CN206666374U - 一种用于微晶玻璃生产的可调控锡槽加热装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型提供一种用于微晶玻璃生产的可调控锡槽加热装置，涉及玻璃生产设备领域；包括箱体、石墨内衬层和加热元件，所述箱体由内箱体和外箱体组成，所述内箱体侧壁上设置石墨内衬层，所述加热元件包括侧壁加热元件和顶部加热元件，所述侧壁加热元件分布在箱体对侧面上，从箱体侧面伸入箱体内部，外端连接支座，所述侧壁加热元件位于内箱体与支座间的部分外侧设有套管，所述套管与箱体接触部分设有保温层，所述侧壁加热元件通过支座与电源连接，所述支座下端连接支架，所述支架下端连接滑轨，所述顶部加热元件从箱体顶部伸入箱体内，所述顶部加热元件与箱体接触部分设有所述保温层，本装置可以使玻璃液边缘部分和中间部分温度分布均匀。

Description

一种用于微晶玻璃生产的可调控锡槽加热装置

技术领域

本实用新型涉及玻璃生产设备领域，具体涉及一种用于微晶玻璃生产的可调控锡槽加热装置。

背景技术

微晶玻璃是把加有晶核剂或不加晶核剂的特定组成的玻璃，在有控条件下进行晶化热处理，使原单一的玻璃相形成了有微晶相和玻璃相均匀分布的复合材料，具有机械强度高、绝缘性好、介电损耗少、耐化学腐蚀、热稳定性好等优点，是一种很有发展前途的新型装饰材料。现在微晶玻璃的生产采用的是烧结法和压延法，其中烧结法需要二次熔融，能耗高而且产品质量差，而压延法则需要对微晶玻璃板进行磨抛，废品率高。浮法工艺利用玻璃的表面张力和锡液的浮力让玻璃成型，可以连续生产高质量玻璃，用浮法生产微晶玻璃可以减少成本，但是，通常由于锡槽槽体冷却不均匀或其他结构的参与等，使得锡槽内的横向温度分布不均匀，该不均匀温度容易导致玻璃中间部分与边缘部分厚度差别较大，对玻璃的成型造成很大影响，因此急需一种能均匀加热玻璃边缘和中间部分的加热装置。

实用新型内容

(一)解决的技术问题

针对现有技术的不足，本实用新型提供了一种用于微晶玻璃生产的可调控锡槽加热装置，使得玻璃边缘和中间部分都能满足加热要求，避免中间部分和边缘部分存在温差。

(二)技术方案

为实现以上目的，本实用新型通过以下技术方案予以实现：

一种用于微晶玻璃生产的可调控锡槽加热装置，包括箱体、石墨内衬层和加热元件，所述箱体由内箱体和外箱体组成，所述内箱体侧壁上设置石墨内衬层，所述加热元件包括侧壁加热元件和顶部加热元件，所述侧壁加热元件分布在箱体对侧面上，从箱体侧面伸入箱体内部，外端连接支座，所述侧壁加热元件位于内箱体与支座间的部分外侧设有套管，所述套管与箱体接触部分设有保温层，所述侧壁加热元件通过支座与电源连接，所述支座下端连接支架，所述支架下端连接滑轨，所述顶部加热元件从箱体顶部伸入箱体内，所述顶部加热元件与箱体接触部分设有所述保温层。

进一步的，所述保温层包括外壳体和内壳体，所述内壳体位于所述外壳体和所述套管之间，所述外壳体由耐热钢和硅酸铝纤维组成，所述内壳体由耐火泥和保温棉组成。

进一步的，所述侧壁加热元件为三相硅碳棒。

进一步的，所述顶部加热元件为电热辐射管。

进一步的，所述箱体内还包括用于检测玻璃液边缘和中间温度的若干温度检测器。

进一步的，所述套管为绝热材料。

(三)有益效果

本实用新型提供了一种用于微晶玻璃生产的可调控锡槽加热装置，其有益效果为：可移动的侧壁加热元件实现对玻璃边缘及中间部分进行加热，通过调整加热元件伸入箱体的长度可以满足玻璃液不同部分的温度分布均匀，加热元件外设有位置固定的套管，可以有效避免因加热元件的移动造成箱体保温性变差，同时结合顶部加热元件的辅助使用，进一步精确控制玻璃液中间部分和边缘部分的温差。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本实用新型结构示意图。

图2为图1中A部放大示意图。

具体实施方式

为使本实用新型实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

实施例1：

一种用于微晶玻璃生产的可调控锡槽加热装置，包括箱体、石墨内衬层6和加热元件，箱体由内箱体和外箱体组成，内箱体侧壁上设置石墨内衬层6，加热元件包括侧壁加热元件2和顶部加热元件5，侧壁加热元件2分布在箱体对侧面上，从箱体侧面伸入箱体内部，外端连接支座9，侧壁加热元件2位于内箱体与支座9间的部分外侧设有套管7，套管7与箱体接触部分设有保温层，侧壁加热元件2通过支座9与电源8连接，支座9下端连接支架10，支架10下端连接滑轨11，顶部加热元件5从箱体顶部伸入箱体内，顶部加热元件5与箱体接触部分设有保温层，侧壁和顶部的保温层包括外壳体4和内壳体3，内壳体3位于外壳体4和套管7之间，外壳体4由耐热钢和硅酸铝纤维组成，内壳体3由耐火泥和保温棉组成，侧壁加热元件2为三相硅碳棒，顶部加热元件5为电热辐射管，箱体内还包括用于检测玻璃液1边缘和中间温度的若干温度检测器，套管7为绝热材料。

使用时，通过箱体内温度检测器反馈的温度可以确定侧壁加热元件2伸入箱体的长度，调整支架10在滑轨11上的位置，使侧壁加热元件2伸入箱体的长度达到目标要求，对玻璃液1边缘进行加热，同时结合顶部加热元件5的使用，使得玻璃液1横向温度分布均匀。

需要说明的是，在本文中，诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。在没有更多限制的情况下，由语句“包括一个……”限定的要素，并不排除在包括所述要素的过程、方法、物品或者设备中还存在另外的相同要素。

以上实施例仅用以说明本实用新型的技术方案，而非对其限制；尽管参照前述实施例对本实用新型进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本实用新型各实施例技术方案的精神和范围。

Claims (6)

1.一种用于微晶玻璃生产的可调控锡槽加热装置，包括箱体、石墨内衬层和加热元件，所述箱体由内箱体和外箱体组成，其特征在于，所述内箱体侧壁上设置石墨内衬层，所述加热元件包括侧壁加热元件和顶部加热元件，所述侧壁加热元件分布在箱体对侧面上，从箱体侧面伸入箱体内部，外端连接支座，所述侧壁加热元件位于内箱体与支座间的部分外侧设有套管，所述套管与箱体接触部分设有保温层，所述侧壁加热元件通过支座与电源连接，所述支座下端连接支架，所述支架下端连接滑轨，所述顶部加热元件从箱体顶部伸入箱体内，所述顶部加热元件与箱体接触部分设有所述保温层。

2.如权利要求1所述的用于微晶玻璃生产的可调控锡槽加热装置，其特征在于，所述保温层包括外壳体和内壳体，所述内壳体位于所述外壳体和所述套管之间，所述外壳体由耐热钢和硅酸铝纤维组成，所述内壳体由耐火泥和保温棉组成。

3.如权利要求1所述的用于微晶玻璃生产的可调控锡槽加热装置，其特征在于，所述侧壁加热元件为三相硅碳棒。

4.如权利要求1所述的用于微晶玻璃生产的可调控锡槽加热装置，其特征在于，所述顶部加热元件为电热辐射管。

5.如权利要求1所述的用于微晶玻璃生产的可调控锡槽加热装置，其特征在于，所述箱体内还包括用于检测玻璃液边缘和中间温度的若干温度检测器。

6.如权利要求1所述的用于微晶玻璃生产的可调控锡槽加热装置，其特征在于，所述套管为绝热材料。