CN206716576U - 湿式刻蚀用清洗装置以及湿式刻蚀设备 - Google Patents
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Abstract
本实用新型涉及显示技术领域，公开了一种湿式刻蚀用清洗装置以及湿式刻蚀设备，其中，所述湿式刻蚀用清洗装置(1)包括用于传送玻璃基板的传送单元(10)、位于所述传送单元上方的能够向所述玻璃基板喷清洗液的喷淋单元和位于所述传送单元下方的接液槽(11)，其中，所述接液槽的内部安装有能够将所述接液槽的内部分隔成沿所述传送单元的传送方向排列的相互独立的腔室的隔板(12)。该湿式刻蚀用清洗装置能够针对不同区域所产生的不同浓度的废液进行分别排放。将上述湿式刻蚀用清洗装置应用于所述湿式刻蚀设备中，刻蚀后的玻璃基板进入湿式刻蚀用清洗装置后，喷洗所述玻璃基板产生的不同浓度的废液进入相应的腔室，分别排放不同浓度的废液。
Description
技术领域
本实用新型涉及显示技术领域，具体地涉及一种湿式刻蚀用清洗装置以及湿式刻蚀设备。
背景技术
随着平板显示技术的发展，液晶显示器已经广泛应用于电脑、电视、手机、车载屏幕等设备上。尤其是薄膜晶体管液晶显示器(Thin Film Transistor-Liquid CrystalDisplay，简称TFT-LCD)具有大容量、高清晰度和高品质全真彩色而更加受到人们的青睐。
在TFT-LCD生产过程中，主要是在洁净的玻璃基板上镀膜、光刻、刻蚀、去胶等工艺。目前，湿式刻蚀设备主要包括刻蚀装置、水洗装置和干燥装置这三个组成部分。在整个制备的过程当中，玻璃基板依次通过刻蚀装置、水洗装置和干燥装置。当玻璃基板从刻蚀装置进入水洗装置中时，会不可避免的将部分化学药剂带入到水洗装置中，使得水洗装置的承液槽中含有化学药剂。
实际上，在沿玻璃基板行进的方向上，承液槽中的化学药剂的浓度是逐渐减小的，而目前只能将承液槽中的废液进行整体排放，并不能够实现区域排放以满足对不同浓度的废液进行分别处理的需求。
实用新型内容
本实用新型的目的是为了克服现有技术存在的湿式刻蚀用水洗装置中的承液槽不能针对不同浓度的废液进行分别排放的问题，提供一种湿式刻蚀用清洗装置，该湿式刻蚀用清洗装置能够针对不同区域所产生的不同浓度的废液进行分别排放。
为了实现上述目的，本实用新型一方面提供一种湿式刻蚀用清洗装置，所述湿式刻蚀用清洗装置包括用于传送玻璃基板的传送单元、位于所述传送单元上方的能够向所述玻璃基板喷清洗液的喷淋单元以及位于所述传送单元下方的接液槽，其中，所述接液槽的内部安装有能够将所述接液槽的内部分隔成沿所述传送单元的传送方向排列的相互独立的腔室的隔板。
优选地，所述接液槽的内部设置有使得所述隔板能够沿所述传送方向往复移动的导向单元。
优选地，所述导向单元包括安装于所述接液槽的侧壁且沿所述传送方向延伸的导轨以及安装于所述隔板且能够沿所述导轨滑动的滑块。
优选地，所述导轨为多个，多个所述导轨成对设置，每对所述导轨位置对应地分布于所述接液槽相对的两个侧壁上。
优选地，所述湿式刻蚀用清洗装置包括多个所述隔板。
优选地，至少一个所述腔室的底壁上设置有排液口。
优选地，所述传送单元包括滚轮传送带。
优选地，所述隔板的周缘设置有密封件。
优选地，所述密封件包括贴附于所述隔板的周缘的密封条。
在上述技术方案中，通过在所述接液槽的内部设置能够将所述接液槽的内部分隔成沿所述传送单元的传送方向排列且相互独立的腔室的所述隔板，使得在不同位置喷洗所述玻璃基板后产生的废液能够进入相应的腔室中，以便针对不同浓度的废液进行分别处理，不仅降低了制造成本，而且实现了环保目的。
本实用新型的另一方面提供一种湿式刻蚀设备，所述湿式刻蚀设备包括本实用新型所提供的湿式刻蚀用清洗装置、位于所述湿式刻蚀用清洗装置上游的刻蚀装置以及位于所述湿式刻蚀用清洗装置下游的干燥装置。由于在所述湿式刻蚀设备中设置了本实用新型所提供的湿式刻蚀用清洗装置，因此在所述刻蚀装置中经过湿式刻蚀后的玻璃基板在所述传送单元的输送下进入所述湿式刻蚀用清洗装置，位于所述传送单元上方的喷淋单元如喷嘴向所述玻璃基板喷洒清洗液如水，清洗所述玻璃基板产生的不同浓度废液流入所述接液槽内的相应的腔室中，这样便能够对不同浓度的废液进行分别处理，具有良好的环保效果。
附图说明
图1是本实用新型的优选实施方式的湿式刻蚀设备的整体结构示意图；
图2是本实用新型的优选实施方式的湿式刻蚀用清洗装置的整体结构示意图；
图3是图2所示的湿式刻蚀用清洗装置中的设置有导向单元的隔板的整体结构示意图。
附图标记说明
1-湿式刻蚀用清洗装置；10-传送单元；11-接液槽；12-隔板；13-导向单元；130-导轨；131-滑块；14-密封件；2-刻蚀装置；3-干燥装置。
具体实施方式
在本实用新型中，在未作相反说明的情况下，使用的方位词如“上、下、左、右”通常是指结合附图中所示的方位和实际应用中的方位理解。
本实用新型提供了一种湿式刻蚀用清洗装置，结合图1和图2中所示，湿式刻蚀用清洗装置1包括用于传送玻璃基板的传送单元10、位于传送单元10上方的能够向所述玻璃基板喷清洗液的喷淋单元以及位于传送单元10下方的接液槽11，其中，接液槽11的内部安装有能够将接液槽11的内部分隔成沿传送单元10的传送方向排列的相互独立的腔室的隔板12。通过在接液槽11的内部设置能够将接液槽11的内部分隔成沿传送单元10的传送方向排列且相互独立的腔室的隔板12，使得在不同位置喷洗所述玻璃基板后产生的废液能够进入相应的腔室中，以便针对不同浓度的废液进行分别处理，不仅降低了制造成本，而且实现了环保目的。当将上述湿式刻蚀用清洗装置应用于湿式刻蚀设备中时，经过湿式刻蚀后的玻璃基板在传送单元10的输送下进入湿式刻蚀用清洗装置1，位于传送单元10上方的喷淋单元如喷嘴向所述玻璃基板喷洒清洗液如水，清洗所述玻璃基板产生的废液流入接液槽11中，由于在所述玻璃基板向前行走的过程中同时被所述喷淋单元所清洗，因此在传送单元10的传送方向上，流入接液槽11的废液中所含的化学药剂的浓度并不相同，可以理解的是，化学药剂的浓度是大致呈逐渐减小的状态，在设置于接液槽11内部的隔板12的作用下，浓度不同的废液流入相应的腔室中，这样便能够对不同浓度的废液进行分别处理。至于隔板12的设定位置，可根据实际检测到的废液浓度的情况进行设置。其中，传送单元10可水平设置以输送玻璃基板，此外可选用滚轮传送带作为传送单元10。
为了能够进一步精确承接不同浓度的废液，可在接液槽11内设置多个隔板12，其中，每个隔板12的位置可根据所需承接的废液浓度进行设置。另外，还可在至少一个所述腔室的底壁上设置有排液口，以便于将流入所述腔室中的废液排出。
结合图1和图2中所示，可在接液槽11的内部设置导向单元13以使得隔板12能够沿所述传送方向往复移动，这样，当需要改变相应的腔室中的废液浓度时，便通过移动隔板12的位置即可，而不需要重新固定隔板12。
其中，导向单元13的具体结构形式并不受到具体的限制，只要能够使得隔板12沿传送单元10的传送方向往复移动即可。优选地，如图3中所示，导向单元13可包括安装于接液槽11的侧壁且沿所述传送方向延伸的导轨130以及安装于隔板12且能够沿导轨130滑动的滑块131，通过滑块131与导轨130之间的相互配合，便使得隔板12能够在接液槽11中往复移动。此外，由于导轨130设置在接液槽11的侧壁上，因此进一步保证了隔板12的密封性，大大减少了废液发生泄漏的现象。
另外，可在接液槽11的侧壁上设置多个如两个导轨130，多个导轨130可成对设置，每对导轨130位置对应地分布于接液槽11相对的两个侧壁上，这样进一步保证了隔板12在移动过程中的稳固性。
如图3中所示，隔板12的周缘可设置有密封件14以进一步提高隔板12的密封性。其中，可选用密封条作为密封件14，进一步地，优选橡胶材质的密封条作为密封件14，所述密封条可贴附于隔板12的周缘。
本实用新型还提供了一种湿式刻蚀设备，所述湿式刻蚀设备包括本实用新型所提供的湿式刻蚀用清洗装置1、位于湿式刻蚀用清洗装置1上游的刻蚀装置2以及位于湿式刻蚀用清洗装置1下游的干燥装置3。由于在所述湿式刻蚀设备中设置了本实用新型所提供的湿式刻蚀用清洗装置1，因此在刻蚀装置2中经过湿式刻蚀后的玻璃基板在传送单元10的输送下进入湿式刻蚀用清洗装置1，位于传送单元10上方的喷淋单元如喷嘴向所述玻璃基板喷洒清洗液如水，清洗所述玻璃基板产生的不同浓度废液流入接液槽11内的相应的腔室中，这样便能够对不同浓度的废液进行分别处理，具有良好的环保效果。还需要说明的是，当所述玻璃基板在湿式刻蚀用清洗装置1中清洗完毕后，进入干燥装置3进行干燥。
以上结合附图详细描述了本实用新型的优选实施方式，但是，本实用新型并不限于此。在本实用新型的技术构思范围内，可以对本实用新型的技术方案进行多种简单变型，包括各个具体技术特征以任何合适的方式进行组合。为了避免不必要的重复，本实用新型对各种可能的组合方式不再另行说明。但这些简单变型和组合同样应当视为本实用新型所公开的内容，均属于本实用新型的保护范围。
Claims (10)
1.一种湿式刻蚀用清洗装置，其特征在于，所述湿式刻蚀用清洗装置(1)包括用于传送玻璃基板的传送单元(10)、位于所述传送单元(10)上方的能够向所述玻璃基板喷清洗液的喷淋单元以及位于所述传送单元(10)下方的接液槽(11)，其中，所述接液槽(11)的内部安装有能够将所述接液槽(11)的内部分隔成沿所述传送单元(10)的传送方向排列的相互独立的腔室的隔板(12)。
2.根据权利要求1所述的湿式刻蚀用清洗装置，其特征在于，所述接液槽(11)的内部设置有使得所述隔板(12)能够沿所述传送方向往复移动的导向单元(13)。
3.根据权利要求2所述的湿式刻蚀用清洗装置，其特征在于，所述导向单元(13)包括安装于所述接液槽(11)的侧壁且沿所述传送方向延伸的导轨(130)以及安装于所述隔板(12)且能够沿所述导轨(130)滑动的滑块(131)。
4.根据权利要求3所述的湿式刻蚀用清洗装置，其特征在于，所述导轨(130)为多个，多个所述导轨(130)成对设置，每对所述导轨(130)位置对应地分布于所述接液槽(11)相对的两个侧壁上。
5.根据权利要求1所述的湿式刻蚀用清洗装置，其特征在于，所述湿式刻蚀用清洗装置包括多个所述隔板(12)。
6.根据权利要求1所述的湿式刻蚀用清洗装置，其特征在于，至少一个所述腔室的底壁上设置有排液口。
7.根据权利要求1所述的湿式刻蚀用清洗装置，其特征在于，所述传送单元(10)包括滚轮传送带。
8.根据权利要求1-7中任意一项所述的湿式刻蚀用清洗装置，其特征在于，所述隔板(12)的周缘设置有密封件(14)。
9.根据权利要求8所述的湿式刻蚀用清洗装置，其特征在于，所述密封件(14)包括贴附于所述隔板(12)的周缘的密封条。
10.一种湿式刻蚀设备，其特征在于，所述湿式刻蚀设备包括权利要求1-9中任意一项所述的湿式刻蚀用清洗装置(1)、位于所述湿式刻蚀用清洗装置(1)上游的刻蚀装置(2)以及位于所述湿式刻蚀用清洗装置(1)下游的干燥装置(3)。
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| CN201720494846.4U CN206716576U (zh) | 2017-05-05 | 2017-05-05 | 湿式刻蚀用清洗装置以及湿式刻蚀设备 |
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Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN110190015A (zh) * | 2019-06-27 | 2019-08-30 | 西安奕斯伟硅片技术有限公司 | 一种晶圆清洗装置及晶圆清洗方法 |
| CN112909131A (zh) * | 2021-03-15 | 2021-06-04 | 宁夏隆基乐叶科技有限公司 | 硅片的处理系统及处理方法、太阳能电池及其制作方法 |
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2017
- 2017-05-05 CN CN201720494846.4U patent/CN206716576U/zh active Active
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