元用于驱动所述缸盖夹持单元旋转以产生至少一个取放工作位和一个偏移工作位；在取放工作位，缸盖夹持单元位于所述玻片夹持单元的正下方；在所述偏移工作位，缸盖夹持单元偏离玻片夹持单元的正下方，以使得所述玻片夹持单元能够向下移动以从试剂缸内夹取玻片架或将夹持的玻片架放入试剂缸。

中国专利CN201110306858.7所公开的染色机为通过吊钩移动吊篮，从而将吊篮放入不同的试剂缸中进行染色操作。中国专利CN201410131971.X所公开的染色机为通过机械臂上的玻片架夹持组件将玻片架放入不同的试剂缸中。上述专利中公开的方案均存在因吊钩或夹持组件在钩取或抓取玻片架过程中，因抓取不稳，玻片架掉到染缸之外，造成玻片架上的玻片损坏；或是玻片架掉入染缸中，染缸中的染液飞溅，从而污染其他染缸中的染液或清洗液，污染仪器；或是移动过程中，由于抓取不稳而造成玻片架的晃动，从而将玻片架上的液体甩到其他的染缸或清洗缸中，造成其他缸中的染液或清洗液被污染，仪器其他部件的污染的问题。

实用新型内容

有鉴于此，本实用新型的目的是提供一种避免因抓取不稳造成玻片损坏或污染其他染缸中的染液的染色装置。

为了达到上述目的，本实用新型提供如下技术方案：

一种样本处理装置，包括：壳体,所述壳体上具有放置可安放玻片的玻片架的放置部，位于所述壳体内对所述玻片架上的玻片进行染色的染色装置，带动所述染色装置进行升降运动的升降装置，使所述升降装置进行水平运动的水平运动装置，向所述染色装置中提供液体和从所述染色装置中回收液体的液路系统，控制所述液路系统的第一控制器，控制所述升降装置进行升降运动及所述水平运动装置进行水平运动第二控制器。

优选的，所述升降装置包括竖直驱动机构，用于承载所述染色装置的承载机构，用于探测所述承载机构升降位置的感应单元，所述承载机构与所述驱动机构滑动连接，所述驱动机构驱动所述承载机构进行升降运动。

优选的，所述水平运动装置包括支架，固定于所述支架上的水平驱动机构，安装于所述支架上的水平导向机构，设置于水平导向机构上用于固定所述升降装置的固定机构，用于探测所述升降装置水平运动位置的探测单元。

优选的，所述染色装置包括可容纳液体的腔体，所述腔体包括底壁和侧壁。

优选的，所述放置部的四周具有能与所述腔体侧壁上端紧密接触的密封件。

优选的，所述水平驱动机构包括电机，固定于所述电机输出端的主动轮，安装于所述支架上的从动轮，套设在所述主动轮与所述从动轮上的传送带；所述固定机构包括安装有所述升降装置的固定板，所述固定板的一端固定有挡片，所述传送带通过连接件与所述挡片连接；所述探测单元包括设置在所述支架上的传感器；通过所述挡片与所述传感器来确定所述固定板的位置。

优选的，所述传感器至少为2个，所述传感器位于同一直线上且所述直线与所述传送带平行。

优选的，所述传感器为2个。

本实用新型通过升降装置和水平运动装置驱动染色装置移动，避免因玻片架在移动过程中，玻片架掉到染缸之外，造成玻片架上的玻片损坏；或是玻片架掉入染缸中，染缸中的染液飞溅，从而污染其他染缸中的染液或清洗液，污染仪器；或是玻片架晃动，从而将玻片架上的液体甩到其他的染缸或清洗缸中，造成其他缸中的染液或清洗液被污染，仪器其他部件的污染。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据提供的附图获得其他的附图。

图1为染色装置的一种实施方式的立体结构示意图；

图2为染色装置俯视结构示意图；

图3为第一腔体竖直剖面结构示意图；

图4为第二腔体竖直剖面结构示意图；

图5为第二腔体缓冲腔处第二染液注入口和第三染液注入口放大示意图；

图6为与第一腔体相连的液路结构示意图；

图7为样本处理装置中的染色装置、升降装置和水平运动装置位置关系示意图；

图8为水平运动装置立体结构示意图；

图9为样本处理装置立体结构示意图。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。以下对至少一个示例性实施例的描述实际上仅仅是说明性的，决不作为对本实用新型及其应用或使用的任何限制。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

除非另外具体说明，否则在这些实施例中阐述的部件和步骤的相对布置、数字表达式和数值不限制本实用新型的范围。同时，应当明白，为了便于描述，附图中所示出的各个部分的尺寸并不是按照实际的比例关系绘制的。对于相关领域普通技术人员已知的技术、方法和设备可能不作详细讨论，但在适当情况下，技术、方法和设备应当被视为授权说明书的一部分。在这里示出和讨论的所有示例中，任何具体值应被解释为仅仅是示例性的，而不是作为限制。因此，示例性实施例的其它示例可以具有不同的值。应注意到：相似的标号和字母在下面的附图中表示类似项，因此，一旦某一项在一个附图中被定义，则在随后的附图中不需要对其进行进一步讨论。

为了便于描述，在这里可以使用空间相对术语，如“在……之上”、“在……上方”、“在……上表面”、“上面的”等，用来描述如在图中所示的一个器件或特征与其他器件或特征的空间位置关系。应当理解的是，空间相对术语旨在包含除了器件在图中所描述的方位之外的在使用或操作中的不同方位。例如，如果附图中的器件被倒置，则描述为“在其他器件或构造上方”或“在其他器件或构造之上”的器件之后将被定位为“在其他器件或构造下方”或“在其他器件或构造之下”。因而，示例性术语“在……上方”可以包括“在……上方”和“在……下方”两种方位。该器件也可以其他不同方式定位(旋转90度或处于其他方位)，并且对这里所使用的空间相对描述作出相应解释。

如图1-6所示，染色装置，包括：缸体2，缸体2具有可容纳液体的腔体，第一分隔部24和第二分隔部25共同将腔体分为第一腔体20，第二腔体21和第三腔体22，其中第一腔体20，第二腔体21和第三腔体22互不相通，且第一腔体20，第二腔体21和第三腔体22并列排列。缸体2的侧壁具有供液体溢出的第一通道204、第二通道214和第三通道223，其中第一通道204、第二通道214及第三通道223分别与第一腔体20，第二腔体21 和第三腔体22相对应，且第三通道223与腔体底壁的垂直距离大于第二通道214与腔体底壁的垂直距离，第二通道214与腔体底壁的垂直距离大于第一通道204与腔体底壁的垂直距离。缸体2的侧壁还具有分别与第一腔体 20，第二腔体21和第三腔体22相对应的第一电极203，第二电极213和第三电极222，且第一电极203，第二电极213和第三电极222所在的侧壁与第一通道204、第二通道214及第三通道223所在侧壁相邻或相对。第一电极203，第二电极213和第三电极222均为两根长度相同的电极棒组成，也可以是电极片或电极针或电极球等，凡是能够形成电导通的结构对于本领域的技术人员而言均为显而易见的；且第一电极203，第二电极213和第三电极222的电极棒长度均相同。

本实施例中，第一通道204、第二通道214和第三通道223可以均为溢出口，也可以均为溢出孔，还可以为溢出口与溢出孔的组合，凡是能够供液体流出的结构对于本领域的技术人员而言均为显而易见的。

其中第一腔体20还包括位于与第一电极203同一侧壁上端的第一清洗液注入口202；位于倾斜设置的腔体底壁的最低处的缓冲腔201，与缓冲腔 201相通，且位于缓冲腔201侧壁上第一染液注入口205，与缓冲腔201直接相连的第一排液口206。当通过第一染液注入口205向第一腔体20中注入染液时，双通道夹管阀207a工作，常闭端打开，第一排液口处的阀(图中未示出)关闭，同时微型隔膜泵208启动，染液便从染液瓶209中泵送至第一腔体20中。当第一腔体20中的染液液面与第一电极203的两根电极棒接触时，两个电极棒之间形成电导通，第一控制器检测到该信号，控制第一微型隔膜泵208停止泵送染液，同时双通道夹管阀207a常闭端关闭，此时第一腔体20中的染液液面与第一通道204持平，染液并不会从第一通道204 中溢出。

第二腔体21还包括位于与第二电极213同一侧壁上端的第二清洗液注入口212；位于底壁最低处的缓冲腔211，与缓冲腔211相通，且位于缓冲腔211侧壁上第二染液注入口215，第三染液注入口216；与缓冲腔201直接相连的第一排液口206；其中第二染液注入口215及第三染液注入口216 在缓冲腔211相通处位于同一水平面，且第二染液注入口215和第三染液注入口216分别位于缓冲腔211的两侧相对设置。当向第二腔体21中注入染液时，先通过第二染液注入口215向第二腔体21中注入第二染液，第二染液注入完毕后，再通过第三染液注入口216注入第三染液。为了避免在注入第二染液或第三染液时，第二染液或第三染液冲入到第三染液注入口216或第二染液注入口215中，第二染液注入口215和第三染液注入口216不在同一条直线上；同时因为两者不在同一直线上，在注入第一染液和第二染液的过程中可以在缓冲腔中形成漩涡，防止液体的硬撞击产生液体飞溅和气泡，避免在液面探测过程中气泡对液面探测的影响；且由于先加入第二染液后再加入第三染液，故在加入第三染液时在缓冲腔中形成的漩涡还能够对两个染液形成混匀的效果。

当第二腔体21中的染液液面与第二电极213的两根电极棒接触时，两个电极棒之间形成电导通，第一控制器检测到该信号，控制第二微型隔膜泵 (图中未示出)延迟第一时间段后停止工作，此时第二腔体21中的染液液面与第二通道214持平，染液并不会从第二通道214中溢出。

第三腔体22还包括位于腔体底壁最低处的缓冲腔221，与缓冲腔221 相通，且位于缓冲腔221侧壁上第三清洗液注入口(图中未示出)，与缓冲腔221直接相连的第三排液口(图中未示出)。当向第三腔体22中注入第三清洗液，清洗液液面与第三电极222的两根电极棒接触时，两个电极棒之间形成电导通，第一控制器检测到该信号，控制第三微型隔膜泵(图中未示出)延迟第二时间段后停止工作，此时第二腔体22中的染液液面与第三通道223持平，染液并不会从第三通道223中溢出。

染色装置还包括设置在第一通道204、第二通道214及第三通道223所在缸体2侧壁外的废液收集缸23，废液收集缸23用于收集从第一通道204、第二通道214及第三通道223溢出的染液和清洗液。废液收集缸23包括位于废液收集缸23底壁的废液排放口231，废液收集缸23的底壁可以倾斜设置，此时废液排放口231位于底壁最低处；也可以水平设置，此时废液排放口231的位置在底壁上任何位置均可。废液收集缸23还包括第四电极232，第四电极232为两根长度相同的电极棒，且第四电极232的电极棒长度与第一电极202的电极棒长度相同。

染色过程中，玻片架5上垂直放置的玻片浸入第一腔体20中，第一腔体20中的多余的第一染液从第一通道204中溢出至废液收集缸23中；完成在第一腔体20中的染色后，第二腔体21移动至玻片架5下方，玻片架5浸入到第二腔体21内的混合染液中，第二腔体21中的多余的混合染液从第二通道214中溢出至废液收集缸23中，第二腔体21中的染液能够覆盖玻片经由第一腔体20中染液染色的区域以及染液扩散后的区域；完成第二腔体21 中的染色后，第三腔体22移动至玻片架5下方，玻片架5浸入到第三腔体 22内的第三清洗液中，第三腔体22中的第三清洗液从第三通道223中溢出至废液收集缸23中，第三腔体22中的第三清洗液对玻片架5上的玻片进行清洗，第三清洗液能够覆盖玻片经由第二腔体21中混合染液染色的区域以及混合染液扩散后的区域。完成玻片架5上的玻片染色清洗流程后，废液收集缸23中的废液通过废液排放口231排出至废液瓶中；避免染色清洗过程中产生的废液过多，而从废液收集缸23中倒溢至第一腔体20或第一腔体和第二腔体21中，废液收集缸23中的废液液面与第四电极232接触后，两根电极棒两个电极棒之间形成电导通，第一控制器检测到该信号，控制废液收集缸23进行废液排放而不用等待一个染色清洗流程结束。

第一通道204、第二通道214及第三通道223与腔体底壁垂直距离的不同，保障与之相对应的第一腔体20、第二腔体21及第三腔体22中的染液液面形成高度差。在通过各个腔体之间形成的液体高度差，能够保证在染色过程中，后一个腔体中的液体能够覆盖前一个腔体所覆盖及扩散后的区域，避免形成染液渍，且更容易进行清洗，保障玻片的成片质量，利于操作人员对玻片进行后续的观察。同时液体从第一通道204、第二通道214和第三通道223溢出，避免因玻片架5上的玻片较多时，液体从第一分隔部24或第二分隔部25溢向其他腔体，从而形成交叉污染，影响染色成片质量。

废液收集缸23收集从第一通道204、第二通道214及第三通道223溢出的废液，避免废液污染缸体或仪器或操作台面。

如图7-9所示，样本处理装置，包括壳体1，位于壳体内的染色装置，带动染色装置进行升降运动的升降装置，使升降装置进行水平运动的水平运动装置，向染色装置中提供液体和从染色装置中回收液体的液路系统，控制液路系统的第一控制器，控制升降装置进行升降运动及水平运动装置进行水平运动第二控制器。其中第一控制器与第二控制器可以为同一个控制器，也可以为不同的控制器。水平运动装置安装于壳体1底侧，升降装置设置与水平运动装置上，升降装置承载染色装置。壳体1上与染色装置的缸体2相对应的位置设置有放置玻片架5的放置部，放置部为在壳体1顶面上的开口10，开口10承载玻片架5上端周向设置的向外突出的外沿。开口10四周设置有密封垫11，在染色过程中，染色装置的缸体2侧壁、第一分隔部24、第二分隔部25和废液收集缸23的侧壁顶端均可与密封垫11紧密接触。

在染色过程中，玻片架5放置于开口10上，与壳体1相对静止，由升降装置及水平运动装置共同作用带动染色装置相对壳体1和玻片架5进行移动，从而对玻片架5上的玻片进行染色操作。

升降装置包括：承载机构包括固定有缸体2的安装台36，位于安装台 36下方，且与安装台36固定连接的滑块37；安装台36和滑块37均套设于驱动机构上，驱动机构包括升降电机30，与升降电机30输出端连接的丝杆 31，与丝杆平行的导向轴32，具体的安装台36和滑块37均套设于导向轴 32和丝杆31上，安装台36远离缸体2的一端设置有光电传感器34a，与光电传感器34a处于相同侧的滑块37的一侧固定有挡片35b。导向轴32上端设置有限位块，避免安装台36和滑块37从导向轴32上端脱离；导向轴32 顶端设置有挡片35a，导向轴32下端固定于固定板38上，其中导向轴32 可以为一个，为了使滑块37的升降运动更加稳定，导向轴32也可以是两个或两个以上。丝杆31下端从固定板38中穿过，固定板38与挡片35b同侧的一端固定有光电传感器34b。

水平运动装置包括：固定板38远离光电传感器34b的一端固定的挡片 45，挡片45上端与夹板47固定连接，夹板47夹持于皮带43上，皮带43 与主动轮41和从动轮42相连，主动轮41固定在支架46上，并与水平运动电机40输出端相连，从动轮42固定于支架46远离水平运动电机40一端；支架46上还固定有位于同一直线上的光电传感器44c和光电传感器44d。固定于支架46上的导轨48，导轨48与皮带43相平行，与导轨48相卡和且固定于固定板38靠近升降电机的一侧的滑块49；滑块49能在导轨48上移动，且滑块49与导轨48共同对固定板38起支撑作用。

样本处理装置整体运动染色过程如下：

复位，升降电机30运行，驱动丝杆31正向转动，与滑块37固定连接的安装台36及安装台上承载的缸体2随滑块37沿着导向轴32向下运动，当挡片35b挡住光电传感器34b时，第二控制器控制升降电机30停止运行。当升降电机30停止运行后，水平运动电机40运行，驱动主动轮41旋转，从而带动皮带43在水平方向上运动，皮带带动夹板47，从而带动与夹板47固定连接的挡片45和与挡片固定连接的固定板38向从动轮42的方向运动。当传感器44c的光线被挡片45遮挡时，第二控制器控制水平运动电机停止运行，此时复位完成。

液体加注，复位完成后，第一腔体20、第二腔体21和第三腔体22按照前述注液方式进行相应液体加注。

第一次染色，液体加注完成后，水平运动电机40运行，驱动皮带43向主动轮41的方向运动，皮带43带动挡片45运动，从而带动固定板38在滑块49的承载下，沿着导轨48向主动轮41的方向移动。当光电传感器44d 的光线从没有被挡片45遮挡变为遮挡状态，再由遮挡状态变为没有遮挡状态时，第二控制器控制水平运动电机40停止运行，此时第一腔体20位于开口10下方。然后，第二控制器控制升降电机30运行，驱动丝杆31反向转动，滑块37沿着导向轴32向靠近开口10的方向运动。当光电传感器34a 的光线被挡片35a挡住，光电传感器34b的光学没有被挡片35b遮挡时，第二控制器控制升降电机30停止运行，此时第二腔体21和第三腔体22均与密封垫11接触，架设于开口10处的玻片架5浸入第一腔体20的第一染液中，进行玻片第一次染色。

第二次染色，完成玻片第一次染色后，第二控制器控制升降电机30运转，升降电机30驱动丝杆31正向转动，安装台36及安装台上承载的缸体 2随滑块37沿着导向轴32向下运动。当挡片35b挡住光电传感器34b时，第二控制器控制升降电机30停止运行。当升降电机30停止运行后，第二控制器控制水平运动电机40启动，皮带带动夹板47，从而带动与夹板47固定连接的挡片45和与挡片固定连接的固定板38向从动轮42的方向运动。当光电传感器44d的光线从没有被挡片45遮挡变为遮挡状态，再由遮挡状态变为没有遮挡状态时，第二控制器控制水平运动电机40停止运行，此时第二腔体21位于开口10下方。然后，第二控制器控制升降电机30运行，驱动丝杆31反向转动，滑块37沿着导向轴32向靠近开口10的方向运动。当光电传感器34a的光线被挡片35a挡住，光电传感器34b的光学没有被挡片35b遮挡时，第二控制器控制升降电机30停止运行，此时第一腔体20和第三腔体22均与密封垫11接触，架设于开口10处的玻片架5浸入第二腔体21的经第二染液与第三染液混合后的染液中，进行玻片第二次染色。

玻片清洗，完成玻片第二次染色后，升降装置的运动过程同第一次染色，水平运动装置的运动过程同复位时水平运动装置的运动过程。

玻片架5上的玻片完成第一次染色、第二次染色和清洗后，制片过程完成。本实施例中的电机加丝杠或电机加皮带的机构也可以由例如伸缩气缸或者电机加齿轮加齿条的结构，凡是能够使得被驱动的装置能够在直线上进行往复运动的装置或结构对于本领域的技术人员而言均为显而易见的。

通过挡片45通过光电传感器44c和光电传感器44d时，光电传感器44c 和光电传感器44d的光线遮挡变化和升降装置在水平运动装置上运动方向，确定染色装置在染色操作过程中的第一腔体20、第二腔体21及第三腔体22 的位置，减少了光电传感器的数量，使水平运动装置结构更加简单。

通过第二控制器控制升降装置和水平运动装置的运动，从而形成染色装置的运动，避免因抓手在抓取玻片架过程中，因抓取不稳，玻片架掉到染缸之外，造成玻片架上的玻片损坏；或是玻片架掉入染缸中，染缸中的染液飞溅，从而污染其他染缸中的染液或清洗液，污染仪器；或是移动过程中，由于抓取不稳而造成玻片架的晃动，从而将玻片架上的液体甩到其他的染缸或清洗缸中，造成其他缸中的染液或清洗液被污染，仪器其他部件的污染。

制片完成后，第三腔体22中的第三清洗液从第三排放口排出，废液收集缸23中的收集的由第一通道204、第二通道214及第三通道223溢出的废液从废液排放口231排出至废液瓶中。

若还需要进行玻片染色，则再次通过第三清洗液注入口向第三腔体22 中注入第三清洗液。若不需要，如图6所示，则第二控制器控制升降装置和水平运动装置均不运动，同时第一控制器控制双通道夹管阀207b工作，常闭端打开，微型隔膜泵208启动，染液便从第一腔体20中通过第一染液注入口205抽取至染液瓶209中，完成第一腔体20中的第一染液的回收。第二腔体21中的混合染色回收方式同第一腔体20，不再赘述。

由于在染色过程中，除了进行第一腔体20，第二腔体21及第三腔体22 切换时，染色装置与密封垫11会分离，其余时候染色装置中的相应腔体均与密封垫11紧密接触，密封垫11对相应腔体起密封作用，减少没有玻片架 5浸入的腔体中的液体挥发至样本处理装置壳体1内的空间中，能有效降低染色过程中样本处理装置内的湿度，增加仪器各部件的使用寿命；同时降低挥发后的染液对操作人员的生物性危害的风险。

同时，由于样本处理装置不进行染色时，相应的染液会回收至相应的染液瓶中，使用过的清洗液及废液会排放至废液瓶中，保障染色装置中的所有腔体中均没有液体，避免染液挥发至空气中，降低样本处理装置中的湿度；同时降低挥发后的染液对操作人员的生物性危害风险。

并且由于对染液进行了回收，可以多次利用，降低染液消耗，节约玻片的制片成本。

在另一个实施例中，当其他部件都与上述实施例相同的情况下，也可以在壳体1的开口10处设置一个可打开和关闭的罩子，在玻片架5进行染色的过程中，罩子关闭，避免染色过程中通过壳体1的开口10溢出的染液气体对操作人员造成生物性侵害。

在另一个实施例中，还可以在罩子或者壳体1上设置传感器，当罩子处于打开状态时，传感器检测出罩子的状态后将相关信息传递给第一控制器和第二控制器，第一控制器控制液路系统停止向第一腔体20、第二腔体21和第三腔体22中注液，或者不向第一腔体20、第二腔体21和第三腔体22中注液，同时第二控制器控制升降装置和水平运动装置停止移动。防止染色过程中因操作人员的不当操作造成染液气体从开口处挥发出，对操作人员造成生物性侵害；同时防止操作人员将手从开口10处伸入样本处理装置内部，避免与缸体2等发生碰撞，造成外伤。

如图1-2所示，在对第一腔体20和第二腔体21中的相应染液进行回收后，第一腔体20通过第一清洗液注入口202向第一腔体20中注入第一清洗液，第一清洗液液面控制方式同第一染液；第二腔体21通过第二清洗液注入口212向第二腔体21中注入第二清洗液，第二清洗液液面控制同第二染液和第三染液的混合液。第一清洗液和第二清洗液对第一腔体20和第二腔体进行浸泡清洗，由于在浸泡清洗的过程中，第一腔体20与第二腔体21均与密封垫11紧密接触，因此可以避免第一清洗液和第二清洗液的挥发造成样本处理装置中的湿度增加，影响样本处理装置中其他部件的使用寿命。

第一腔体20和第二腔体21经过浸泡清洗后，可以通过第一排放口206 和第二排液口217将第一清洗液和第二清洗液排出至废液瓶中，在排放的过程中，第一清洗液和第二清洗液均可对其相应的管路进行冲洗，避免染液风干后堆积在管路中，造成管路狭窄，或堵塞管路；也可以不将第一清洗液和第二清洗液排放至废液瓶，待下次对玻片架5上的玻片染色时再将第一清洗液和第二清洗液排放。

以上所述仅为本实用新型的示例性实施例，并不用以限制本实用新型，凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。

Claims (8)

1.一种样本处理装置，其特征在于，包括：壳体,所述壳体上具有放置可安放玻片的玻片架的放置部，位于所述壳体内对所述玻片架上的玻片进行染色的染色装置，带动所述染色装置进行升降运动的升降装置，使所述升降装置进行水平运动的水平运动装置，向所述染色装置中提供液体和从所述染色装置中回收液体的液路系统，控制所述液路系统的第一控制器，控制所述升降装置进行升降运动及所述水平运动装置进行水平运动第二控制器。

2.如权利要求1所述的样本处理装置，其特征在于：所述升降装置包括竖直驱动机构，用于承载所述染色装置的承载机构，用于探测所述承载机构升降位置的感应单元，所述承载机构与所述驱动机构滑动连接，所述驱动机构驱动所述承载机构进行升降运动。

3.如权利要求1所述的样本处理装置，其特征在于：所述水平运动装置包括支架，固定于所述支架上的水平驱动机构，安装于所述支架上的水平导向机构，设置于水平导向机构上用于固定所述升降装置的固定机构，用于探测所述升降装置水平运动位置的探测单元。

4.如权利要求1所述的样本处理装置，其特征在于：所述染色装置包括可容纳液体的腔体，所述腔体包括底壁和侧壁。

5.如权利要求4所述的样本处理装置，其特征在于：所述放置部的四周具有能与所述腔体侧壁上端紧密接触的密封件。

6.如权利要求3所述的样本处理装置，其特征在于：所述水平驱动机构包括电机，固定于所述电机输出端的主动轮，安装于所述支架上的从动轮，套设在所述主动轮与所述从动轮上的传送带；所述固定机构包括安装有所述升降装置的固定板，所述固定板的一端固定有挡片，所述传送带通过连接件与所述挡片连接；所述探测单元包括设置在所述支架上的传感器；通过所述挡片与所述传感器来确定所述固定板的位置。

7.如权利要求6所述的样本处理装置，其特征在于：所述传感器至少为2个，所述传感器位于同一直线上且所述直线与所述传送带平行。

8.如权利要求7所述的样本处理装置，其特征在于：所述传感器为2个。