CN206631830U - 一种药液喷嘴的清洗装置及清洗平台 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种药液喷嘴的清洗装置及清洗平台，包括清洗平台和固定安装在清洗平台上的清洗装置，所述清洗装置包括内部为中空结构的清洗箱，所述清洗箱的内腔壁两侧设置有高压喷嘴，所述清洗箱的外侧壁底部设有清洗电机，所述清洗箱的内腔底部设有旋转毛刷，所述清洗电机的传动轴贯穿清洗箱且与旋转毛刷的一端固定连接，该药液喷嘴的清洗装置及清洗平台，通过电机驱动药液喷嘴移动至清洗箱内，对药液喷嘴进行刷洗和高压喷洗，可有效去除药液喷嘴上残留的药液结晶，减少药液喷嘴移动过程中或生产过程中药液结晶掉落在晶片表面的可能，保证机台的工作环境，提高了晶片的质量，值得推广。
Description
技术领域
本实用新型属于喷嘴清洗设备技术领域，具体涉及一种药液喷嘴的清洗装置及清洗平台。
背景技术
在随着集成电路特征尺寸进入到深亚微米阶段，集成电路晶片制造工艺中所要求的晶片表面的洁净度越来越苛刻，为了保证晶片材料表面的洁净度，集成电路的制造工艺中存在数百道清洗工序，清洗工序占了整个制造过程的 30％。但在清洗工艺过程中，出现了一些问题，例如药液喷嘴喷射药液腐蚀晶片表面，药液喷嘴在距离晶片表面大约3cm的位置处喷射药液。由于需要近距离的喷射晶片表面，药液很容易反溅到药液喷嘴上，长此以往药液结晶会累积在药液喷嘴上，在药液喷嘴移动或生产过程中，药液结晶会掉落在晶片表面，降低晶片质量，同时药液喷嘴上药液结晶也会在清洗机台内挥发，影响整个清洗机台内部的环境。因此，避免药液喷嘴上残留的药液结晶影响硅片的质量成为本领域技术人员亟待解决的问题。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种药液喷嘴的清洗装置及清洗平台，以解决上述背景技术中提出的问题。
为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种药液喷嘴的清洗装置及清洗平台，包括清洗平台和固定安装在清洗平台上的清洗装置，所述清洗装置包括内部为中空结构的清洗箱，所述清洗箱的内腔壁两侧设置有高压喷嘴，所述清洗平台的一侧设有清洗液存储箱和气泵，所述清洗液存储箱上设有供液泵，所述供液泵和气泵分别通过管路连接于高压喷嘴，所述清洗箱的外侧壁底部设有清洗电机，所述清洗箱的内腔底部设有旋转毛刷，所述清洗电机的传动轴贯穿清洗箱且与旋转毛刷的一端固定连接。
优选的，所述清洗平台顶部的一端设有横移电机，所述横移电机通过滚珠丝杆与清洗平台顶部设有的升降臂传动连接，所述升降臂的顶部设有升降电机，所述升降电机通过滚珠丝杆与升降臂前端设有的药液喷嘴的支撑杆传动连接。
优选的，所述清洗箱的顶部开设有进口，所述清洗箱的底部设有与排水管道连通的排液管。
优选的，所述高压喷嘴的个数不少于八组，且沿清洗箱内腔两侧壁的垂直方向等间距均匀分布。
优选的，所述清洗平台的顶部设有滑槽，所述升降臂的底部设有与滑槽相适配的导向块。
优选的，所述药液喷嘴沿清洗平台左右移动的线路轨迹位于清洗箱顶部进口的正上方。
优选的，所述清洗电机的传动轴与清洗箱的连接处设有防水密封轴承。
本实用新型的技术效果和优点：该药液喷嘴的清洗装置及清洗平台，通过电机驱动药液喷嘴移动至清洗箱内，对药液喷嘴进行刷洗和高压喷洗，实现了清洗的自动化，可有效去除药液喷嘴上残留的药液结晶，减少药液喷嘴移动过程中或生产过程中药液结晶掉落在晶片表面的可能，保证机台的工作环境，提高了晶片的质量，值得推广。
附图说明
图1为本实用新型的结构示意图；
图2为本实用新型清洗装置的内部结构示意图；
图3为本实用新型升降臂的放大结构图。
图中：1清洗平台、101滑槽、2清洗装置、21清洗箱、211进口、212排液管、22高压喷嘴、23清洗电机、24旋转毛刷、3清洗液存储箱、4气泵、5供液泵、6横移电机、7升降臂、71导向块、8升降电机、9药液喷嘴。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
本实用新型提供了如图1-3所示的一种药液喷嘴的清洗装置及清洗平台，包括清洗平台1和固定安装在清洗平台1上的清洗装置2，所述清洗装置2包括内部为中空结构的清洗箱21，所述清洗箱21的内腔壁两侧设置有高压喷嘴22，所述清洗平台1的一侧设有清洗液存储箱3和气泵4，所述清洗液存储箱3上设有供液泵5，所述供液泵5和气泵4分别通过管路连接于高压喷嘴22，在连接管路上设有电磁阀门，电磁阀门与清洗平台1上设有的控制器连接，通过控制器对电磁阀门的开合时间进行设定，可实现定时清洗，所述清洗箱21的外侧壁底部设有清洗电机23，所述清洗箱21的内腔底部设有旋转毛刷24，所述清洗电机23的传动轴贯穿清洗箱21且与旋转毛刷24的一端固定连接。
具体的，所述清洗平台1顶部的一端设有横移电机6，所述横移电机6通过滚珠丝杆与清洗平台1顶部设有的升降臂7传动连接，所述升降臂7的顶部设有升降电机8，所述升降电机8通过滚珠丝杆与升降臂7前端设有的药液喷嘴9的支撑杆传动连接，横移电机6和升降电机8为正反转伺服服电机，且分别与清洗平台1上设有的控制器连接，通过控制器控制横移电机6转动进而带动升降臂7沿清洗平台1的顶端左右移动，通过升降电机8转动进而带动药液喷嘴9上下移动，通过控制器对各组电机的做功时间进行设定，当药液喷嘴9上粘附的药液晶体过多影响生产时，通过横移电机6和升降电机8的配合自动将药液喷嘴9转移至清洗箱21内进行清洗。
具体的，所述清洗箱21的顶部开设有进口211，所述清洗箱21的底部设有与排水管道连通的排液管212，药液喷嘴9通过进口211进入清洗箱21内，高压喷嘴22将清洗液存储箱3内的清洗液在高压气体的配合下对药液喷嘴9进行喷洗，喷洗后的清洗液从排液管212流出。
具体的，所述高压喷嘴22的个数不少于八组，且沿清洗箱21内腔两侧壁的垂直方向等间距均匀分布，通过设置多组高压喷嘴22，可提高清洗的效果。
具体的，所述清洗平台1的顶部设有滑槽101，所述升降臂7的底部设有与滑槽101相适配的导向块71，升降臂7通过导向块71和滑槽101的滑动配合，在横移电机6的驱动下，沿清洗平台1左右移动，通过设置导向块71，使得升降臂7按指定的路线移动，防止移位。
具体的，所述药液喷嘴9沿清洗平台1左右移动的线路轨迹位于清洗箱21顶部进口211的正上方。
具体的，所述清洗电机23的传动轴与清洗箱21的连接处设有防水密封轴承，防止漏液，保障清洗平台1周围的工作环境干净整洁。
具体的，该药液喷嘴的清洗装置及清洗平台，通过控制器控制电机驱动药液喷嘴9移动至清洗装置2内，对药液喷嘴9进行刷洗和高压喷洗，实现了清洗的自动化，可有效去除药液喷嘴上残留的药液结晶，减少药液喷嘴9在生产过程中药液结晶掉落在晶片表面的可能，保证机台的工作环境，提高了晶片的质量，值得推广。
最后应说明的是：以上所述仅为本实用新型的优选实施例而已，并不用于限制本实用新型，尽管参照前述实施例对本实用新型进行了详细的说明，对于本领域的技术人员来说，其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换,凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。
Claims (7)
1.一种药液喷嘴的清洗装置及清洗平台，包括清洗平台(1)和固定安装在清洗平台(1)上的清洗装置(2)，其特征在于：所述清洗装置(2)包括内部为中空结构的清洗箱(21)，所述清洗箱(21)的内腔壁两侧设置有高压喷嘴(22)，所述清洗平台(1)的一侧设有清洗液存储箱(3)和气泵(4)，所述清洗液存储箱(3)上设有供液泵(5)，所述供液泵(5)和气泵(4)分别通过管路连接于高压喷嘴(22)，所述清洗箱(21)的外侧壁底部设有清洗电机(23)，所述清洗箱(21)的内腔底部设有旋转毛刷(24)，所述清洗电机(23)的传动轴贯穿清洗箱(21)且与旋转毛刷(24)的一端固定连接。
2.根据权利要求1所述的一种药液喷嘴的清洗装置及清洗平台，其特征在于：所述清洗平台(1)顶部的一端设有横移电机(6)，所述横移电机(6)通过滚珠丝杆与清洗平台(1)顶部设有的升降臂(7)传动连接，所述升降臂(7)的顶部设有升降电机(8)，所述升降电机(8)通过滚珠丝杆与升降臂(7)前端设有的药液喷嘴(9)的支撑杆传动连接。
3.根据权利要求1所述的一种药液喷嘴的清洗装置及清洗平台，其特征在于：所述清洗箱(21)的顶部开设有进口(211)，所述清洗箱(21)的底部设有与排水管道连通的排液管(212)。
4.根据权利要求1所述的一种药液喷嘴的清洗装置及清洗平台，其特征在于：所述高压喷嘴(22)的个数不少于八组，且沿清洗箱(21)内腔两侧壁的垂直方向等间距均匀分布。
5.根据权利要求2所述的一种药液喷嘴的清洗装置及清洗平台，其特征在于：所述清洗平台(1)的顶部设有滑槽(101)，所述升降臂(7)的底部设有与滑槽(101)相适配的导向块(71)。
6.根据权利要求1所述的一种药液喷嘴的清洗装置及清洗平台，其特征在于：所述药液喷嘴(9)沿清洗平台(1)左右移动的线路轨迹位于清洗箱(21)顶部进口(211)的正上方。
7.根据权利要求1所述的一种药液喷嘴的清洗装置及清洗平台，其特征在于：所述清洗电机(23)的传动轴与清洗箱(21)的连接处设有防水密封轴承。
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