CN206834156U - 基板处理装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及一种基板处理装置，基板处理装置包括：工作台，其进行对基板的研磨工艺；夹紧单元，其夹紧基板；倾斜部，其使得夹紧单元相对于工作台选择性倾转地倾斜，据此可得到的有利的效果在于，可使得基板位于准确的位置，并且在对基板进行装载及卸载时防止基板受到损伤。

Description

基板处理装置

技术领域

本实用新型涉及一种基板处理装置，更加具体地涉及一种可使得大面积基板位于准确的位置并且在对基板进行装载及卸载时可防止基板受到损伤的基板处理装置。

背景技术

最近，对于信息显示器(display)的关注度上升，想要利用可携带的信息媒介的要求升高的同时，重点实现对于替代现有的作为显示装置的阴极射线管(Cathode Ray Tube，CRT)的轻薄型平板显示装置(Flat Panel Display，FPD)的研究及商业化。

在所述平板显示装置领域中，虽然至今为止轻且电消耗少的液晶显示装置(Liquid Crystal Display Device，LCD)是最受关注的显示装置，但是液晶显示装置不是发光元件，而是受光元件，并且在亮度、对比率(contrast ratio)及视角等方面具有缺点，由此，正积极展开对于可克服所述缺点的新的显示装置的开发。其中，作为最近受到关注的新一代显示器中的一种，有有机发光显示器(OLED:Organic Light Emitting Display)。

通常，在显示装置中微型的图案(pattern)以高密度的方式聚集在基板上而形成，由此，需要进行与此相应的精密研磨。

尤其，基板是逐渐大型化的趋势，在使得基板的图案均匀化的同时，用于对不需要的部分进行研磨的工艺作为影响产品的完成度的非常重要的工艺，需要稳定的研磨可靠度。

在现有众所周知的对基板的图案进行研磨的方式中，有以机械的形式研磨基板(图案)的方式和使得整个基板浸渍于研磨溶液而进行研磨的方式。但是，仅以机械的形式对基板进行研磨或使其浸渍于研磨溶液而进行研磨的方式具有的问题在于，研磨精密度低且生产效率低。

最近，作为用于精密地研磨基板的图案的方法的部分公开了如下技术：通过机械研磨和化学研磨并行的化学机械研磨(CMP)方式对基板的图案进行研磨。在此，所谓的化学机械研磨是一种如下方式：使得基板旋转接触于研磨垫而得到研磨的同时一同供给用于化学研磨的研磨液(slurry)。

另外，基板在配置于平板的状态下进行研磨工艺，所述平板设置于研磨区域，但是若配置于平板上的基板的位置稍有偏离，则存在基板的研磨准确度和研磨均匀度降低的问题，并且在移送基板的过程中因与周围部件的干扰而可能会损伤基板，由此基板需要准确地配置于想要的位置。

但是，由于大面积玻璃基板(例如，1500㎜*1850㎜的第六代基板)具有非常大的尺寸(size)，因此具有如下问题：在将大面积玻璃基板向下放在平板上时(装载时)，由于存在于大面积玻璃基板和平板之间的空气或液态流体(例如，清洗液)从而大面积玻璃基板暂时在平板的上面浮游，并且出现从常规位置(装载位置)脱离的(偏离的) 现象。

此外，在完成对基板的研磨之后，将基板从平板抬起时(卸载时)，由于因存在于玻璃基板和平板之间的液态流体(例如，清洗液)而产生的表面张力或为了防止玻璃基板被推且吸收冲击而作用于垫(PAD)和玻璃基板之间的粘着力，不仅很难卸掉基板，而且不可避免地需要用非常强的力来脱卸基板，但是在此过程中具有损伤基板的顾虑，所述垫配置于平板上。

为此，最近用于可将大面积基板(一个侧边的长度是1m以上的基板)准确地配置于想要的位置，且在装载及卸载基板的工艺中防止基板受到损伤及破损的多种研究正在进行，但是仍存在不足，因此需要对此的开发。

实用新型内容

本实用新型的目的在于，提供一种可将大面积基板准确地配置于想要的位置的基板处理装置。

尤其，本实用新型的目的在于，在基板的装载工艺中抑制基板的姿势及位置偏离，并且可将基板准确地配置于想要的位置。

此外，本实用新型的目的在于，在基板的卸载工艺中可防止基板的偏离，并且容易地将基板抬起。

此外，本实用新型的目的在于，可防止基板受到损伤及破损，并且提高稳定性及可靠性。

根据用于达到所述本实用新型的目的的本实用新型的优选的第一实施例，基板处理装置包括：工作台，其进行对基板的研磨工艺；夹紧单元，其夹紧基板；倾斜部，其使得夹紧单元相对于工作台选择性倾转地倾斜。

其目的在于提高大面积基板的装载及卸载准确度，并且在基板的装载及卸载时防止基板受到损伤。

尤其，本实用新型可使得夹紧单元(基板)相对于工作台选择性倾转地倾斜，据此可得到的有利的效果在于，在装载工艺中抑制基板的姿势及位置偏离，并且将基板准确地配置于想要的位置。

换句话说，由于大面积玻璃基板(例如，1500㎜*1850㎜的第六代基板)具有非常大的尺寸，因此具有如下问题：在将大面积玻璃基板平坦地向下放在平坦的工作台(例如，平板)上时(装载时)，由于存在于大面积玻璃基板和工作台之间的空气或液态流体(例如，清洗液)，因此大面积玻璃基板暂时在工作台的上面浮游，并且出现从常规位置(装载位置)脱离的(偏离的)现象。

但是，在本实用新型中，基板相对于工作台选择性地倾斜，从而可在基板倾斜的状态下进行基板的装载工艺。如上所述，在倾转地倾斜的状态下，而非平坦的状态下进行基板的装载工艺，据此可得到的有利的效果在于，在基板的装载工艺中由于存在于基板和工作台之间的空气或液态流体可从基板和工作台之间向外侧泄露，因此在基板的装载工艺中使得因空气层或液体层而导致的基板的浮游现象最少化，并可抑制基板的姿势及位置偏离，且使得基板准确地位于想要的位置。

夹紧单元的夹紧方式可根据所需的条件及设计样式进行多种变更。例如，夹紧单元包括：支撑架，其可通过倾斜部进行角度调节；夹具，其安装于支撑架并对基板进行夹紧。

此时，夹具可构成为真空吸附于基板。优选地，夹具构成为对基板的非活动区域(non-active area)夹紧。如上所述，夹具在基板的非活动区域对基板夹紧(对基板的非活动区域夹紧)，据此可得到的有利的效果在于，防止因夹具的接触而导致的基板的损伤及收率下降。

倾斜部可设置为可使得夹紧单元相对于工作台选择性倾转地倾斜的多种结构，所述夹紧单元对基板夹紧。

并且，倾斜部安装于沿着导轨移动的导向架，所述导轨沿着基板的移送路径配置，由于导向架沿着导轨进行移动，因此倾斜部(夹紧单元)可从装载区域移动至工作台，或者从工作台移动至卸载区域。

优选地，在夹紧单元相对于工作台倾转地倾斜的状态下，基板的一个边以比基板的其余的边更邻近于工作台的形式配置(以基板的一个边为基准倾斜)。在此，所谓的基板的一个边以邻近于工作台的形式配置，指的是将以下构成全部包括在内的概念：基板的一个边以接触于工作台的形式配置，或者基板的一个边以邻近于工作台的形式以隔开的状态配置。

更为具体地，倾斜部包括：基架；第一伸缩部，其设置为对基架和夹紧单元进行连接，并可选择性地伸缩；第二伸缩部，其以与第一伸缩部相面对的形式配置，并设置为对基架和夹紧单元进行连接且可选择性地伸缩，将第一伸缩部和第二伸缩部的伸缩长度调节为互不相同，从而可使得夹紧单元倾斜。此时，第一伸缩部和第二伸缩部中任意一个以上可构成为在以垂直线为基准倾斜地配置的状态下得到伸缩。

并且，第一伸缩部包括多个第一电动缸，所述多个第一电动缸沿着所述基架的一个边隔开地配置，并且可选择性伸缩。此外，第二伸缩部包括多个第二电动缸，所述多个第二电动缸沿着基架的另一个边隔开地配置，并可选择性伸缩。

此外，基板处理装置包括引导部，所述引导部对相对于基架的支撑架的上下方向移动进行引导。

引导部对相对于基架的支撑架的上下方向移动进行引导，从而可抑制因第一伸缩部和第二伸缩部的操作而导致的支撑架的不稳定的晃动(向左右方向摇晃的晃动)。

换句话说，在支撑架向上下方向移动的同时向左右方向的移动被允许的结构(排除引导部的结构)中，例如，若第一伸缩部的长度增加，则支撑架的上下高度及角度得到变更的同时，支撑架的左右位置得到变更。由此，因第一伸缩部的长度变化而产生的对第二伸缩部的控制(伸缩长度控制)需全部反映支撑架的高度及角度和左右位置，由此具有的问题在于，第一伸缩部和第二伸缩部的控制变复杂且困难。但是，在本实用新型中，通过引导部，仅使得沿着支撑架的上下方向的直线移动被允许，左右移动被约束，据此可更易于执行第一伸缩部和第二伸缩部的伸缩长度控制。

此外，引导部可抑制支撑架的左右移动，由此可得到的有利的效果在于，第一伸缩部和第二伸缩部操作时可使得因支撑架的不稳定晃动而导致的基板的摇晃最小化，防止因摇晃而导致的夹紧失败，并提高稳定性及可靠性。尤其，具有至少一个侧边的长度大于1m的长度的大面积基板即使因支撑架的小的摇晃也会产生大的晃动，由此最大限度地抑制支撑架的摇晃是重要的。

更为具体地，引导部包括：引导衬套，其安装于基架；导杆，其配置为一端以可旋转的形式连接于支撑架，并且可沿着引导衬套进行直线移动。优选地，将引导部配置于第一伸缩部和第二伸缩部之间的中间位置，据此可得到的有利的效果在于，最大限度地抑制支撑架的摇晃及不稳定的晃动。

作为参考，在装载区域收取基板之后，为了将基板装载于工作台，可使用根据本实用新型的基板处理装置，并且在基板相对于工作台倾转地倾斜的状态下实现基板的装载。

此时，可在支撑架(夹紧单元)的倾斜角度保持一定的状态下进行相对于工作台倾斜地配置的基板的装载过程，或者在支撑架(夹紧单元)的倾斜角度逐渐减小的同时进行相对于工作台倾斜地配置的基板的装载过程。

优选地，相对于工作台的夹紧单元的倾斜角度(基板的倾斜角度)形成为0.1°～3°。换句话说，基板的倾斜角度越升高(例如，若超过3°)，基板的高度越升高，由此，因由夹具产生的夹紧被解除而导致基板往下落时，具有基板受到损伤或破损的顾虑，而且装载基板的时间增加，工艺效率降低，从而优选地，相对于工作台的夹紧单元的倾斜角度(基板的倾斜角度)形成为0.1°～3°。

此外，依次解除(OFF)因多个夹具而产生的夹紧从而也可进行倾斜的基板的装载过程。换句话说，沿着朝向与基板的一个边相面对的基板的另一个边的方向依次解除(OFF)因多个夹具而产生的对基板的夹紧，随着依次解除因多个夹具而产生的夹紧，从而基板从一个边沿着朝向另一个边的方向逐渐装载于工作台。

如上所述，在基板倾斜的状态下，依次解除(OFF)因多个夹具而产生的夹紧，从而进行装载，据此具有的有利的效果在于，可更加准确地对准基板的装载位置。

换句话说，若在基板(支撑架)的倾斜角度保持一定的状态下同时解除(OFF)因所有的夹具而产生的夹紧，则虽然存在于基板和工作台之间的空气或液态流体可从基板和工作台之间向外侧泄露，但是会产生基板在想要装载的位置被推的现象。对此，本实用新型中，沿着朝向与基板的一个边相面对的基板的另一个边的方向依次解除(OFF)因多个夹具而产生的对基板的夹紧，据此可得到的有利的效果在于，在不存在基板被推的现象的状态下将基板装载于准确的位置。尤其，若多个夹具中一部分的夹紧被解除，则在基板的一部分部位接触于工作台的状态下，基板的其余部位保持为被夹紧单元夹紧的状态(固定状态)，由此可得到的有利的效果在于，在基板最初接触于工作台时，抑制基板的位置偏离。

优选地，多个夹具设置为可相对于支撑架进行弹性移动。如上所述，多个夹具相对于支撑架进行弹性移动，据此可得到的有利的效果在于，即使因多个夹具中一部分的夹紧被解除而导致基板产生下垂(仅基板的一部分部分地接触于工作台的状态)，在与基板的下垂部位(弯曲的部位)相邻接的部位也稳定地保持夹具的夹紧状态，并且使得基板的弯曲更加缓和，所述夹具用于保持(ON)对基板的夹紧。

可根据所需的条件及设计样式利用多种研磨部件进行基板的研磨工艺。例如，通过研磨带来进行对基板的研磨工艺，所述研磨带通过辊子而沿着规定的路径进行循环旋转。作为另一个例子，通过以接触于基板的状态进行自转的研磨垫来进行对基板的研磨工艺。

此外，为了将完成研磨工艺的基板从工作台卸载，可使用根据本实用新型的基板处理装置。优选地，在倾斜部使得夹紧单元相对于工作台逐渐倾转地倾斜的状态下，将基板从工作台卸载。

如上所述，在本实用新型中，夹紧单元(基板)在相对于工作台倾转地倾斜的状态下得到卸载，据此可得到的有利的效果在于，更加容易且稳定地完成基板的卸载工艺。

换句话说，由于大面积玻璃基板(例如，1500㎜*1850㎜的第六代基板)具有非常大的尺寸，因此将大面积玻璃基板从平坦的工作台(例如，平板)抬起时(卸载时)，因存在于基板和工作台之间的液态流体(例如，清洗液)而产生的表面张力,或作用于垫(PAD)和玻璃基板之间的粘着力，从而不仅很难卸掉基板，而且不可避免地需要用非常强的力来脱卸基板，在此过程中具有基板受到损伤的顾虑，所述垫(PAD)配置于平板上。

但是，在本实用新型中，使得基板相对于工作台倾斜，据此可在基板倾斜的状态下进行基板的卸载工艺。如上所述，在倾转地倾斜的状态下，而非平坦的状态下进行基板的卸载工艺，据此可得到的有利的效果在于，在基板的卸载工艺中可使得因存在于基板和工作台之间的液态流体而产生的表面张力的影响最小化，从而用较小的力也能够将基板从工作台卸载，并且使得因用于脱卸基板的力而产生的基板的损伤最小化。

此外，基板处理装置可包括悬浮部，所述悬浮部使得基板在工作台悬浮。

在卸载基板之前，悬浮部使得基板在工作台悬浮，从而更容易实现基板的卸载工艺。换句话说，在卸载基板之前，使得基板悬浮，预先在工作台和基板之间形成流体层，据此可得到的有利的效果在于，更顺畅地实现将基板从工作台抬起的过程。例如，悬浮部构成为将流体喷射至基板的底面从而使得基板悬浮。

此外，基板处理装置可包括非接触吸附部，所述非接触吸附部以非接触方式对基板进行吸附。

如上所述，包括非接触吸附部，所述非接触吸附部以非接触方式对基板进行吸附，据此可得到的有利的效果在于，在基板的装载或卸载工艺中更加稳定地保持基板的夹紧状态，并且在卸载中更容易地抬起基板。

尤其，夹具在基板的卸载工艺中对基板进行吸附，从而在没有基板的弯曲或变形的状态下基板可稳定地从工作台分离。换句话说，因为夹具仅对基板的边缘部位(非活动区域)夹紧，所以若在仅通过夹具来夹紧基板的状态下卸载基板，则用于将基板从工作台分离的力难以有效地施加于基板的中间部位(活动区域)。因此，本实用新型利用非接触吸附部来对基板的中间部位(活动区域)进行吸附，据此可得到的有利的效果在于，更加顺畅地完成基板的卸载工艺。

当然，夹具也可构成为对基板的活动区域夹紧，但是由于基板的活动区域对接触非常敏感，因此需要最大限度地排斥在活动区域的接触。对此，本实用新型利用非接触吸附部来对基板的活动区域进行吸附，据此可得到的有利的效果在于，在基板的区域提前防止因接触而导致的划痕等的损伤。

更为具体地，非接触吸附部构成为利用因流体而产生的表面张力对基板进行非接触吸附。

例如，非接触吸附部包括：吸附板，其以隔开的形式配置于基板的上面；喷嘴，其形成于吸附板，并且选择性地将流体喷射至基板和所述吸附板之间。

优选地，沿着吸附板的长度方向和宽度方向中至少任意一个以上的方向以隔开的形式形成有多个喷嘴。如上所述，将多个喷嘴以间隔均匀的间距的形式安装于吸附板的底面，并且流体整体上均匀地从吸附板的底面喷射，据此可得到的有利的效果在于，整体上均匀地形成吸附板和基板间的吸附力。

优选地，吸附板由PVC(聚氯乙烯，Polyvinyl chloride)材质形成，吸附板形成为具有3～30㎜的厚度。此外，在吸附板的上面形成有加强筋，据此可得到的有利的效果在于，即使吸附板形成为较薄的厚度，吸附板也可具有充分的刚性。并且，包括气缸，所述气缸使得吸附板沿着上下方向移动。

此外，基板处理装置包括调节部，所述调节部对吸附板的水平度进行调节。如上所述，设置调节部，并且保持相对于基板的吸附板的水平状态，据此可得到的有利的效果在于，以流体为媒介的基板的吸附力均匀地形成于整个基板。更为具体地，调节部包括：校平板，其固定于气缸并且吸附板安装于所述校平板；调节部件，其对校平板和吸附板之间的间距进行调节。

根据用于达到所述本实用新型的目的的本实用新型的优选的第二实施例，基板处理装置包括：工作台，其进行对基板的研磨工艺；夹紧单元，其夹紧基板；基架，其配置于夹紧单元的上部；固定伸缩部，其一端固定于基架，其他端连接于夹紧单元，并且可选择性地进行伸缩；旋转伸缩部，其以与固定伸缩部相面对的形式配置，并且一端以可旋转的形式安装于基架，其他端连接于夹紧单元，并可选择性地进行伸缩，将固定伸缩部和旋转伸缩部的伸缩长度调节为互不相同，从而使得夹紧单元选择性地倾斜。

其目的在于，提高大面积基板的装载及卸载准确度，并且在基板被装载及卸载时防止基板受到损伤。

尤其，本实用新型可使得夹紧单元(基板)相对于工作台选择性倾转地倾斜，据此可得到的有利的效果在于，在装载工艺中抑制基板的姿势及位置偏离，并且将基板准确地配置于想要的位置。

换句话说，由于大面积玻璃基板(例如，1500㎜*1850㎜的第六代基板)具有非常大的尺寸，因此具有如下问题：在将大面积玻璃基板平坦地向下放在平坦的工作台(例如，平板)上时(装载时)，由于存在于大面积玻璃基板和工作台之间的空气或液态流体(例如，清洗液)，因此大面积玻璃基板暂时在工作台的上面浮游，并且出现从常规位置(装载位置)脱离的(偏离的)现象。

但是，在本实用新型中基板相对于工作台选择性地倾斜，从而可在基板倾斜的状态下进行基板的装载工艺。如上所述，在倾转地倾斜的状态下，而非平坦的状态下进行基板的装载工艺，据此可得到的有利的效果在于，在基板的装载工艺中由于存在于基板和工作台之间的空气或液态流体可从基板和工作台之间向外侧泄露，因此在基板的装载工艺中使得因空气层或液体层而导致的基板的浮游现象最少化，并可抑制基板的姿势及位置偏离，且使得基板准确地位于想要的位置。

尤其，本实用新型中，对固定于基架的固定伸缩部的伸缩长度进行调节，从而使得夹紧基板的夹紧单元相对于工作台选择性倾转地倾斜，据此可得到的有利的效果在于，抑制因固定伸缩部和旋转伸缩部的操作而产生的支撑架的不稳定晃动(向左右方向摇晃的晃动)。

换句话说，若安装于基架的两侧的伸缩部全部形成为可旋转的结构(基架的一个边及其他边全部安装有旋转伸缩部的结构)，例如，若在配置于基架两侧的伸缩部中任意一侧所配置的伸缩部的长度增加，则支撑架的上下高度及角度得到变更的同时，支撑架的左右位置得到变更。由此，随着伸缩部的长度变化而产生的伸缩部的控制(伸缩长度控制)需要全部反映支撑架的高度及角度和左右位置，由此具有的问题在于，伸缩部的控制变复杂且困难。但是，在本实用新型中，固定伸缩部固定安装于基架，从而仅沿着连接于固定伸缩部的支撑架的上下方向的直线移动被允许，且左右移动被约束，据此，可更加容易地进行固定伸缩部和旋转伸缩部的伸缩长度控制。

此外，由于固定伸缩部可抑制支撑架的左右移动，换句话说，由于支撑架与固定安装于基架的固定伸缩部相连接，从而可从根本上抑制左右移动，因此可得到的有利的效果在于，固定伸缩部和旋转伸缩部被操作时可使得因支撑架的不稳定晃动而产生的基板的摇晃最小化，并且防止因摇晃而产生的夹紧失败，提高稳定性及可靠性。由此，即使不另外安装用于防止支撑架的不稳定晃动的另外的引导装置也可以，例如用于引导沿着支撑架的上下方向移动的引导衬套，因此可得到的有利的效果在于，简化结构且使得设计自由度提高。

优选地，固定伸缩部以可沿着上下方向伸缩的形式固定于基架。

此外，构成为若固定伸缩部的伸缩长度变化，则旋转伸缩部得到联动，并相对于基架进行旋转。如上所述，对应于固定伸缩部的伸缩长度变化(夹紧单元倾斜时)，旋转伸缩部相对于基架进行旋转，据此可得到的有利的效果在于，自动地补偿可变单元的旋转位移变化。

此时，并且，固定伸缩部包括多个第一电动缸，所述多个第一电动缸沿着所述基架的一个边隔开地配置，并且可选择性地伸缩。此外，旋转伸缩部包括多个第二电动缸，所述多个第二电动缸沿着基架的另一个边隔开地配置，并且可选择性地伸缩。

夹紧单元的夹紧方式可根据所需的条件及设计样式进行多种变更。例如，夹紧单元包括：支撑架，其可通过固定伸缩部和旋转伸缩部进行角度调节；夹具，其安装于支撑架并对基板夹紧。

此时，夹具可构成为真空吸附于基板。优选地，夹具构成为对基板的非活动区域(non-active area)夹紧。如上所述，夹具在基板的非活动区域对基板夹紧(对基板的非活动区域夹紧)，据此可得到的有利的效果在于，防止因夹具的接触而导致的基板损伤及收率下降。

基架安装于沿着导轨移动的导向架，所述导轨沿着基板的移送路径配置，由于导向架沿着导轨进行移动，因此基架(夹紧单元)可从装载区域移动至工作台，或者从工作台移动至卸载区域。

优选地，在夹紧单元相对于工作台倾转地倾斜的状态下，基板的一个边以比基板的其余的边更邻近于工作台的形式配置(以基板的一个边为基准倾斜)。在此，所谓的基板的一个边以邻近于工作台的形式配置，指的是将以下构成全部包括在内的概念：基板的一个边以接触于工作台的形式配置，或者基板的一个边以邻近于工作台的形式以隔开的状态配置。

作为参考，在装载区域收取基板之后，为了将基板装载于工作台，可使用根据本实用新型的基板处理装置，并且在基板相对于工作台倾转地倾斜的状态下实现基板的装载。

此时，可在支撑架(夹紧单元)的倾斜角度保持一定的状态下进行相对于工作台倾斜地配置的基板的装载过程，或者在支撑架(夹紧单元)的倾斜角度逐渐减小的同时进行相对于工作台倾斜地配置的基板的装载工艺。

优选地，相对于工作台的夹紧单元的倾斜角度(基板的倾斜角度)形成为0.1°～3°。换句话说，基板的倾斜角度越升高(例如，若超过3°)，基板的隔开高度越升高，由此，因由夹具产生的夹紧被解除而导致基板往下落时，具有基板受到损伤或破损的顾虑，而且装载基板的时间增加，工艺效率降低，从而优选地，相对于工作台的夹紧单元的倾斜角度(基板的倾斜角度)形成为0.1°～3°。

此外，依次解除(OFF)因多个夹具而产生的夹紧从而也可进行倾斜的基板的装载过程。换句话说，沿着朝向与基板的一个边相面对的基板的另一个边的方向依次解除(OFF)因多个夹具而产生的对基板的夹紧，且随着依次解除因多个夹具而产生的夹紧，基板从一个边沿着朝向另一个边的方向逐渐装载于工作台。

如上所述，在基板倾斜的状态下，依次解除(OFF)因多个夹具而产生的夹紧，从而进行装载，据此具有的有利的效果在于，可更加准确地对准基板的装载位置。

换句话说，若在基板(支撑架)的倾斜角度保持一定的状态下同时解除(OFF)因所有的夹具而产生的夹紧，则虽然存在于基板和工作台之间的空气或液态流体可从基板和工作台之间向外侧泄露，但是会产生基板在想要装载的位置被推的现象。因此，本实用新型中，沿着朝向与基板的一个边相面对的基板的另一个边的方向依次解除(OFF)因多个夹具而产生的对基板的夹紧，据此可得到的有利的效果在于，在不存在基板被推的现象的状态下将基板装载于准确的位置。尤其，若多个夹具中一部分的夹紧被解除，则在基板的一部分部位接触于工作台的状态下，基板的其余部位保持为被夹紧单元夹紧的状态(固定状态)，由此可得到的有利的效果在于，在基板最初接触于工作台时，抑制基板的位置偏离。

优选地，多个夹具设置为可相对于支撑架进行弹性移动。如上所述，多个夹具相对于支撑架进行弹性移动，据此可得到的有利的效果在于，即使因多个夹具中一部分的夹紧被解除而导致基板产生下垂(仅基板的一部分部分地接触于工作台的状态)，在与基板的下垂部位(弯曲的部位)相邻接的部位也稳定地保持夹具的夹紧状态，并且使得基板的弯曲更加缓和，所述夹具用于保持(ON)对基板的夹紧。

可根据所需的条件及设计样式利用多种研磨部件进行基板的研磨工艺。例如，通过研磨带来进行对基板的研磨工艺，所述研磨带通过辊子而沿着规定的路径进行循环旋转。作为另一个例子，通过以接触于基板的状态进行自转的研磨垫来进行对基板的研磨工艺。

此外，为了将完成研磨工艺的基板从工作台卸载，可使用根据本实用新型的基板处理装置。优选地，在使得夹紧单元相对于工作台逐渐倾转地倾斜的状态下，将基板从工作台卸载。

如上所述，在本实用新型中，夹紧单元(基板)在相对于工作台倾转地倾斜的状态下得到卸载，据此可得到的有利的效果在于，更加容易且稳定地完成基板的卸载工艺。

换句话说，由于大面积玻璃基板(例如，1500㎜*1850㎜的第六代基板)具有非常大的尺寸，因此将大面积玻璃基板从平坦的工作台(例如，平板)抬起时(卸载时)，因存在于基板和工作台之间的液态流体(例如，清洗液)而产生的表面张力,或作用于垫(PAD)和玻璃基板之间的粘着力，从而不仅很难卸掉基板，而且不可避免地需要用非常强的力来脱卸基板，在此过程中具有基板受到损伤的顾虑，所述垫(PAD)配置于平板上。

但是，在本实用新型中，使得基板相对于工作台倾斜，据此可在基板倾斜的状态下进行基板的卸载工艺。如上所述，在倾转地倾斜的状态下，而非平坦的状态下进行基板的卸载工艺，据此可得到的有利的效果在于，在基板的卸载工艺中可使得因存在于基板和工作台之间的液态流体而产生的表面张力的影响最小化，从而用较小的力也能够将基板从工作台卸载，并且使得因用于脱卸基板的力而产生的基板的损伤最小化。

此外，基板处理装置可包括悬浮部，所述悬浮部使得基板在工作台悬浮。

在卸载基板之前，悬浮部使得基板在工作台悬浮，从而更容易实现基板的卸载工艺。换句话说，在卸载基板之前，使得基板悬浮，预先在工作台和基板之间形成流体层，据此可得到的有利的效果在于，更顺畅地实现将基板从工作台抬起的过程。例如，悬浮部构成为将流体喷射至基板的底面从而使得基板悬浮。

此外，基板处理装置可包括非接触吸附部，所述非接触吸附部以非接触方式对基板进行吸附。

如上所述，包括非接触吸附部，所述非接触吸附部以非接触方式对基板进行吸附，据此可得到的有利的效果在于，在基板的装载或卸载工艺中更加稳定地保持基板的夹紧状态，并且在卸载中更容易地抬起基板。

尤其，夹具在基板的卸载工艺中对基板进行吸附，从而在没有基板的弯曲或变形的状态下基板可稳定地从工作台分离。换句话说，因为夹具仅对基板的边缘部位(非活动区域)夹紧，所以若在仅通过夹具来夹紧基板的状态下卸载基板，则用于将基板从工作台分离的力难以有效地施加于基板的中间部位(活动区域)。因此，本实用新型利用非接触吸附部来对基板的中间部位(活动区域)进行吸附，据此可得到的有利的效果在于，更加顺畅地完成基板的卸载工艺。

当然，夹具也可构成为对基板的活动区域夹紧，但是基板的活动区域由于对接触非常敏感，因此需要最大限度地排斥在活动区域的接触。因此，本实用新型利用非接触吸附部来对基板的活动区域进行吸附，据此可得到的有利的效果在于，在基板的区域提前防止因接触而导致的划痕等的损伤。

更为具体地，非接触吸附部构成为利用因流体而产生的表面张力对基板进行非接触吸附。

例如，非接触吸附部包括：吸附板，其以隔开的形式配置于基板的上面；喷嘴，其形成于吸附板，并且选择性地将流体喷射至基板和所述吸附板之间。

优选地，沿着吸附板的长度方向和宽度方向中至少任意一个以上的方向以隔开的形式形成有多个喷嘴。如上所述，将多个喷嘴以间隔均匀的间距的形式安装于吸附板的底面，并且流体整体上均匀地从吸附板的底面喷射，据此可得到的有利的效果在于，整体上均匀地形成吸附板和基板间的吸附力。

优选地，吸附板由PVC材质形成，吸附板形成为具有3～30㎜的厚度。此外，在吸附板的上面形成有加强筋，据此可得到的有利的效果在于，即使吸附板形成为较薄的厚度，吸附板也可具有充分的刚性。并且，包括气缸，所述气缸使得吸附板沿着上下方向移动。

此外，基板处理装置包括调节部，所述调节部对吸附板的水平度进行调节。如上所述，设置调节部，并且保持相对于基板的吸附板的水平状态，据此可得到的有利的效果在于，以流体为媒介的基板的吸附力均匀地形成于整个基板。更为具体地，调节部包括：校平板，其固定于气缸并且吸附板安装于所述校平板；调节部件，其对校平板和吸附板之间的间距进行调节。

作为参考，在本实用新型中，所谓的基板形成为至少一个侧边的长度大于1m的四边形基板。例如，作为执行化学机械研磨工艺的被处理基板可使用具有1500㎜*1850㎜尺寸的第六代玻璃基板。

如上所述，根据本实用新型可得到的有利的效果在于，提高基板的装载及卸载准确度，并且在基板的装载及卸载时防止基板受到损伤。

尤其，根据本实用新型，可使得夹紧单元(基板)相对于工作台选择性倾转地倾斜，据此可得到的有利的效果在于，在装载工艺中抑制基板的姿势及位置偏离，并且将基板准确地配置于想要的位置。

换句话说，由于大面积玻璃基板(例如，1500㎜*1850㎜的第六代基板)具有非常大的尺寸，因此具有如下问题：在将大面积玻璃基板平坦地向下放在平坦的工作台(例如，平板)上时(装载时)，由于存在于大面积玻璃基板和工作台之间的空气或液态流体(例如，清洗液)，因此大面积玻璃基板暂时在工作台的上面浮游，并且出现从常规位置(装载位置)脱离的(偏离的)现象。

但是，在本实用新型中，基板相对于工作台选择性地倾斜，从而可在基板倾斜的状态下进行基板的装载工艺。如上所述，在倾转地倾斜的状态下，而非平坦的状态下进行基板的装载工艺，据此可得到的有利的效果在于，在基板的装载工艺中由于存在于基板和工作台之间的空气或液态流体可从基板和工作台之间向外侧泄露，因此在基板的装载工艺中使得因空气层或液体层而导致的基板的浮游现象最少化，并可抑制基板的姿势及位置偏离，且使得基板准确地位于想要的位置。

此外，根据本实用新型，沿着朝向与基板的一个边相面对的基板的另一个边的方向依次解除因多个夹具而产生的对基板的夹紧，据此可得到的有利的效果在于，在不存在基板被推的现象的状态下将基板装载于准确的位置。尤其，若多个夹具中一部分的夹紧被解除，则在基板的一部分部位接触于工作台的状态下，基板的其余部位保持为被夹紧单元夹紧的状态(固定状态)，由此可得到的有利的效果在于，在基板最初接触于工作台时，抑制基板的位置偏离。

此外，根据本实用新型，在本实用新型中，夹紧单元(基板)在相对于工作台倾转地倾斜的状态下得到卸载，据此可得到的有利的效果在于，更加容易且稳定地完成基板的卸载工艺。

换句话说，由于大面积玻璃基板(例如，1500㎜*1850㎜的第六代基板)具有非常大的尺寸，因此将大面积玻璃基板从平坦的工作台(例如，平板)抬起时(卸载时)，因存在于基板和工作台之间的液态流体(例如，清洗液)而产生的表面张力,或作用于垫(PAD)和玻璃基板之间的粘着力，从而不仅很难卸掉基板，而且不可避免地需要用非常强的力来脱卸基板，在此过程中具有基板受到损伤的顾虑，所述垫(PAD)配置于平板上。

但是，在本实用新型中，使得基板相对于工作台倾斜，据此可在基板倾斜的状态下进行基板的卸载工艺。如上所述，在倾转地倾斜的状态下，而非平坦的状态下进行基板的卸载工艺，据此可得到的有利的效果在于，在基板的卸载工艺中可使得因存在于基板和工作台之间的液态流体而产生的表面张力的影响最小化，从而用较小的力也能够将基板从工作台卸载，并且使得因用于脱卸基板的力而产生的基板的损伤最小化。

此外，根据本实用新型，对固定于基架的固定伸缩部的伸缩长度进行调节，从而使得夹紧单元相对于工作台选择性倾转地倾斜，据此可得到的有利的效果在于，抑制因固定伸缩部和旋转伸缩部的操作而产生的支撑架的不稳定晃动(向左右方向摇晃的晃动)。

换句话说，若安装于基架的两侧的伸缩部全部形成为可旋转的结构(基架的一个边及其他边全部安装有旋转伸缩部的结构)，例如，若在配置于基架两侧的伸缩部中任意一侧所配置的伸缩部的长度增加，则支撑架的上下高度及角度得到变更的同时，支撑架的左右位置得到变更。由此，随着伸缩部的长度变化而产生的伸缩部的控制(伸缩长度控制)需要全部反映支撑架的高度及角度和左右位置，由此具有的问题在于，伸缩部的控制变复杂且困难。但是，在本实用新型中，固定伸缩部固定安装于基架，从而仅沿着连接于固定伸缩部的支撑架的上下方向的直线移动被允许，且左右移动被约束，据此，可更加容易地进行固定伸缩部和旋转伸缩部的伸缩长度控制。

此外，由于固定伸缩部可抑制支撑架的左右移动，换句话说，由于支撑架与固定安装于基架的固定伸缩部相连接，从而可从根本上抑制左右移动，因此可得到的有利的效果在于，固定伸缩部和旋转伸缩部被操作时可使得因支撑架的不稳定晃动而产生的基板的摇晃最小化，并且防止因摇晃而产生的夹紧失败，提高稳定性及可靠性。由此，即使不另外安装用于防止支撑架的不稳定晃动的另外的引导装置也可以，例如用于引导沿着支撑架的上下方向移动的引导衬套，因此可得到的有利的效果在于，简化结构且使得设计自由度提高。

此外，根据本实用新型，包括非接触吸附部，所述非接触吸附部以非接触方式对基板进行吸附，据此可得到的有利的效果在于，在基板的装载或卸载工艺中更加稳定地保持基板的夹紧状态，并且在卸载中更容易地抬起基板。

此外，根据本实用新型，在基板装载于准确的位置的状态下完成研磨工艺，据此可得到的有利的效果在于，可提高基板的表面均匀度，且使得研磨品质提高。

附图说明

图1是示出根据本实用新型的第一实施例的基板处理装置的立体图，

图2是示出根据本实用新型的第一实施例的基板处理装置的平面图，

图3是示出根据本实用新型的第一实施例的基板处理装置的主视图，

图4是根据本实用新型的第一实施例的基板处理装置，用于说明基板的活动区域和非活动区域的图，

图5至图10是根据本实用新型的第一实施例的基板处理装置，用于说明装载基板的过程的图，

图11及图12是根据本实用新型的第一实施例的基板处理装置，用于说明研磨基板的过程的图，

图13至图16是根据本实用新型的第一实施例的基板处理装置，用于说明卸载基板的过程的图，

图17及图18是根据本实用新型的第一实施例的基板处理装置，用于说明非接触吸附部的图，

图19是示出根据本实用新型的第二实施例的基板处理装置的立体图，

图20是示出根据本实用新型的第二实施例的基板处理装置的平面图，

图21是示出根据本实用新型的第二实施例的基板处理装置的主视图，

图22是根据本实用新型的第二实施例的基板处理装置，用于说明基板的活动区域和非活动区域的图，

图23至图28是根据本实用新型的第二实施例的基板处理装置，用于说明装载基板的过程的图，

图29及图30是根据本实用新型的第二实施例的基板处理装置，用于说明研磨基板的过程的图，

图31至图34是根据本实用新型的第二实施例的基板处理装置，用于说明卸载基板的过程的图，

图35及图36是根据本实用新型的第二实施例的基板处理装置，用于说明非接触吸附部的图。

具体实施方式

以下，参照附图对本实用新型的优选实施例进行详细说明，但是本实用新型并非受实施例的限制或限定。作为参考，本说明中相同的标号实质上指代相同的要素，并且在所述规则下，可引用其他附图中所记载的内容来说明，并且可省略对于从业者不言而喻的内容或反复出现的内容。

图1是示出根据本实用新型的第一实施例的基板处理装置的立体图，图2是示出根据本实用新型的第一实施例的基板处理装置的平面图，图3是示出根据本实用新型的第一实施例的基板处理装置的主视图。此外，图4是根据本实用新型的第一实施例的基板处理装置，用于说明基板的活动区域和非活动区域的图。并且，图5是根据本实用新型的第一实施例的基板处理装置，用于说明在装载区域收取基板的过程的图，图6是根据本实用新型的第一实施例的基板处理装置，用于说明将基板移送至工作台(stage)的过程的图，图7至图10是根据本实用新型的第一实施例的基板处理装置，用于说明将基板装载于工作台的过程的图。此外，图11及图12是根据本实用新型的第一实施例的基板处理装置，用于说明研磨基板的过程的图，图13至图16是根据本实用新型的第一实施例的基板处理装置，用于说明卸载基板的过程的图，

参照图1至16，根据本实用新型的第一实施例的基板处理装置1包括：工作台100，其进行对基板10的研磨工艺；夹紧(grip)单元200，其夹紧基板10；倾斜(tilting) 部300，其使得夹紧单元200相对于工作台100选择性倾转地倾斜。

工作台100配置于研磨区域(未示出)，所述研磨区域设置于装载区域101和卸载区域102之间，在工作台100进行对基板10的机械研磨工艺或化学机械研磨(CMP)工艺。例如，利用研磨部件(例如，研磨垫或研磨带(belt))对基板10的表面进行机械研磨期间供给用于化学研磨的研磨液，从而进行基板10的化学机械研磨工艺。

作为参考，在本实用新型中，所谓的基板10形成为至少一个侧边的长度大于1m的四边形基板10。例如，作为执行化学机械研磨工艺的被处理基板10，具有1500㎜*1850 ㎜尺寸的第六代玻璃基板10用作被处理基板10。根据不同的情况，第七代及第八代玻璃基板也可用作被处理基板。

基板10通过移送机械手(robot)(未示出)供给于装载区域101。装载区域101 的基板10被移送至工作台100，并在工作台100上进行对基板10的研磨工艺。之后，基板10从工作台100移送至卸载区域102之后进行下一个工艺。

工作台100可形成为能够放置基板10的多种结构，且本实用新型并非受到工作台100的形状及结构的限制或限定。例如，工作台100可形成为四边形形态。

此外，在工作台100的上面凸出形成有四边形形态的止动件(retainer)100a，所述四边形形态的止动件100a用于在研磨工艺中防止基板10脱离。优选地，止动件100a 的凸出高度形成为与基板10的厚度相同。根据不同的情况，也可构成为在工作台上进行研磨工艺期间基板的底面吸附于工作台的上面。

夹紧单元200设置为对基板10进行夹紧。在此，所谓的夹紧单元200对基板10进行夹紧理解为，夹紧单元200对基板10以可移送或移动的状态进行抓握，本实用新型并非受到夹紧单元200的夹紧方式的限制或限定。例如，夹紧单元200可构成为以附着、吸附或加压方式对基板10进行夹紧。

更为具体地，夹紧单元200包括：支撑架(frame)210，其可通过倾斜部300进行角度调节；夹具(gripper)220，其安装于支撑架210并对基板10进行夹紧。例如，夹具220可构成为真空吸附于基板10。

支撑架210可根据所需的条件及设计样式形成为多种形态。例如，支撑架210可形成为构成大致“H”形态。根据不同的情况，支撑架可形成为构成四边形或其他不同的几何形态，本实用新型并非受到支撑架的形态及结构的限制或限定。

夹具220以与基板10的上面相面对的形式安装于支撑架210。此时，夹具220也可直接安装于支撑架210，但是不同地，也能够以固定于支撑架210的另外的延长部件或连接部件为媒介安装于支撑架210。

夹具220构成为以真空吸附方式对基板10进行夹紧。例如，为了能够独立地吸附基板10而设置多个夹具220。优选地，夹具220构成为对基板10的非活动区域(non-activearea)12进行夹紧。如上所述，夹具220在基板10的非活动区域12对基板10进行夹紧(对基板的非活动区域12进行夹紧)，据此可得到的有利的效果在于，防止因夹具 220的接触而导致的基板10损伤及收率下降。

在此，所谓的基板10的非活动区域12指的是基板10的区域中未形成有图案(Pattern)的区域或不需要工艺的区域(dead zone)。

例如，基板10的非活动区域12可以以包围基板10的活动区域(active area)11 的周围的形式形成于活动区域11的边缘部位。在此，所谓的基板10的活动区域11指的是基板10的区域中实质上形成有像素单元(cell)等的区域，通常，基板10的边缘内侧区域定义为活动区域11。作为参考，参照图4，在基板10，非活动区域12(阴影区域)可沿着基板10的边缘形成，活动区域11可形成于基板10的边缘内侧。

此外，夹具220可形成为具有比宽度长的长度的长方形形态(薄且长的形态)。如上所述，将夹具220形成为长方形形态，据此可得到的有利的效果在于，夹具220不侵犯活动区域11，且在具有较窄的宽度的非活动区域12上有效地对基板10进行夹紧。

倾斜部300的设置是为了使得夹紧单元200相对于工作台100选择性倾转地倾斜，所述夹紧单元200对基板10进行夹紧。

在此，所谓的夹紧单元200相对于工作台100倾斜指的是夹紧单元200以相对于工作台100倾斜规定角度的形式配置，随着夹紧单元200相对于工作台100倾斜，被夹紧单元200夹紧的基板10也能够以相对于工作台100倾斜规定角度的形式配置。

作为参考，倾斜部300安装于沿着导轨(guide rail)110a移动的导向架(guideframe)110，所述导轨110a沿着基板10的移送路径配置，由于导向架110沿着导轨110a 进行移动，因此倾斜部300(包括夹紧单元和基板)可从装载区域101移动至工作台100，或者从工作台100移动至卸载区域102。

优选地，在夹紧单元200相对于工作台100倾转地倾斜的状态下，基板10的一边以比基板10的其余的边更邻近于工作台100的形式配置(以基板的一个边为基准倾斜)。在此，基板10的一边以邻近于工作台100的形式配置指的是将以下构成全部包括在内的概念：基板10的一边以接触于工作台100的形式配置，或者基板10的一边以邻近于工作台100的形式配置为隔开的状态。

如上所述，本实用新型可使得夹紧单元200(基板)相对于工作台100选择性倾转地倾斜，据此可得到的有利的效果在于，在装载工艺中抑制基板10的姿势及位置偏离，并且将基板10准确地配置于想要的位置。

换句话说，由于大面积玻璃基板(例如，1500㎜*1850㎜的第六代基板)具有非常大的尺寸，因此具有如下问题：在将大面积玻璃基板平坦地向下放在平坦的工作台(例如，平板)上时(装载时)，由于存在于大面积玻璃基板和工作台之间的空气或液态流体(例如，清洗液)，因此大面积玻璃基板暂时在工作台的上面浮游，并且出现从常规位置(装载位置)脱离的(偏离的)现象。

但是，在本实用新型中基板10相对于工作台100选择性地倾斜，从而可在基板10倾斜的状态下进行基板10的装载工艺。如上所述，在倾转地倾斜的状态下，而非平坦的状态下进行基板10的装载工艺，据此可得到的有利的效果在于，在基板10的装载工艺中由于存在于基板10和工作台100之间的空气或液态流体可从基板10和工作台100 之间向外侧泄露，因此在基板10的装载工艺中使得因空气层或液体层而导致的基板10 的浮游现象最少化，并可抑制基板10的姿势和位置偏离，且使得基板10准确地位于想要的位置。

倾斜部300可形成为可选择性地使得夹紧单元200倾斜的多种结构。例如，倾斜部300包括：基架(base frame)310；第一伸缩部320，其设置为对基架310和夹紧单元进行连接，并可选择性地伸缩；第二伸缩部330，其以与第一伸缩部320相面对的形式配置，并设置为对基架310和夹紧单元进行连接且可选择性地伸缩，将第一伸缩部320 和第二伸缩部330的伸缩长度调节得互不相同，从而可使得夹紧单元倾斜。

基架310可根据所需的条件及设计样式形成为多种形态。例如，基架310可形成为构成四边形形态。根据不同的情况，基架可形成为构成圆形或其他几何形态，并且本实用新型并非受到基架的形态及结构的限制或限定。

此时，第一伸缩部320和第二伸缩部330中任意一个以上可构成为在以垂直线为基准倾斜地配置的状态下伸缩。以下举例说明如下构成：第一伸缩部320和第二伸缩部330 均在倾斜地配置的状态下伸缩。根据不同的情况，第一伸缩部和第二伸缩部中任意一个也可构成为垂直地配置。

更为具体地，第一伸缩部320包括多个第一电动缸(cylinder)321，所述多个第一电动缸(cylinder)321沿着所述基架310的一个边隔开地配置，并且可选择性伸缩。此外，第二伸缩部330包括多个第二电动缸331，所述多个第二电动缸331沿着基架310 的另一个边隔开地配置，并且可选择性伸缩。以下，举例说明如下构成：在基架310的一个边安装有两个第一电动缸321，以与第一电动缸321相面对的形式在基架310的另一个边安装有两个第二电动缸331。根据不同的情况，第一伸缩部和第二伸缩部仅包括一个电动缸，或者也可包括三个以上电动缸。

此时，多个第一电动缸321以同步化的形式得到操作(同时操作相同的伸缩距离)，多个第二电动缸331以同步化的形式得到操作。

作为电动缸(第一电动缸、第二电动缸)可使用能够选择性地进行长度调节的常用的电动缸，本实用新型并非受到电动缸的种类及特性的限制或限定。例如，电动缸可包括：马达，其提供驱动力；滚珠螺杆(ball screw)，其通过马达进行旋转；滚珠螺杆螺母(ballscrew nut)，其安装于滚珠螺杆并通过滚珠螺杆的旋转而沿着滚珠螺杆进行直线移动；连杆(rod)，其连接于滚珠螺杆螺母，所述电动缸对滚珠螺杆的旋转数及旋转方向进行控制，从而可对连杆的伸缩长度进行控制。优选地，第一电动缸321和第二电动缸331可使用伺服马达(servo-motor)，以便能够调节细微的伸缩长度。根据不同的情况，作为第一伸缩部和第二伸缩部，可使用能够选择性地进行长度调节的其他装置来代替电动缸，第一伸缩部和第二伸缩部的种类可根据所需的条件及设计样式进行多种变更。

此外，基板处理装置1包括引导部230，所述引导部230对相对于基架310的支撑架210的上下方向移动进行引导。

引导部230对相对于基架310的支撑架210的上下方向移动进行引导，从而可抑制通过第一伸缩部320和第二伸缩部330的操作而导致的支撑架210的不稳定的晃动(向左右方向摇晃的晃动)。

换句话说，在支撑架向上下方向移动的同时向左右方向的移动被允许的结构(排除引导部230的结构)中，例如，若第一伸缩部的长度增加，则支撑架的上下高度及角度得到变更的同时，支撑架的左右位置得到变更。由此，因第一伸缩部的长度变化而产生的对第二伸缩部的控制(伸缩长度控制)需全部反映支撑架的高度及角度和左右位置，由此具有的问题在于，第一伸缩部和第二伸缩部的控制变复杂且困难。但是，在本实用新型中仅允许通过引导部230沿着支撑架210的上下方向进行的直线移动，左右移动被约束，据此可更易于执行第一伸缩部320和第二伸缩部330的伸缩长度控制。

此外，引导部230可抑制支撑架210的左右移动，由此可得到的有利的效果在于，第一伸缩部320和第二伸缩部330操作时可使得因支撑架210的不稳定晃动而导致的基板10的摇晃最小化，防止因摇晃而导致的夹紧失败，并提高稳定性及可靠性。尤其，具有至少一个侧边的长度大于1m的长度的大面积基板10即使因支撑架210的小的摇晃也会产生大的晃动，由此最大限度地抑制支撑架210的摇晃是重要的。

引导部230可形成为能够引导相对于基架310的支撑架210的上下方向移动的多种结构。例如，引导部230包括：引导衬套(guide bushing)234，其安装于基架310；导杆(guiderod)232，其配置为一端以可旋转的形式连接于支撑架210，并且沿着引导衬套234可进行直线移动。

例如，导杆232可配置为能够沿着引导衬套234的引导孔(未示出)进行直线移动，导杆232的下端以常用的旋转销(pin)为媒介以可旋转的形式连接于支撑架210。

优选地，将引导部230配置于第一伸缩部320和第二伸缩部330之间的中间位置(以图5为基准，基架310的中心位置)，据此可得到的有利的效果在于，最大限度地抑制支撑架210的摇晃及不稳定的晃动。

为了将基板10装载于工作台100或从工作台100卸载基板10，可使用根据本实用新型的第一实施例的基板处理装置1。在此，所谓的基板10的装载指的是将将要被研磨处理的基板10向下放在工作台100的工艺，所谓的基板10的卸载指的是将完成研磨的基板10从工作台100抬起的工艺。

例如，在装载区域101收取基板10之后，为了将基板10装载于工作台100，使用基板处理装置1。换句话说，在基板10从装载区域101移送至工作台100，并且在倾斜部300使得夹紧单元200相对于工作台100倾转地倾斜的状态下，基板10装载于工作台100。

以下，对基板10的装载过程进行更加具体地说明。

参照图5，基板10通过移送机械手(未示出)供给于装载区域101，基板10在装载区域101被夹紧单元200收取。

在装载区域101，随着第一伸缩部320和第二伸缩部330的长度同时伸长(down) 支撑架210可水平地下降，如果支撑架210下降一定以上时夹具220接触于基板10，则基板10通过因夹具220而产生的吸附力而吸附于夹具220。之后，若第一伸缩部320 和第二伸缩部330的长度同时缩短(up)，则在基板10吸附于夹具220的状态下，支撑架210水平地上升。

参照图6，在基板10吸附于夹紧单元200的状态下，导向架110沿着导轨110a向工作台100方向移动，从而基板10从装载区域101被移送至工作台100。

参照图7，被移送至工作台100的上部的基板10在相对于工作台100倾转地倾斜的状态下，被装载至工作台100的上面。

换句话说，若仅第一伸缩部320和第二伸缩部330中某一个的长度伸长，例如，若第一伸缩部320的长度伸长(down)，则支撑架210可相对于工作台100倾转地倾斜，并且被夹紧单元200夹紧的基板10也相对于工作台100倾转地倾斜。如上所述，在基板10相对于工作台100倾转地倾斜的状态下实现基板10的装载。

此时，可在支撑架210(夹紧单元)的倾斜角度保持一定的状态下进行相对于工作台100倾斜地配置的基板10的装载过程，或者在支撑架210(夹紧单元)的倾斜角度逐渐减小的同时进行相对于工作台100倾斜地配置的基板10的装载过程。

例如，若在基板10(支撑架)的倾斜角度保持一定的状态下由所有的夹具220产生的夹紧同时被解除(OFF)，则基板10从左侧边(以图7为基准)沿着朝向右侧边(以图7为基准)的方向逐渐装载至工作台100。

作为另一个例子，如图9所示，在使得基板10相对于工作台100倾斜从而基板10 的左侧边(以图7为基准)首先接触于工作台100的状态下，若第二伸缩部330的长度逐渐伸长(down)，则基板10的倾斜角度逐渐减小的同时，基板10从左侧边(以图7 为基准)沿着朝向右侧边(以图7为基准)的方向逐渐装载至工作台100。

此时，优选地，相对于工作台100的夹紧单元的倾斜角度(基板的倾斜角度)形成为0.1°～3°。换句话说，基板10的倾斜角度越升高(例如，若超过3°)，基板10 的右侧边(以图7为基准)的高度越升高，由此，在基板10因由夹具220产生的夹紧被解除而往下落时，具有基板10受到损伤或破损的顾虑，而且装载基板10的时间增加，工艺效率降低，从而优选地，相对于工作台100的夹紧单元的倾斜角度(基板的倾斜角度)形成为0.1°～3°。

此外，参照图8，依次解除(OFF)因多个夹具220而产生的夹紧从而也可进行倾斜的基板10的装载过程。换句话说，沿着朝向与基板10的一个边(例如，以图7为基准，基板10的左侧边)相面对的基板10的另一个边(例如，以图7为基准，基板10的右侧边)的方向依次解除(OFF)因多个夹具220而产生的对基板10的夹紧，且随着依次解除因多个夹具220而产生的夹紧，基板10从一个边沿着朝向另一个边的方向逐渐装载于工作台100。

如上所述，在基板10倾斜的状态下，依次解除(OFF)因多个夹具220而产生的夹紧，从而进行装载，据此具有的有利的效果在于，可更加准确地对准基板10的装载位置。

换句话说，若在基板10(支撑架)的倾斜角度保持一定的状态下同时解除(OFF) 因所有的夹具220而产生的夹紧，则虽然存在于基板10和工作台100之间的空气或液态流体可从基板10和工作台100之间向外侧泄露，但是会产生基板10在想要装载的位置被推的现象。对此，本实用新型中，沿着朝向与基板10的一个边(例如，以图7为基准，基板10的左侧边)相面对的基板10的另一个边(例如，以图7为基准，基板10 的右侧边)的方向依次解除(OFF)因多个夹具220而产生的对基板10的夹紧，据此可得到的有利的效果在于，在不存在基板10被推的现象的状态下将基板10装载于准确的位置。尤其，如图7所示，若多个夹具220中一部分(例如，以图7为基准，对基板的左侧边部位夹紧的夹具)的夹紧被解除，则在基板10的一部分部位(例如，以图7为基准，基板的左侧边部位)接触于工作台100的状态下，基板10的其余部位(例如，以图7为基准，基板10的右侧边部位)保持为被夹紧单元200夹紧的状态(固定状态)，由此可得到的有利的效果在于，在基板10最初接触于工作台100时，抑制基板10的位置偏离。

优选地，多个夹具220设置为可相对于支撑架210进行弹性移动。在此，所谓的夹具220可相对于支撑架210进行弹性移动指的是相对于支撑架210的夹具220的配置高度(支撑架210和夹具220之间的间距长度)(参照图8的L)可弹性变化。例如，夹具220沿着上下方向以可直线移动的形式安装于支撑架210，相对于支撑架210的夹具 220的直线移动可通过类似于弹簧的弹性部件得到弹性支撑。

如上所述，多个夹具220相对于支撑架210进行弹性移动，据此可得到的有利的效果在于，即使因多个夹具220中一部分的夹紧被解除而导致基板10产生下垂(仅基板的一部分部分地接触于工作台100的状态)，在与基板10的下垂部位(弯曲的部位) 相邻接的部位仍然稳定地保持用于保持(ON)对基板10夹紧的夹具220的夹紧状态。假设，以图8为基准，即使因从支撑架210的左侧第一个配置的夹具220和第二个配置的夹具220的夹紧被解除而在基板10的左侧边部位产生下垂，但由于第三个配置的夹具220的长度(支撑架210和夹具220之间的间距长度)可弹性增加，由此也可得到的有利的效果在于，稳定地保持因第三个配置的夹具220而产生的夹紧状态，并且使得基板10的弯曲更加缓和。

并且，参照图10，基板10装载于工作台100之后，第一伸缩部320和第二伸缩部 330的长度同时缩短(up)，从而夹紧单元200上升至工作台100的上部。

在工作台100上完成基板10的装载之后，在工作台100上进行对基板10的研磨工艺。此时，可根据所需的条件及设计样式利用多种研磨部件进行基板10的研磨工艺。

例如，参照图11，通过因辊子(roller)132而沿着规定的路径进行循环旋转的研磨带130来进行对基板10的研磨工艺。

研磨带130设置为通过辊子132而沿着规定的路径进行移动，并且对基板10的表面进行线性研磨(平坦化)。例如，研磨带130可设置为以无限循环方式进行循环旋转并且对基板10的表面进行线性研磨(平坦化)。

就研磨带130而言，沿着轴方向(辊子132的旋转轴方向)的长度可形成为与基板10的宽度(沿着研磨带130的轴线方向的宽度)相对应的长度。根据不同的情况，研磨带的轴方向长度也可形成得比基板的宽度大或小。

研磨带130由适合对基板10进行机械研磨的材质形成。例如，研磨带130可利用聚氨酯(polyurethane)、聚脲(polyurea)、聚酯(polyester)、聚醚(polyether)、环氧树脂(epoxy)、聚酰胺(polyamide)、聚碳酸酯(polycarbonate)、聚乙烯 (polyethylene)、聚丙烯(polypropylene)、氟(fluorine)聚合物、乙烯基(vinyl) 聚合物、丙烯酸(acrylic)及甲基丙酸烯(methacrylic)聚合物、硅树脂(silicone)、胶乳(latex)、氮化橡胶(nitridingrubber)、异戊二烯(isoprene)橡胶、丁二烯 (butadiene)橡胶及苯乙烯(styrene)、丁二烯(butadiene)及丙烯腈(acrylonitrile) 的多种共聚物来形成，并且研磨带130的材质及特性可根据所需的条件及设计样式进行多种变更。

作为参考，可仅通过一个研磨带130进行基板10的研磨工艺，但是也可利用多个研磨带130同时或依次对基板10进行研磨。根据不同的情况，研磨带也可构成为不循环旋转，而是以常用的盒式录音带(cassette tape)的卷对卷(reel to reel)卷取方式(卷取至第一卷之后再次沿着相反方向卷取至第二卷的方式)沿着开环(open loop) 形态的移动轨迹进行移动(卷取)并且对基板进行研磨。

并且，工作台100的位置得到固定并且研磨带130相对于工作台100进行水平移动，据此可进行基板10的研磨工艺。根据不同的情况，也可构成为研磨带的位置得到固定并且工作台相对于研磨带进行水平移动，据此进行基板的研磨工艺。

作为另一个例子，参照图12，通过以接触于基板10的状态进行自转的研磨垫130'来进行对基板10的研磨工艺。

研磨垫130'安装于研磨垫130'载体(carrier)132'，并且设置为以接触于基板10的表面的状态进行自转的同时，对基板10的表面进行线性研磨(平坦化)。

研磨垫130'载体132'可形成为能够使得研磨垫130'自转的多种结构，本实用新型并非受到研磨垫130'载体132'的结构的限制或限定。例如，研磨垫130'载体132'可以由一个主体构成，或者以多个主体结合的形式构成，并且构成为与驱动轴(shaft)(未示出)相连接从而进行旋转。此外，在研磨垫130'载体132'设置有用于将研磨垫130' 加压于基板10的表面的加压部(例如，通过空气压力对研磨垫130'进行加压的空气压力加压部)。

研磨垫130'由适合对基板10进行机械研磨的材质形成。例如，研磨垫130'可利用聚氨酯(polyurethane)、聚脲(polyurea)、聚酯(polyester)、聚醚(polyether)、环氧树脂(epoxy)、聚酰胺(polyamide)、聚碳酸酯(polycarbonate)、聚乙烯 (polyethylene)、聚丙烯(polypropylene)、氟(fluorine)聚合物、乙烯基(vinyl) 聚合物、丙烯酸(acrylic)及甲基丙酸烯(methacrylic)聚合物、硅树脂(silicone)、胶乳(latex)、氮化橡胶(nitridingrubber)、异戊二烯(isoprene)橡胶、丁二烯(butadiene)橡胶及苯乙烯(styrene)、丁二烯(butadiene)及丙烯腈(acrylonitrile) 的多种共聚物来形成，并且研磨垫130'的材质及特性可根据所需的条件及设计样式进行多种变更。

优选地，作为研磨垫130'使用具有比基板10小的尺寸的圆形研磨垫130'。换句话说，也可使用具有比基板大的尺寸的研磨垫来对基板进行研磨，但是若使用比基板大的尺寸的研磨垫，则具有的问题在于，为了使得研磨垫自转而需要非常大的旋转装置及空间，由此空间效率及设计自由度降低并且稳定性降低。实质上，由于基板的至少一个侧边的长度具有大于1m的尺寸，因此具有的问题在于，使得具有比基板大的尺寸的研磨垫(例如，具有大于1m的直径的研磨垫)自转的过程本身非常困难。此外，若使用非圆形研磨垫(例如，四边形研磨垫)，则通过自转的研磨垫得到研磨的基板的表面无法在整体上研磨成均匀的厚度。但是，本实用新型通过使得具有比基板10小的尺寸的圆形研磨垫130'自转而对基板10的表面进行研磨，据此可得到的有利的效果在于，在不使得空间效率及设计自由度显著下降的状态下使得研磨垫130'自转，从而可对基板10 进行研磨，并且整体上均匀地保持通过研磨垫130'而产生的研磨量。

并且，研磨垫130'的研磨路径可根据所需的条件及设计样式进行多种变更，本实用新型并非受到研磨垫130'的研磨路径的限制或限定。例如，研磨垫130'可构成为沿着倾斜的第一斜线路径、向第一斜线路径的相反方向倾斜的第二斜线路径连续地进行移动的同时，对基板10的表面进行研磨。根据不同的情况，研磨垫也可沿着圆形轨迹的研磨路径进行移动并对基板进行研磨。

参照图13至图16，在工作台100上完成研磨的基板10从工作台100移送至卸载区域102之后进行下一个工艺。

优选地，在倾斜部300逐渐使得夹紧单元200相对于工作台100倾转地倾斜的状态下，将基板10从工作台100卸载。

如上所述，在本实用新型中，夹紧单元200(基板)在相对于工作台100倾转地倾斜的状态下得到卸载，据此可得到的有利的效果在于，更加容易且稳定地完成基板10 的卸载工艺。

换句话说，由于大面积玻璃基板10(例如，1500㎜*1850㎜的第六代基板)具有非常大的尺寸，因此将大面积玻璃基板10从平坦的工作台100(例如，平板)抬起时(卸载时)，因存在于基板10和工作台100之间的液态流体(例如，清洗液)而产生的表面张力，不仅很难卸掉基板10，而且不可避免地需要用非常强的力来脱卸基板10，在此过程中具有基板10受到损伤的顾虑。

但是，在本实用新型中，使得基板10相对于工作台100倾斜，据此可在基板10倾斜的状态下进行基板10的卸载工艺。如上所述，在倾转地倾斜的状态下，而非平坦的状态下进行基板10的卸载工艺，据此可得到的有利的效果在于，在基板10的卸载工艺中可使得因存在于基板10和工作台100之间的液态流体而产生的表面张力的影响最小化，从而用较小的力也能够将基板10从工作台100卸载，并且使得因用于脱卸基板10 的力而产生的基板10的损伤最小化。

更加具体地，参照图13，若仅第一伸缩部320和第二伸缩部330中某一个的长度缩短，例如，若第二伸缩部330的长度缩短(up)，则支撑架210可相对于工作台100倾转地倾斜，并且被夹紧单元200夹紧的基板10也相对于工作台100倾转地倾斜。

如上所述，如图15所示，在基板10倾斜的状态下，第一伸缩部320的长度缩短(up)，从而基板10从工作台100被卸载。

之后，如图16所示，在基板10吸附于夹紧单元200的状态下，随着导向架110沿着导轨110a向卸载区域102方向移动，基板10从工作台100移送至卸载区域102。

此外，基板处理装置1可包括悬浮部150，所述悬浮部150使得基板10在工作台100悬浮。

在卸载基板10之前，悬浮部150使得基板10在工作台100悬浮，从而更容易实现基板10的卸载工艺。换句话说，在卸载基板10之前，使得基板10悬浮，从而预先在工作台100和基板10之间形成流体层，据此可得到的有利的效果在于，更顺利地实现将基板10从工作台100抬起的过程。

根据所需的条件及设计样式，悬浮部150可构成为通过多种方式使得基板10在工作台100上悬浮。例如，参照图14，悬浮部150可构成为将气体(或其他流体)喷射至基板10的底面，从而使得基板10悬浮。根据不同的情况，悬浮部也可利用因超声波而产生的振动能量来使得基板在工作台上悬浮。

另外，图17及图18是根据本实用新型的第一实施例的基板处理装置，用于说明非接触吸附部的图。并且，对于与前述构成相同及相当于相同的部分赋予相同或相当于相同的参照标号，并且省略对其的详细说明。

参照图17及图18，根据本实用新型的第一实施例的基板处理装置1可包括非接触吸附部250，所述非接触吸附部250以非接触的方式来吸附基板10。

非接触吸附部250的设置是为了，在基板10的装载或卸载工艺中更加稳定地保持基板10的夹紧状态，并在卸载工艺中更加容易地抬起基板10。

尤其，夹具220在基板10的卸载工艺中对基板10进行吸附，从而在没有基板10 的弯曲或变形的状态下基板10可稳定地从工作台100分离。换句话说，因为夹具220 仅对基板10的边缘部位(非活动区域)夹紧，所以若在仅通过夹具220来夹紧基板10 的状态下卸载基板10，则用于将基板10从工作台100分离的力难以有效地施加于基板 10的中间部位(活动区域)。对此，本实用新型利用非接触吸附部250来对基板10的中间部位(活动区域)进行吸附，据此可得到的有利的效果在于，更加顺畅地完成基板 10的卸载工艺。

当然，夹具220也可构成为对基板10的活动区域11夹紧，但是基板10的活动区域11由于对接触非常敏感，因此需要能够最大限度地排斥在活动区域11的接触。对此，本实用新型利用非接触吸附部250来对基板10的活动区域11进行吸附，据此可得到的有利的效果在于，在基板10的区域提前防止因接触而导致的划痕(scratch)等的损伤。

更为具体地，非接触吸附部250构成为利用因流体而产生的表面张力对基板10进行非接触吸附。

例如，非接触吸附部250包括：吸附板252，其以隔开的形式配置于基板10的上面；喷嘴(nozzle)254，其形成于吸附板252，并且选择性地将流体喷射至基板10和所述吸附板252之间。

吸附板252的形状及大小可根据所需的条件及设计样式进行多种变更。例如，吸附板252可形成为与基板10的活动区域11相对应的四边形形态。此时，吸附板252可安装于夹紧单元200。根据不同的情况，也能够与夹紧单元区分地安装吸附板。

喷嘴254形成为将流体喷射至吸附板252的底面(吸附板252和工作台100之间的空间)。换句话说，若吸附板252以间隔规定间距的形式隔开地配置于基板10的上面，则流体从喷嘴254喷射，从喷嘴254喷射的流体填充到吸附板252和基板10之间。

优选地，沿着吸附板252的长度方向和宽度方向中至少任意一个以上的方向以隔开的形式形成有多个喷嘴254。如上所述，将多个喷嘴254以间隔均匀的间距的形式安装于吸附板252的底面，并且流体整体上均匀地从吸附板252的底面喷射，据此可得到的有利的效果在于，整体上均匀地形成吸附板252和基板10间的吸附力。

优选地，吸附板252由PVC材质形成。根据不同的情况，吸附板也可由金属材质(例如，SUS(不锈钢))形成。但是，若吸附板由金属材质形成，则吸附板的重量增加，从而有移送及管理上的不便，由此，优选地，吸附板252由PVC材质形成，以便可减轻吸附板的重量。

此时，在对1500㎜*1850㎜的第六代基板10的活动区域11进行吸附的条件下，吸附板252形成为具有3～30㎜的厚度。

此外，在吸附板252的上面可形成有加强筋252a。例如，加强筋252a可形成为具有格子形态的结构。根据不同的情况，加强筋可形成为四边形或圆形形态等，并且本实用新型并非受到加强筋的形态及结构的限制或限定。如上所述，在吸附板252的上面形成有加强筋252a，据此可得到的有利的效果在于，即使吸附板252形成为较薄的厚度(3～30㎜)，吸附板252也可具有充分的刚性。

此外，可包括气缸(cylinder)，所述气缸使得吸附板252沿着上下方向移动。气缸在基板10吸附于吸附板252的状态下使得吸附板252缓缓地上升，从而基板10可从工作台100分离。

并且，基板处理装置1包括调节部256，所述调节部256对吸附板252的水平度进行调节。

调节部256设置为对吸附板252的水平度进行调节，以便可保持相对于基板10的吸附板252的水平状态。如上所述，设置调节部256，并且保持相对于基板10的吸附板 252的水平状态，据此可得到的有利的效果在于，以流体为媒介的基板10的吸附力均匀地形成于整个基板10。

调节部256可形成为能够对吸附板252的水平度进行调节的多种结构。例如，调节部256包括：校平(leveler)板256a，其固定于气缸并且吸附板252安装于所述校平板256a；调节部件256b，其对校平板256a和吸附板252之间的间距进行调节。

调节部件256b通过以类似于常用的调节螺栓(bolt)的方式进行紧固或松开的操作可对校平板256a和吸附板252之间的间距进行调节。优选地，校平板256a可形成为四边形形态，并且可设置有四个调节部件256b，以便配置于校平板256a的各个角区域。

另外，图19是示出根据本实用新型的第二实施例的基板处理装置的立体图，图20是示出根据本实用新型的第二实施例的基板处理装置的平面图，图21是示出根据本实用新型的第二实施例的基板处理装置的主视图。此外，图22是根据本实用新型的第二实施例的基板处理装置，用于说明基板的活动区域和非活动区域的图。并且，图23是根据本实用新型的第二实施例的基板处理装置，用于说明在装载区域收取基板的过程的图，图24是根据本实用新型的第二实施例的基板处理装置，用于说明将基板移送至工作台的过程的图，图25至图28是根据本实用新型的第二实施例的基板处理装置，用于说明将基板装载于工作台的过程的图。此外，图29及图30是根据本实用新型的第二实施例的基板处理装置，用于说明研磨基板的过程的图，图31至图34是根据本实用新型的第二实施例的基板处理装置，用于说明卸载基板的过程的图。

参照图19至36，根据本实用新型的第二实施例的基板处理装置1'包括：工作台1100，其进行对基板10的研磨工艺；夹紧单元1200，其对基板10进行夹紧；基架1310，其配置于夹紧单元1200的上部；固定伸缩部1320，其一端固定于基架1310，其他端连接于夹紧单元1200，并且可选择性地进行伸缩；旋转伸缩部1330，其以与固定伸缩部 1320相面对的形式配置，并且一端以可旋转的形式安装于基架1310，其他端连接于夹紧单元1200，并可选择性地进行伸缩，通过将固定伸缩部1320和旋转伸缩部1330的伸缩长度调节为互不相同，从而使得夹紧单元选择性地倾斜。

工作台1100配置于研磨区域(未示出)，所述研磨区域(未示出)设置于装载区域1101和卸载区域1102之间，在工作台1100进行对基板10(对基板图案)的机械研磨工艺或化学机械研磨(CMP)工艺。例如，利用研磨部件(例如，研磨垫或研磨带)对基板10的表面进行机械研磨期间供给用于化学研磨的研磨液，从而进行基板10的化学机械研磨工艺。

作为参考，在本实用新型中，所谓的基板10形成有图案，并且形成为至少一个侧边的长度大于1m的四边形基板10。例如，作为执行化学机械研磨工艺的被处理基板10，具有1500㎜*1850㎜尺寸的第六代玻璃基板10用作被处理基板10。根据不同的情况，第七代及第八代玻璃基板也可用作被处理基板。

基板10通过移送机械手(未示出)供给于装载区域1101。装载区域1101的基板10被移送至工作台1100，并在工作台1100上进行对基板10的研磨工艺。之后，基板10 从工作台1100移送至卸载区域1102之后进行下一个工艺。

工作台1100可形成为能够放置基板10的多种结构，且本实用新型并非受到工作台1100的形状及结构的限制或限定。例如，工作台1100可形成为四边形形态。

此外，在工作台1100的上面凸出形成有四边形形态的止动件1100a，所述四边形形态的止动件1100a用于在研磨工艺中防止基板10脱离。优选地，止动件1100a的凸出高度形成为与基板10的厚度相同。根据不同的情况，也可构成为在工作台上进行研磨工艺期间基板的底面吸附于工作台的上面。

夹紧单元1200设置为对基板10进行夹紧。在此，所谓的夹紧单元1200对基板10 进行夹紧理解为夹紧单元1200对基板10以可移送或移动的状态进行抓握，本实用新型并非受到夹紧单元1200的夹紧方式的限制或限定。例如，夹紧单元1200可构成为以附着、吸附或加压方式对基板10夹紧。

更为具体地，夹紧单元1200包括：支撑架1210，其可通过固定伸缩部1320和旋转伸缩部1330进行角度调节；夹具1220，其安装于支撑架1210并夹紧基板10。例如，夹具1220可构成为真空吸附于基板10。

支撑架1210可根据所需的条件及设计样式形成为多种形态。例如，支撑架1210可形成为构成大致“H”形态。根据不同的情况，支撑架可形成为构成四边或其他几何形态，本实用新型并非受到支撑架的形态及结构的限制或限定。

夹具1220以与基板10的上面相面对的形式安装于支撑架1210。此时，夹具1220 也可直接安装于支撑架1210，但是不同地，也能够以固定于支撑架1210的另外的延长部件或连接部件为媒介安装于支撑架1210。

夹具1220构成为以真空吸附方式对基板10夹紧。例如，为了能够独立地吸附基板10而设置多个夹具1220。优选地，夹具1220构成为对基板10的非活动区域12 (non-activearea)进行夹紧。如上所述，夹具1220在基板10的非活动区域12对基板10夹紧(对基板的非活动区域12夹紧)，据此可得到的有利的效果在于，防止因夹具1220的接触而导致的基板10损伤及收率下降。

在此，所谓的基板10的非活动区域12指的是基板10的区域中未形成有图案(Pattern)的区域或不需要工艺的区域(dead zone)。

例如，基板10的非活动区域12可以以包围基板10的活动区域(active area)11 的周围的形式形成于活动区域11的边缘部位。在此，所谓的基板10的活动区域11指的是基板10的区域中实质上形成有像素单元等的区域，通常，基板10的边缘内侧区域定义为活动区域11。作为参考，参照图22，在基板10，非活动区域12(阴影区域)可沿着基板10的边缘形成，活动区域11可形成于基板10的边缘内侧。

此外，夹具1220可形成为具有比宽度长的长度的长方形形态(薄且长的形态)。如上所述，将夹具1220形成为长方形形态，据此可得到的有利的效果在于，夹具1220不侵犯活动区域11，且在具有较窄的宽度的非活动区域12上有效地对基板10进行夹紧。

包括基架1310、固定伸缩部1320和旋转伸缩部1330的倾斜部1300的设置是为了使得夹紧单元1200相对于工作台1100选择性倾转地倾斜，所述夹紧单元1200对基板 10进行夹紧。

在此，所谓的夹紧单元1200相对于工作台1100倾斜，指的是夹紧单元1200以相对于工作台1100倾斜规定角度的形式配置，随着夹紧单元1200相对于工作台1100倾斜，被夹紧单元1200夹紧的基板10也能够以相对于工作台1100倾斜规定角度的形式配置。

作为参考，基架1310安装于沿着导轨1110a移动的导向架1110，所述导轨1110a 沿着基板10的移送路径配置，由于导向架1110沿着导轨1110a进行移动，因此基架1310 可从装载区域1101移动至工作台1100，或者从工作台1100移动至卸载区域1102。

优选地，在夹紧单元1200相对于工作台1100倾转地倾斜的状态下，基板10的一个边以比基板10的其余的边更邻近于工作台1100的形式配置(以基板的一个边为基准倾斜)。在此，基板10的一个边以邻近于工作台1100的形式配置指的是将以下构成全部包括在内的概念：基板10的一个边以接触于工作台1100的形式配置，或者基板10的一个边以邻近于工作台1100的形式以隔开的状态配置。

如上所述，本实用新型可使得夹紧单元1200(基板)相对于工作台1100选择性倾转地倾斜，据此可得到的有利的效果在于，在装载工艺中抑制基板10的姿势及位置偏离，并且将基板10准确地配置于想要的位置。

换句话说，由于大面积玻璃基板(例如，1500㎜*1850㎜的第六代基板)具有非常大的尺寸，因此具有如下问题：在将大面积玻璃基板平坦地向下放在平坦的工作台(例如，平板)上时(装载时)，由于存在于大面积玻璃基板和工作台之间的空气或液态流体(例如，清洗液)，因此大面积玻璃基板暂时在工作台的上面浮游，并且出现从常规位置(装载位置)脱离的(偏离的)现象。

但是，在本实用新型中，基板10相对于工作台1100选择性地倾斜，从而可在基板10倾斜的状态下进行基板10的装载工艺。如上所述，在倾转地倾斜的状态下，而非平坦的状态下进行基板10的装载工艺，据此可得到的有利的效果在于，在基板10的装载工艺中，由于存在于基板10和工作台1100之间的空气或液态流体可从基板10和工作台1100之间向外侧泄露，因此在基板10的装载工艺中使得因空气层或液体层而导致的基板10的浮游现象最少化，并可抑制基板10的姿势及位置偏离，且使得基板10准确地位于想要的位置。

基架1310可根据所需的条件及设计样式形成为多种形态。例如，基架1310可形成为构成四边形形态。根据不同的情况，基架1310可形成为构成圆形或其他几何形态，并且本实用新型并非受到基架1310的形态及结构的限制或限定。

固定伸缩部1320的一端固定于基架1310，固定伸缩部1320的其他端连接于夹紧单元1200，并且固定伸缩部1320以一端为基准可伸缩。优选地，固定伸缩部1320以垂直地配置于基架1310的形式得到固定并且可沿着上下方向伸缩。更为具体地，固定伸缩部1320包括多个第一电动缸1321，所述多个第一电动缸1321沿着基架1310的一个边隔开地配置，并且可选择性地伸缩。

旋转伸缩部1330以与固定伸缩部1320相面对的形式配置，并且旋转伸缩部1330的一端以可旋转的形式安装于基架1310，旋转伸缩部1330的其他端连接于夹紧单元 1200。固定伸缩部1320可以以一端为中心相对于基架1310进行旋转，并且可以以一端为中心伸缩。更为具体地，旋转伸缩部1330包括多个第二电动缸1331，所述多个第二电动缸1331沿着基架1310的另一个边隔开地配置，并且可选择性地伸缩。

此外，构成为若固定伸缩部1320的伸缩长度变化，则旋转伸缩部1330得到联动，并相对于基架1310旋转。如上所述，对应于固定伸缩部1320的伸缩长度变化(夹紧单元倾斜时)，旋转伸缩部1330相对于基架1310旋转，据此可得到的有利的效果在于，自动地补偿可变单元的旋转位移变化。

作为参考，旋转伸缩部1330能够以类似于旋转销、铰链(hinge)等常用的旋转轴装置为媒介以可旋转的形式安装于基架1310，并且本实用新型并非受到旋转伸缩部1330 的旋转结构的限制或限定。

以下，举例(以四边形排列形态配置有第一电动缸和第二电动缸的例子)说明如下构成：在基架1310的一个边安装有两个第一电动缸1321，以与第一电动缸1321相面对的形式在基架1310的另一个边安装有两个第二电动缸1331。根据不同的情况，固定伸缩部1320和旋转伸缩部1330仅包括一个电动缸，或者也可包括三个以上电动缸。

此时，多个第一电动缸1321以同步化的形式得到操作(同时操作相同的伸缩距离)，多个第二电动缸1331以同步化的形式得到操作。

作为电动缸(第一电动缸、第二电动缸)，可使用能够选择性地进行长度调节的常用的电动缸，本实用新型并非受到电动缸的种类及特性的限制或限定。例如，电动缸可包括：马达，其提供驱动力；滚珠螺杆，其通过马达进行旋转；滚珠螺杆螺母，其安装于滚珠螺杆并通过滚珠螺杆的旋转而沿着滚珠螺杆进行直线移动；连杆，其连接于滚珠螺杆螺母，所述电动缸对滚珠螺杆的旋转数及旋转方向进行控制，从而可对连杆的伸缩长度进行控制。优选地，第一电动缸1321和第二电动缸1331可使用伺服马达，以便能够调节细微的伸缩长度。根据不同的情况，作为固定伸缩部1320和旋转伸缩部1330可使用能够选择性地进行长度调节的其他装置来代替电动缸，固定伸缩部1320和旋转伸缩部1330的种类可根据所需的条件及设计样式进行多种变更。

如上所述，对与基架1310固定设置的固定伸缩部1320的伸缩长度进行调节，从而使得夹紧基板10的夹紧单元1200相对于工作台1100选择性倾转地倾斜，据此可得到的有利的效果在于，抑制因固定伸缩部1320和旋转伸缩部1330的操作而产生的支撑架 1210的不稳定晃动(向左右方向摇晃的晃动)。

换句话说，若安装于基架的两侧的伸缩部全部形成为可旋转的结构(基架的一个边及其他边全部安装有旋转伸缩部的结构)，例如，若在配置于基架两侧的伸缩部中任意一侧所配置的伸缩部的长度增加，则支撑架的上下高度及角度发生变更的同时，支撑架的左右位置发生变更。由此，随着伸缩部的长度变化而产生的伸缩部的控制(伸缩长度控制)需要全部反映支撑架的高度及角度和左右位置，由此具有的问题在于，伸缩部的控制变复杂且困难。但是，在本实用新型中，固定伸缩部1320固定安装于基架1310，从而仅允许沿着连接于固定伸缩部1320的支撑架1210的上下方向进行的直线移动，且左右移动被约束，据此，可更加容易地进行固定伸缩部1320和旋转伸缩部1330的伸缩长度控制。

此外，由于固定伸缩部1320可抑制支撑架1210的左右移动，换句话说，由于支撑架与固定安装于基架1310的固定伸缩部1320相连接，从而可从根本上抑制左右移动，因此可得到的有利的效果在于，固定伸缩部1320和旋转伸缩部1330被操作时可使得因支撑架1210的不稳定晃动而产生的基板10的摇晃最小化，并且防止因摇晃而产生的夹紧失败，提高稳定性及可靠性。由此，即使不另外安装用于防止支撑架1210的不稳定晃动的另外的引导装置也可以，例如用于引导沿着支撑架的上下方向移动的引导衬套，因此可得到的有利的效果在于，简化结构且使得设计自由度提高。尤其，具有至少一个侧边的长度大于1m的长度的大面积基板10即使因支撑架1210的小的摇晃也会产生大的晃动，由此最大限度地抑制支撑架1210的左右摇晃是重要的。

为了将基板10装载于工作台1100或从工作台1100卸载基板10，可使用根据本实用新型的第二实施例的基板处理装置1'。在此，所谓的基板10的装载，指的是将将要被研磨处理的基板10向下放在工作台1100的工艺，所谓的基板10的卸载，指的是将完成研磨的基板10从工作台1100抬起的工艺。

例如，在装载区域1101收取基板10之后，为了将基板10装载于工作台1100，使用基板处理装置1'。换句话说，基板10在从装载区域1101被移送至工作台1100，并且在使得夹紧单元1200相对于工作台1100倾转地倾斜的状态下，基板10装载于工作台1100。

以下，对基板10的装载过程进行更加具体地说明。

参照图23，基板10通过移送机械手(未示出)被供给于装载区域1101，基板10 在装载区域1101被夹紧单元1200收取。

在装载区域1101，若随着固定伸缩部1320和旋转伸缩部1330的长度同时伸长(down)，支撑架1210可水平地下降且支撑架1210下降一定以上时夹具1220接触于基板10，则基板10通过因夹具1220而产生的吸附力而吸附于夹具1220。之后，若固定伸缩部1320和旋转伸缩部1330的长度同时缩短(up)，则在基板10吸附于夹具1220 的状态下，支撑架1210水平地上升。

参照图24，在基板10吸附于夹紧单元1200的状态下，导向架1110沿着导轨1110a向工作台1100方向移动，从而基板10从装载区域1101被移送至工作台1100。

参照图25,移送至工作台1100的上部的基板10在相对于工作台1100倾转地倾斜的状态下，装载至工作台1100的上面。

换句话说，若仅固定伸缩部1320和旋转伸缩部1330中某一个的长度伸长，例如，若固定伸缩部1320的长度伸长(down)，则旋转伸缩部1330在沿着逆时针方向(旋转伸缩部以邻近固定伸缩部的形式配置的方向)旋转的同时，支撑架1210可相对于工作台1100倾转地倾斜，并且被夹紧单元1200夹紧的基板10也相对于工作台1100倾转地倾斜。如上所述，在基板10相对于工作台1100倾转地倾斜的状态下实现基板10的装载。

此时，可在支撑架1210(夹紧单元)的倾斜角度保持一定的状态下进行相对于工作台1100倾斜地配置的基板10的装载过程，或者在支撑架1210(夹紧单元)的倾斜角度逐渐减小的同时进行相对于工作台1100倾斜地配置的基板10的装载过程。

例如，若在基板10(支撑架)的倾斜角度保持一定的状态下由所有的夹具1220而产生的夹紧同时被解除(OFF)，则基板10从右侧边(以图25为基准)沿着朝向左侧边(以图25为基准)的方向逐渐装载至工作台1100。

作为另一个例子，如图27所示，在使得基板10相对于工作台1100倾斜从而基板 10的右侧边(以图25为基准)首先接触于工作台1100的状态下，若旋转伸缩部1330 的长度逐渐伸长(down)，则基板10的倾斜角度逐渐减小的同时，基板10从右侧边(以图25为基准)沿着朝向左侧边(以图25为基准)的方向逐渐装载至工作台1100。

此时，优选地，相对于工作台1100的夹紧单元的倾斜角度(基板的倾斜角度)形成为0.1°～3°。换句话说，基板10的倾斜角度越升高(例如，若超过3°)，基板10 的左侧边(以图25为基准)的配置高度越升高，由此，因由夹具1220产生的夹紧被解除导致基板10往下落时，具有基板10受到损伤或破损的顾虑，而且装载基板10的时间增加，工艺效率降低，从而优选地，相对于工作台1100的夹紧单元的倾斜角度(基板的倾斜角度)形成为0.1°～3°。

此外，参照图26，依次解除(OFF)由多个夹具1220而产生的夹紧从而也可进行倾斜的基板10的装载过程。换句话说，沿着朝向与基板10的一个边(例如，以图25为基准，基板的右侧边)相面对的基板10的另一个边(例如，以图25为基准，基板的左侧边)的方向依次解除(OFF)由多个夹具1220而产生的对基板10的夹紧，且随着依次解除由多个夹具1220而产生的夹紧，基板10从一个边沿着朝向另一个边的方向逐渐装载于工作台1100。

如上所述，在基板10倾斜的状态下，依次解除(OFF)由多个夹具1220而产生的夹紧，从而进行装载，据此具有的有利的效果在于，可更加准确地对准基板10的装载位置。

换句话说，若在基板10(支撑架)的倾斜角度保持一定的状态下同时解除(OFF) 由所有的夹具1220而产生的夹紧，则虽然存在于基板10和工作台1100之间的空气或液态流体可从基板10和工作台1100之间向外侧泄露，但是会产生基板10在想要装载的位置被推的现象。因此，本实用新型中，从基板10的一个边(例如，以图25为基准，基板的右侧边)沿着朝向基板10的另一个边(例如，以图25为基准，基板的右侧边) 的方向依次解除(OFF)由多个夹具1220而产生的对基板10的夹紧，据此可得到的有利的效果在于，在不存在基板10被推的现象的状态下将基板10装载于准确的位置。尤其，如图25所示，若多个夹具1220中一部分(例如，以图25为基准，对基板的右侧边部位进行夹紧的夹具)的夹紧被解除，则在基板10的一部分部位(例如，以图25为基准，基板的右侧边部位)接触于工作台1100的状态下，基板10的其余部位(例如，以图25为基准，基板的左侧边部位)保持为被夹紧单元1200夹紧的状态(固定状态)，由此可得到的有利的效果在于，在基板10最初接触于工作台1100时，抑制基板10的位置偏离。

优选地，多个夹具1220设置为可相对于支撑架1210进行弹性移动。在此，所谓的夹具1220可相对于支撑架1210进行弹性移动，指的是相对于支撑架1210的夹具1220 的配置高度(支撑架1210和夹具1220之间的间距长度)(参照图26的L)可弹性变化。例如，夹具1220以可沿着上下方向直线移动的形式安装于支撑架1210，相对于支撑架 1210的夹具1220的直线移动可通过类似于弹簧的弹性部件得到弹性支撑。

如上所述，多个夹具1220相对于支撑架1210进行弹性移动，据此可得到的有利的效果在于，即使因多个夹具1220中一部分的夹紧被解除而导致基板10产生下垂(仅基板的一部分部分地接触于工作台1100的状态)，在与基板10的下垂部位(弯曲的部位) 相邻接的部位仍然稳定地保持用于保持(ON)对基板10夹紧的夹具1220的夹紧状态。假设，以图26为基准，即使因从支撑架1210的右侧第一个配置的夹具1220和第二个配置的夹具1220的夹紧被解除而在基板10的右侧边部位产生下垂，由于第三个配置的夹具1220的长度(支撑架和夹具之间的间距长度)可弹性增加，由此也可得到的有利的效果在于，稳定地保持由第三个配置的夹具1220而产生的夹紧状态，并且使得基板 10的弯曲更加缓和。

并且，参照图28，基板10装载于工作台1100之后，固定伸缩部1320和旋转伸缩部1330的长度同时缩短(up)，从而夹紧单元1200上升至工作台1100的上部。

在工作台1100上完成基板10的装载之后，在工作台1100上进行对基板10的研磨工艺。此时，可根据所需的条件及设计样式利用多种研磨部件进行基板10的研磨工艺。

例如，参照图29，通过因辊子1132而沿着规定的路径进行循环旋转的研磨带1130来进行对基板10的研磨工艺。

研磨带1130设置为通过辊子1132而沿着规定的路径进行移动，并且对基板10的表面进行线性研磨(平坦化)。例如，研磨带1130可设置为以无限循环方式进行循环旋转并且对基板10的表面进行线性研磨(平坦化)。

就研磨带1130而言，沿着轴方向(辊子的旋转轴方向)的长度可形成为与基板10的宽度(沿着研磨带的轴线方向的宽度)相对应的长度。根据不同的情况，研磨带的轴方向长度也可形成为比基板的宽度大或小。

研磨带1130由适合对基板10进行机械研磨的材质形成。例如，研磨带1130可利用聚氨酯、聚脲(polyurea)、聚酯、聚醚、环氧树脂、聚酰胺、聚碳酸酯、聚乙烯、聚丙烯、氟聚合物、乙烯基聚合物、丙烯酸及甲基丙酸烯聚合物、硅树脂、胶乳、氮化橡胶、异戊二烯橡胶、丁二烯橡胶及苯乙烯、丁二烯及丙烯腈的多种共聚物来形成，并且研磨带1130的材质及特性可根据所需的条件及设计样式进行多种变更。

作为参考，可通过仅一个的研磨带1130进行基板10的研磨工艺，但是也可利用多个研磨带1130同时或依次对基板10进行研磨。根据不同的情况，研磨带也可构成为不循环旋转，而是以常用的盒式录音带的卷对卷(reel to reel)卷取方式(卷取至第一卷之后再次沿着相反方向卷取至第二卷的方式)沿着开环形态的移动轨迹进行移动(卷取)并且对基板进行研磨。

并且，工作台1100的位置得到固定且研磨带1130相对于工作台1100进行水平移动，据此可进行基板10的研磨工艺。根据不同的情况，也可构成为研磨带的位置得到固定且工作台相对于研磨带进行水平移动，据此进行基板的研磨工艺。

作为另一个例子，参照图30，通过以接触于基板10的状态进行自转的研磨垫1130'来进行对基板10的研磨工艺。

研磨垫1130'安装于研磨垫1130'载体1132'，并且设置为以接触于基板10的表面的状态进行自转的同时，对基板10的表面进行线性研磨(平坦化)。

研磨垫1130'载体1132'可形成为能够使得研磨垫1130'自转的多种结构，本实用新型并非受到研磨垫1130'载体1132'的结构的限制或限定。例如，研磨垫1130'载体1132'可以由一个主体构成，或者可以以多个主体结合的形式构成，并且与驱动轴(未示出) 相连接从而进行旋转。此外，在研磨垫1130'载体1132'设置有用于将研磨垫1130'加压于基板10的表面的加压部(例如，通过空气压力对研磨垫1130'进行加压的空气压力加压部)。

研磨垫1130'由适合对基板10进行机械研磨的材质形成。例如，研磨垫1130'可利用聚氨酯、聚脲(polyurea)、聚酯、聚醚、环氧树脂、聚酰胺、聚碳酸酯、聚乙烯、聚丙烯、氟聚合物、乙烯基聚合物、丙烯酸及甲基丙酸烯聚合物、硅树脂、胶乳、氮化橡胶、异戊二烯橡胶、丁二烯橡胶及苯乙烯、丁二烯及丙烯腈的多种共聚物来形成，并且研磨垫1130'的材质及特性可根据所需的条件及设计样式进行多种变更。

优选地，作为研磨垫1130'使用具有比基板10小的尺寸的圆形研磨垫1130'。换句话说，也可使用具有比基板大的尺寸的研磨垫来对基板进行研磨，但是若使用具有比基板大的尺寸的研磨垫，则具有的问题在于，为了使得研磨垫自转而需要非常大的旋转装置及空间，由此空间效率及设计自由度降低并且稳定性降低。实质上，由于基板的至少一个侧边的长度具有大于1m的尺寸，因此具有的问题在于，使得具有比基板大的尺寸的研磨垫(例如，具有大于1m直径的研磨垫)自转的过程本身非常困难。此外，若使用非圆形研磨垫(例如，四边形研磨垫)，则通过自转的研磨垫得到研磨的基板的表面整体上无法研磨至均匀的厚度。但是，本实用新型使得具有比基板10小的尺寸的圆形研磨垫1130'自转从而对基板10的表面进行研磨，据此可得到的有利的效果在于，在不使得空间效率及设计自由度显著下降的状态下也使得研磨垫1130'自转，从而可对基板 10进行研磨，并且整体上均匀地保持因研磨垫1130'而产生的研磨量。

并且，研磨垫1130'的研磨路径可根据所需的条件及设计样式进行多种变更，本实用新型并非受到研磨垫1130'的研磨路径的限制或限定。例如，研磨垫1130'可构成为沿着倾斜的第一斜线路径、向第一斜线路径的相反方向倾斜的第二斜线路径连续地进行移动的同时，对基板10的表面进行研磨。根据不同的情况，研磨垫也可沿着圆形轨迹的研磨路径进行移动并对基板进行研磨。

参照图31至图34，在工作台1100上完成研磨的基板10从工作台1100移送至卸载区域1102之后进行下一个工艺。

优选地，在逐渐使得夹紧单元1200相对于工作台1100倾转地倾斜的状态下，将基板10从工作台1100卸载。

如上所述，在本实用新型中，夹紧单元1200(基板)在相对于工作台1100倾转地倾斜的状态下得到卸载，据此可得到的有利的效果在于，更加容易且稳定地完成基板10 的卸载工艺。

换句话说，由于大面积玻璃基板10(例如，1500㎜*1850㎜的第六代基板)具有非常大的尺寸，因此将大面积玻璃基板10从平坦的工作台1100(例如，平板)抬起时(卸载时)，因存在于基板10和工作台1100之间的液态流体(例如，清洗液)而产生的表面张力，或作用于垫(PAD)和玻璃基板之间的粘着力，从而不仅很难卸掉基板10，而且不可避免地需要用非常强的力来脱卸基板10，在此过程中具有基板10受到损伤的顾虑，所述垫(PAD)配置于平板上。

但是，在本实用新型中，使得基板10相对于工作台1100倾斜，据此可在基板10 倾斜的状态下进行基板10的卸载工艺。如上所述，在倾转地倾斜的状态下，而非平坦的状态下进行基板10的卸载工艺，据此可得到的有利的效果在于，在基板10的卸载工艺中可使得因存在于基板10和工作台1100之间的液态流体而产生的表面张力的影响最小化，从而用较小的力也能够将基板10从工作台1100卸载，并且使得因用于脱卸基板 10的力而产生的基板10的损伤最小化。

更加具体地，参照图31，若仅固定伸缩部1320和旋转伸缩部1330中某一个的长度缩短，例如，若旋转伸缩部1330的长度缩短(up)，则旋转伸缩部1330在沿着逆时针方向(旋转伸缩部以邻近固定伸缩部的形式配置的方向)旋转的同时，支撑架1210可相对于工作台1100倾转地倾斜，并且被夹紧单元1200夹紧的基板10也相对于工作台1100倾转地倾斜。

如上所述，如图33所示，在基板10倾斜的状态下，将固定伸缩部1320的长度缩短(up)，从而基板10从工作台1100卸载。

之后，如图34所示，在基板10吸附于夹紧单元1200的状态下，导向架1110沿着导轨1110a向卸载区域1102方向移动，从而基板10从工作台1100被移送至卸载区域 1102。

此外，基板处理装置1'可包括悬浮部1150，所述悬浮部1150使得基板10在工作台1100悬浮。

在卸载基板10之前，悬浮部1150使得基板10在工作台1100悬浮，从而更容易实现基板10的卸载工艺。换句话说，在卸载基板10之前，使得基板10悬浮，预先在工作台1100和基板10之间形成流体层，据此可得到的有利的效果在于，更顺畅地实现将基板10从工作台1100抬起的过程。

悬浮部1150可构成为根据所需的条件及设计样式通过多种方式使得基板10在工作台1100上悬浮。例如，参照图32，悬浮部1150可构成为将气体(或其他流体)喷射至基板10的底面，从而使得基板10悬浮。根据不同的情况，悬浮部也可利用因超声波而产生的振动能来使得基板在工作台上悬浮。

另外，图35及图36是根据本实用新型的第二实施例的基板处理装置，用于说明非接触吸附部的图。并且对于与所述构成相同及相当于相同的部分赋予相同或相当于相同的参照标号，并且省略对其的详细说明。

参照图35及图36，根据本实用新型的第二实施例的基板处理装置1'可包括非接触吸附部1250，所述非接触吸附部1250以非接触的方式来吸附基板10。

非接触吸附部1250的设置是为了，在基板10的装载或卸载工艺中更加稳定地保持基板10的夹紧状态，并在卸载工艺中更加容易地抬起基板10。

尤其，夹具1220在基板10的卸载工艺中对基板10进行吸附，从而在没有基板10 的弯曲或变形的状态下使得基板10可稳定地从工作台1100分离。换句话说，因为夹具 1220仅对基板10的边缘部位(非活动区域)夹紧，所以若在仅通过夹具1220来夹紧基板10的状态下卸载基板10，则用于将基板10从工作台1100分离的力难以有效地施加于基板10的中间部位(活动区域)。因此，本实用新型利用非接触吸附部1250来对基板10的中间部位(活动区域)进行吸附，据此可得到的有利的效果在于，更加顺畅地完成基板10的卸载工艺。

当然，也可构成为夹具1220对基板10的活动区域11夹紧，但是基板10的活动区域11由于对接触非常敏感，因此需要最大限度地排斥在活动区域11的接触。对此，本实用新型利用非接触吸附部1250来对基板10的活动区域11进行吸附，据此可得到的有利的效果在于，在基板10的区域提前防止因接触而导致的划痕等的损伤。

更为具体地，非接触吸附部1250构成为利用因流体而产生的表面张力来对基板10进行非接触吸附。

例如，非接触吸附部1250包括：吸附板1252，其以隔开的形式配置于基板10的上面；喷嘴1254，其形成于吸附板1252，并且选择性地将流体喷射至基板10和所述吸附板1252之间。

吸附板1252的形状及大小可根据所需的条件及设计样式进行多种变更。例如，吸附板1252可形成为与基板10的活动区域11相对应的四边形形态。此时，吸附板1252可安装于夹紧单元1200。根据不同的情况，也能够与夹紧单元1200区分地对吸附板进行安装。

喷嘴1254形成为将流体喷射至吸附板1252的底面(吸附板和工作台之间的空间)。换句话说，若吸附板1252以间隔规定间距的形式隔开地配置于基板10的上面，则流体从喷嘴1254喷射，从喷嘴1254喷射的流体填充到吸附板1252和基板10之间。

优选地，沿着吸附板1252的长度方向和宽度方向中至少任意一个以上的方向以隔开的形式形成有多个喷嘴1254。如上所述，将多个喷嘴1254以间隔均匀的间距的形式安装于吸附板1252的底面，并且流体整体上均匀地从吸附板1252的底面喷射，据此可得到的有利的效果在于，整体上均匀地形成吸附板1252和基板10间的吸附力。

优选地，吸附板1252由PVC材质形成。根据不同的情况，吸附板也可由金属材质(例如，SUS)形成。但是，若吸附板由金属材质形成，则吸附板的重量增加，从而存在移送及管理上的不便，由此，优选地，吸附板1252由PVC材质形成，以便可减轻吸附板的重量。

此时，在对1500㎜*1850㎜的第六代基板10的活动区域11进行吸附的条件下，吸附板1252形成为具有3～30㎜的厚度。

此外，在吸附板1252的上面可形成有加强筋1252a。例如，加强筋1252a可形成为具有格子形态的结构。根据不同的情况，加强筋可形成为四边形或圆形形态等，并且本实用新型并非受到加强筋的形态及结构的限制或限定。如上所述，在吸附板1252的上面形成有加强筋1252a，据此可得到的有利的效果在于，即使吸附板1252形成为较薄的厚度(3～30㎜)，吸附板1252也可具有充分的刚性。

此外，可包括气缸，所述气缸使得吸附板1252沿着上下方向移动。气缸在基板10吸附于吸附板1252的状态下缓缓地使得吸附板1252上升，从而基板10可从工作台1100 分离。

并且，基板处理装置1'包括调节部1256，所述调节部1256对吸附板1252的水平度进行调节。

调节部1256设置为对吸附板1252的水平度进行调节，以便可保持相对于基板10的吸附板1252的水平状态。如上所述，设置调节部1256，并且保持相对于基板10的吸附板1252的水平状态，据此可得到的有利的效果在于，以流体为媒介的基板10的吸附力均匀地形成于整个基板10。

调节部1256可形成为能够对吸附板1252的水平度进行调节的多种结构。例如，调节部1256包括：校平板1256a，其固定于气缸并且吸附板1252安装于所述校平板1256a；调节部件1256b，其对校平板1256a和吸附板1252之间的间距进行调节。

调节部件1256b通过以类似于常用的调节螺栓的方式进行紧固或松开的操作可对校平板1256a和吸附板1252之间的间距进行调节。优选地，校平板1256a形成为四边形形态，并且可设置有四个调节部件1256b，以便配置于校平板1256a的各个角区域。

如上所述，参照本实用新型的优选实施例进行了说明，但是可以理解为，所属技术领域的熟练的从业者能够在不脱离以下权利要求范围所记载的本实用新型的思想及领域的范围内对本实用新型进行多种修改及变更。

标号说明

10：基板 100：工作台

110：导向架 110a：导轨

150：悬浮部 200：夹紧单元

250：非接触吸附部 252：吸附板

252a：加强筋 254：喷嘴

256：调节部 256a：校平板

256b：调节部件 210：支撑架

220：夹具 230：引导部

232：导杆 234：引导衬套

300：倾斜部 310：基架

320：第一伸缩部 321：第一电动缸

330：第二伸缩部 331：第二电动缸

130：研磨带 130'：研磨垫。

Claims (79)

1.一种基板处理装置，其特征在于，包括：

工作台，其进行对基板的研磨工艺；

夹紧单元，其对所述基板进行夹紧；

倾斜部，其使得所述夹紧单元相对于所述工作台选择性倾转地倾斜。

2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，所述倾斜部包括：

基架；

第一伸缩部，其设置为对所述基架和所述夹紧单元进行连接，并可选择性地伸缩；

第二伸缩部，其以与所述第一伸缩部相面对的形式配置，并设置为对所述基架和所述夹紧单元进行连接且可选择性地伸缩，

将所述第一伸缩部和所述第二伸缩部的伸缩长度调节为互不相同，从而使得所述夹紧单元倾斜。

3.根据权利要求2所述的基板处理装置，其特征在于，

所述第一伸缩部和所述第二伸缩部中任意一个以上在以垂直线为基准倾斜地配置的状态下得到伸缩。

4.根据权利要求2所述的基板处理装置，其特征在于，第一伸缩部包括：

多个第一电动缸，其沿着所述基架的一个边隔开地配置，并且可选择性地伸缩。

5.根据权利要求4所述的基板处理装置，其特征在于，

所述多个第一电动缸以同步化的形式得到操作。

6.根据权利要求2所述的基板处理装置，其特征在于，所述第二伸缩部包括：

多个第二电动缸，其沿着所述基架的另一个边隔开地配置，并且可选择性伸缩。

7.根据权利要求6所述的基板处理装置，其特征在于，

所述多个第二电动缸以同步化的形式得到操作。

8.根据权利要求2所述的基板处理装置，其特征在于，所述夹紧单元包括：

支撑架，其可通过所述倾斜部进行角度调节；

夹具，其安装于所述支撑架并对所述基板进行夹紧。

9.根据权利要求8所述的基板处理装置，其特征在于，

所述基板吸附于所述夹具。

10.根据权利要求9所述的基板处理装置，其特征在于，

为了能够独立地吸附所述基板，设置多个所述夹具。

11.根据权利要求10所述的基板处理装置，其特征在于，

所述夹具对所述基板的非活动区域进行夹紧。

12.根据权利要求11所述的基板处理装置，其特征在于，

所述基板从装载区域被移送至所述工作台，

在所述倾斜部使得所述夹紧单元相对于所述工作台倾转地倾斜的状态下，将所述基板装载于所述工作台。

13.根据权利要求12所述的基板处理装置，其特征在于，

在所述夹紧单元相对于所述工作台倾转地倾斜的状态下，所述基板的一个边以比所述基板的其余的边更邻近于所述工作台的形式配置。

14.根据权利要求13所述的基板处理装置，其特征在于，

在所述基板的所述一个边沿着朝向与所述一个边相面对的所述基板的另一个边的方向依次解除因所述多个夹具而产生的对所述基板的夹紧，

随着依次解除因所述多个夹具而产生的夹紧，所述基板从所述一个边沿着朝向所述另一个边的方向逐渐装载于所述工作台。

15.根据权利要求14所述的基板处理装置，其特征在于，

所述倾斜部在所述基板逐渐装载于所述工作台期间，逐渐减少相对于所述工作台的所述夹紧单元的倾斜角度。

16.根据权利要求14所述的基板处理装置，其特征在于，

所述多个夹具设置为可相对于所述支撑架进行弹性移动。

17.根据权利要求8所述的基板处理装置，其特征在于，包括：

引导部，其对相对于所述基架的所述支撑架的上下方向移动进行引导。

18.根据权利要求17所述的基板处理装置，其特征在于，所述引导部包括：

引导衬套，其安装于所述基架；

导杆，其配置为一端以可旋转的形式连接于所述支撑架，并且可沿着所述引导衬套进行直线移动。

19.根据权利要求18所述的基板处理装置，其特征在于，

所述引导部配置于所述第一伸缩部和所述第二伸缩部之间的中间位置。

20.根据权利要求2所述的基板处理装置，其特征在于，

所述基板从所述工作台被移送至卸载区域，

在所述倾斜部逐渐使得所述夹紧单元相对于所述工作台倾转地倾斜的状态下，将所述基板从所述工作台卸载。

21.根据权利要求20所述的基板处理装置，其特征在于，还包括：

悬浮部，其使得所述基板在所述工作台悬浮。

22.根据权利要求21所述的基板处理装置，其特征在于，

所述悬浮部将流体喷射至所述基板的底面从而使得所述基板悬浮。

23.根据权利要求1至22中任意一项所述的基板处理装置，其特征在于，

在所述工作台的上面凸出形成有止动件，

所述基板配置于所述止动件的内侧。

24.根据权利要求23所述的基板处理装置，其特征在于，

所述止动件的凸出高度形成为与所述基板的厚度相同。

25.根据权利要求1至22中任意一项所述的基板处理装置，其特征在于，

相对于所述工作台的所述夹紧单元的倾斜角度是0.1°～3°。

26.根据权利要求1至22中任意一项所述的基板处理装置，其特征在于，

所述基板是至少一个侧边的长度大于1m的四边形基板。

27.根据权利要求1至22中任意一项所述的基板处理装置，其特征在于，

在所述工作台进行对所述基板的化学机械研磨工艺。

28.根据权利要求1至22中任意一项所述的基板处理装置，其特征在于，还包括：

非接触吸附部，其对所述基板进行非接触吸附。

29.根据权利要求28所述的基板处理装置，其特征在于，

所述非接触吸附部利用因流体而产生的表面张力来对所述基板进行非接触吸附。

30.根据权利要求29所述的基板处理装置，其特征在于，所述非接触吸附部包括：

吸附板，其以隔开的形式配置于所述基板的上面；

喷嘴，其形成于所述吸附板，并且选择性地将流体喷射至所述基板和所述吸附板之间。

31.根据权利要求30所述的基板处理装置，其特征在于，

沿着所述吸附板的长度方向和宽度方向中至少任意一个以上的方向以隔开的形式形成有多个所述喷嘴。

32.根据权利要求30所述的基板处理装置，其特征在于，

所述吸附板由PVC材质形成。

33.根据权利要求32所述的基板处理装置，其特征在于，

所述吸附板形成为3～30㎜的厚度。

34.根据权利要求33所述的基板处理装置，其特征在于，

在所述吸附板的上面形成有加强筋。

35.根据权利要求30所述的基板处理装置，其特征在于，包括：

气缸，其使得所述吸附板沿着上下方向移动。

36.根据权利要求35所述的基板处理装置，其特征在于，包括：

调节部，其对所述吸附板的水平度进行调节。

37.根据权利要求36所述的基板处理装置，其特征在于，所述调节部包括：

校平板，其固定于所述气缸并且所述吸附板安装于所述校平板；

调节部件，其对所述校平板和所述吸附板之间的间距进行调节。

38.根据权利要求28所述的基板处理装置，其特征在于，

所述非接触吸附部对所述基板的活动区域进行吸附。

39.根据权利要求1至22中任意一项所述的基板处理装置，其特征在于，

通过研磨带来进行对所述基板的研磨工艺，所述研磨带通过辊子而沿着规定的路径进行旋转。

40.根据权利要求1至22中任意一项所述的基板处理装置，其特征在于，

通过以接触于所述基板的状态进行自转的研磨垫来进行对所述基板的研磨工艺。

41.根据权利要求1至22中任意一项所述的基板处理装置，其特征在于，包括：

导轨，其沿着所述基板的移送路径配置；

导向架，其安装有所述倾斜部，并且沿着所述导轨移动。

42.一种基板处理装置，其特征在于，包括：

工作台，其进行对基板的研磨工艺；

夹紧单元，其对所述基板进行夹紧；

基架，其配置于所述夹紧单元的上部；

固定伸缩部，其一端固定于所述基架，其他端连接于所述夹紧单元，并且可选择性地进行伸缩；

旋转伸缩部，其以与所述固定伸缩部相面对的形式配置，并且一端以可旋转的形式安装于所述基架，其他端连接于所述夹紧单元，并可选择性地进行伸缩，

将所述固定伸缩部和所述旋转伸缩部的伸缩长度调节为互不相同，从而使得所述夹紧单元选择性地倾斜。

43.根据权利要求42所述的基板处理装置，其特征在于，

所述固定伸缩部以可沿着上下方向伸缩的形式固定于所述基架。

44.根据权利要求42所述的基板处理装置，其特征在于，

若所述固定伸缩部的伸缩长度变化，则所述旋转伸缩部得到联动，并相对于所述基架进行旋转。

45.根据权利要求43所述的基板处理装置，其特征在于，固定伸缩部包括：

多个第一电动缸，其沿着所述基架的一个边隔开地配置，并且可选择性地伸缩。

46.根据权利要求45所述的基板处理装置，其特征在于，

所述多个第一电动缸以同步化的形式得到操作。

47.根据权利要求43所述的基板处理装置，其特征在于，所述旋转伸缩部包括：

多个第二电动缸，其沿着所述基架的另一个边隔开地配置，并且可选择性伸缩。

48.根据权利要求47所述的基板处理装置，其特征在于，

所述多个第二电动缸以同步化的形式得到操作。

49.根据权利要求42所述的基板处理装置，其特征在于，所述夹紧单元包括：

支撑架，其可通过所述固定伸缩部和所述旋转伸缩部进行角度调节；

夹具，其安装于所述支撑架并对所述基板进行夹紧。

50.根据权利要求49所述的基板处理装置，其特征在于，

所述基板吸附于所述夹具。

51.根据权利要求50所述的基板处理装置，其特征在于，

为了能够独立地吸附所述基板，设置有多个所述夹具。

52.根据权利要求51所述的基板处理装置，其特征在于，

所述夹具对所述基板的非活动区域进行夹紧。

53.根据权利要求52所述的基板处理装置，其特征在于，

所述基板从装载区域被移送至所述工作台，

在所述倾斜部使得所述夹紧单元相对于所述工作台倾转地倾斜的状态下，将所述基板装载于所述工作台。

54.根据权利要求53所述的基板处理装置，其特征在于，

在所述夹紧单元相对于所述工作台倾转地倾斜的状态下，所述基板的一个边以比所述基板的其余的边更邻近于所述工作台的形式配置。

55.根据权利要求54所述的基板处理装置，其特征在于，

在所述基板的所述一个边沿着朝向与所述一个边相面对的所述基板的另一个边的方向依次解除因所述多个夹具而产生的对所述基板的夹紧，

随着依次解除因所述多个夹具而产生的夹紧，所述基板从所述一个边沿着朝向所述另一个边的方向逐渐装载于所述工作台。

56.根据权利要求55所述的基板处理装置，其特征在于，

所述倾斜部在所述基板逐渐装载于所述工作台期间，逐渐减少相对于所述工作台的所述夹紧单元的倾斜角度。

57.根据权利要求55所述的基板处理装置，其特征在于，

所述多个夹具设置为可相对于所述支撑架进行弹性移动。

58.根据权利要求42所述的基板处理装置，其特征在于，

所述基板从所述工作台被移送至卸载区域，

在所述倾斜部逐渐使得所述夹紧单元相对于所述工作台倾转地倾斜的状态下，将所述基板从所述工作台卸载。

59.根据权利要求58所述的基板处理装置，其特征在于，还包括：

悬浮部，其使得所述基板在所述工作台悬浮。

60.根据权利要求59所述的基板处理装置，其特征在于，

所述悬浮部将流体喷射至所述基板的底面从而使得所述基板悬浮。

61.根据权利要求42至60中任意一项所述的基板处理装置，其特征在于，

在所述工作台的上面凸出形成有止动件，

所述基板配置于所述止动件的内侧。

62.根据权利要求61所述的基板处理装置，其特征在于，

所述止动件的凸出高度形成为与所述基板的厚度相同。

63.根据权利要求42至60中任意一项所述的基板处理装置，其特征在于，

相对于所述工作台的所述夹紧单元的倾斜角度是0.1°～3°。

64.根据权利要求42至60中任意一项所述的基板处理装置，其特征在于，

所述基板是至少一个侧边的长度大于1m的四边形基板。

65.根据权利要求42至60中任意一项所述的基板处理装置，其特征在于，

在所述工作台进行对所述基板的化学机械研磨工艺。

66.根据权利要求42至60中任意一项所述的基板处理装置，其特征在于，还包括：

非接触吸附部，其对所述基板进行非接触吸附。

67.根据权利要求66所述的基板处理装置，其特征在于，

所述非接触吸附部利用因流体而产生的表面张力来对所述基板进行非接触吸附。

68.根据权利要求67所述的基板处理装置，其特征在于，所述非接触吸附部包括：

吸附板，其以隔开的形式配置于所述基板的上面；

喷嘴，其形成于所述吸附板，并且选择性地将流体喷射至所述基板和所述吸附板之间。

69.根据权利要求68所述的基板处理装置，其特征在于，

沿着所述吸附板的长度方向和宽度方向中至少任意一个以上的方向以隔开的形式形成有多个所述喷嘴。

70.根据权利要求68所述的基板处理装置，其特征在于，

所述吸附板由PVC材质形成。

71.根据权利要求70所述的基板处理装置，其特征在于，

所述吸附板形成为3～30㎜的厚度。

72.根据权利要求71所述的基板处理装置，其特征在于，

在所述吸附板的上面形成有加强筋。

73.根据权利要求68所述的基板处理装置，其特征在于，包括：

气缸，其使得所述吸附板沿着上下方向移动。

74.根据权利要求73所述的基板处理装置，其特征在于，包括：

调节部，其对所述吸附板的水平度进行调节。

75.根据权利要求74所述的基板处理装置，其特征在于，所述调节部包括：

校平板，其固定于所述气缸并且所述吸附板安装于所述校平板；

调节部件，其对所述校平板和所述吸附板之间的间距进行调节。

76.根据权利要求66所述的基板处理装置，其特征在于，

所述非接触吸附部对所述基板的活动区域进行吸附。

77.根据权利要求42至60中任意一项所述的基板处理装置，其特征在于，包括：

导轨，其沿着所述基板的移送路径配置；

导向架，其安装有所述基架，并且沿着所述导轨移动。

78.根据权利要求42至60中任意一项所述的基板处理装置，其特征在于，

通过研磨带来进行对所述基板的研磨工艺，所述研磨带通过辊子而沿着规定的路径进行旋转。

79.根据权利要求42至60中任意一项所述的基板处理装置，其特征在于，

通过以接触于所述基板的状态进行自转的研磨垫来进行对所述基板的研磨工艺。