CN206519417U - 炉管清洗机密封机构 - Google Patents

Abstract

本实用新型提供一种炉管清洗机密封机构，用以清洗石英炉管，炉管清洗机密封机构包括炉管清洗机构以及密封机构。炉管清洗机构具有清洗槽，清洗槽用以放置密封机构。密封机构具有一固定装置、炉管夹紧气缸、高度调节钮、陶瓷轴承、炉管活动密封盖、炉管驱动轴以及炉管驱动滚轮。炉管清洗机密封机构一端为固定装置，通过高度调节钮调节固定装置的高度，从而可以清洗不同尺寸的石英炉管，提高炉管清洗机密封机构的利用率；通过气缸增压，使得炉管活动密封盖密封炉管；密封机构的另一端为清洗药剂进出口，HF酸可以不断循环；密封机构的底部装有炉管驱动轴及炉管驱动滚轮，将炉管放置在驱动滚轴上，转动炉管驱动滚轴，使炉管随滚轴一起转动，从而炉管内部清洗，达到不断循环清洗的效果，提高清洗效率，减少炉管壁厚的损失，延长炉管的寿命。

Description

炉管清洗机密封机构

技术领域

本实用新型与半导体工艺装置有关；具体涉及一种用于清洗石英炉管的炉管清洗机密封机构。

背景技术

半导体是指一种导电性可受控制，范围可从绝缘体至导体之间的材料。无论从科技或是经济发展的角度来看，半导体的重要性都是非常巨大的。今日大部分的电子产品，如计算机、移动电话或是数字录音机当中的核心单元都和半导体有着极为密切的关连。

半导体行业隶属电子信息产业，属于硬件产业，以半导体为基础而发展起来的一个产业，信息时代的基础。近期，全球半导体龙头企业纷纷表示，将继续加大在中国的投资和合作，与以往不同的是，人力成本和融资成本已经不再是合作最大的看点，更多的涉及龙头企业的最先进技术。在政策扶持、资金和国外技术转移的多重驱动下，国内半导体产业有望通过技术合作和并购实现快速崛起。在现今竞争激烈的半导体行业中，如何延长生产产品治具的寿命和提高工作效率，以降低生产过程中所产生的异常损失，是各家厂商所追求的目标之一。

在各种半导体生产过程中，化学气相沉积设备的颗粒污染问题时关注的重点之一，这是由其的工作原理决定的。化学气相沉积设备通常会用于形成常用的氧化硅、氮化硅等薄膜，沉积时，向反应室内混合并发生反应，最终在晶片表面聚集形成希望形成的固态薄膜和气态产物。在这一薄膜形成的过程中，除了在晶片表面形成的薄膜外，必然也会在反应室的内壁表面积累附着物。因此，在多次沉积后，当内壁上的附着物较厚时，易因其发生脱落，对沉积室和晶片造成玷污，形成晶片上的缺陷，降低产品的成品率。尤其对于以石英炉管为反应室的热壁式化学气相沉积设备，会有更多的颗粒沉积在炉管的内壁上，需要定时清洁的频率更高。因而在半导体制造工厂内，需要为其配置专用的炉管清洗设备。

石英炉管是用二氧化硅制造的特种工业技术玻璃，是一种非常优良的基础材料。石英玻璃具有一系列优良的物理、化学性能。石英炉管由于具有优良的理化性能，因此被广泛的应用于电光源、半导体、光通信、军工、冶金、建材、化学、机械、电力、环保等各个领域。原先清洗石英炉管采用的方式：将炉管浸泡在药剂清洗槽体中用酸浸泡清洗，然后用清水，再晒干或者晾干。工作效率低，清洗时间长，清洗药剂使用寿命短，清洗效果差。

实用新型内容

为了改善上述情况，本实用新型的目的在于提供一种炉管清洗机密封机构，可以有效的降低炉管的清洗时间、延长清洗药剂的使用寿命，并且提高炉管的清洗效率，进而缩短炉管的清洗周期，减少炉管壁厚的损失，延长炉管的寿命。

本实用新型所采用的技术方案：炉管清洗密封机构为了降低炉管的清洗时间，炉管清洗机密封机构通过所述密封转动装置两侧的高度调节按钮来调节固定装置的高度，使两侧炉管活动密封盖和炉管同心；控制所述炉管夹紧气缸，通过炉管两侧的炉管活动密封盖固定炉管，并且使炉管密封；将需清洗的炉管放置在炉管驱动滚轴上面，转动炉管驱动滚轴，使炉管随驱动滚轴一起转动，不需要人工操作转动炉管，提高了炉管的清洗效率并改善炉管的清洗效果，进而缩短炉管的清洗时间，缩短清洗周期。

本实用新型所采用的技术方案：炉管清洗机密封机构有一清洗槽，清洗槽用以放置密封转动机构；清洗槽刻有液位，并注明指定清洗药剂液位，用以控制药剂流量，防止药剂过多腐蚀炉管外壁。

本实用新型所采用的技术方案：为了减少炉管壁厚的损失，将需清洗的炉管放置在炉管驱动滚轴上，转动炉管驱动滚轴后，使炉管随驱动滚轴一起转动，从而均匀的清洗炉管内壁；避免炉管长时间浸泡在清洗药剂中，造成炉管壁厚的损失。

本实用新型所采用的技术方案：为了炉管密封盖能够密封炉管两侧，在密封转动机构处装置陶瓷轴承，用于连接炉管密封盖与密封转动机构，达到密封的效果。

本实用新型所采用的技术方案：所述两侧炉管夹紧气缸控制炉管活动密封盖，炉管夹紧气缸充分夹紧，避免炉管活动密封盖松动，防止清洗药剂泄漏；所述两侧的炉管活动密封盖与清洗药剂接触，选用耐酸碱材质；密封清洗可延长清洗药剂的使用寿命，提高炉管的清洗效果。

本实用新型所采用的技术方案：为了提高炉管的清洗效率和效果，在炉管清洗机构底部装置炉管驱动滚轮，带动放置在炉管驱动滚轴上的炉管一同驱动，炉管可均匀转动。

本实用新型所采用的技术方案：为了延长清洗药剂的使用寿命，炉管清洗机密封机构通过 HF进液阀门，将清洗药剂从进液口进入，清洗炉管内壁，炉管密封使得药剂充分被利用，通过进液口添加药剂，出液口排除回收清洗药剂，使得清洗药剂不断循环使用，从而提高了清洗药剂的使用寿命。

基于上述，本实用新型的优点与特点是该炉管清洗机密封机构可通过高度调节旋钮调节两侧的炉管高度，并且可以根据不同尺寸的炉管调节高度，不同尺寸炉管都可进行密封清洗，炉管清洗机密封机构清洗范围广；炉管两侧的炉管活动密封盖通过炉管夹紧气缸得以固定及密封，增强炉管内部的清洗校工；炉管一侧的HF进液口进行药剂的添加，HF出液口可用与排放清洗药剂，清洗药剂可不断循环清洗，提高炉管内部的清洗效率；本实用新型的炉管清洗机密封机构效果在于解决了现有炉管清洗中的设备利用率较低的问题，同时还具有减少清洗药剂的使用量，延长炉管使用寿命清洗效果的优点。

附图说明

图1为炉管清洗机密封机构的正视图。

图2为炉管清洗机密封机构的俯视图。

附图标号说明：

1高度调节旋钮

2炉管夹紧气缸

3炉管活动密封盖

4陶瓷轴承

5炉管

6炉管活动密封盖

7高度调节旋钮

8HF进液口

9HF出液口

10炉管驱动滚轴

11炉管驱动滚轮

具体实施方式

半导体工艺设备中，一般会使用各种炉管作为反应室，当炉管使用时间较长时，反应室内会积累一层附着物，造成生产中的颗粒污染，尤其对于热壁式的化学气相沉积炉管，这一污染问题尤为严重。因而在生产过程中每隔一段时间，就需要对各炉管进行清洁处理，一般采用浸泡清洗的方式，以减少对生产的影响。

对炉管进行清洗时，先将脏的炉管从设备中取出，将其浸泡在酸中浸泡以腐蚀炉管壁上的累积附着物。对于炉管上附着物不同的炉管，所用的腐蚀液也不相同，通常利用49％HF酸腐蚀液对炉管进行浸泡。去除后，再用大量离子水对该炉管进行冲洗，并烘干待用。在这一清洗过程中，浸泡清洗使用时间长，炉管往往浸泡在清洗槽底部，清洗药剂会腐蚀炉管的外壁，且清洗效果不强，影响药剂和炉管的使用寿命。

本实用新型结合工艺需要，对现有炉管的清洗方式进行改进，通过炉管清洗机密封机构，密封炉管的状态下再转动炉管进行清洗。下面结合附图对本实用新型的具体实施方式做详细的说明。

所述炉管密封机构包括一炉管夹紧气缸2、两高度调节钮1及7、两炉管活动密封盖3及6、两炉管驱动轴以10及六炉管驱动滚轮11。

所述炉管密封机构一侧有一HF进液口9和一HF出液口8。

所述炉管密封机构的炉管活动密封盖3及6有一陶瓷轴承4。

炉管清洗机密封机构有一清洗槽，清洗槽用以放置密封转动机构；清洗槽刻有液位，控制药剂流量，清洗槽中注明指定清洗药剂液位，防止腐蚀炉管外壁。

将炉管放在炉管驱动滚轮11上面，通过调节两侧高度调节旋钮1及7，使得两侧的炉管密封活动盖3及6和炉管5保持同心控制炉管一侧的炉管夹紧气缸2并用气缸向炉管内打气，从而炉管内外形成压差，使得炉管两侧的密封活动盖固定炉管，并且使炉管密封；转动炉管驱动滚轴10，使炉管随滚轮一起转动，因而传动确实，故障率低，清洗炉管更顺利，亦可提高其使用寿命；打开HF进液阀门，HF液体从HF进液口9进入，清洗炉管内壁；多于药剂从HF 出液口8流出，从而形成循环清洗，缩短炉管的清洗周期。

本实用新型的炉管清洗机构结合现有工艺需要，解决了现有炉管清洗中的设备利用率较低的问题，同时还具有减少清洗药剂的使用量的优点，提高清洗炉管的效率并延长药剂和炉管的使用寿命，炉管清洗效果更佳。炉管清洗机密封机构比较稳定，故障率低，比原先的清洗方式缩短一半的周期。

Claims (7)

1.一种炉管清洗机密封机构，用以清洗石英炉管，所述炉管清洗机密封机构包括：

一炉管清洗机构，具有一清洗槽；

一密封转动机构，具有一固定装置、炉管夹紧气缸、陶瓷轴承、高度调节钮、炉管活动密封盖、炉管驱动滚轴以及炉管驱动滚轮；

其特征在于，所述密封转动机构设置于所述炉管清洗机构内，所述密封转动机构一端具有一固定装置，所述固定装置上具有高度调节钮，通过调节两侧高度调节使得两侧密封盖与炉管同心；所述炉管夹紧气缸连接并夹紧炉管活动密封盖；所述炉管活动密封盖密封炉管；所述炉管放置在炉管驱动滚轴上方；所述炉管驱动滚轴连接炉管驱动滚轮。

2.如权利要求1所述的炉管清洗机密封机构，其特征在于，所述炉管清洗机构与密封旋转机构形成清洗槽，清洗槽底部放置炉管驱动滚轮及炉管驱动滚轴；炉管清洗机构具有一清洗槽，放置密封转动机构。

3.如权利要求1所述的炉管清洗机密封机构，其特征在于，所述清洗槽底部具有炉管驱动滚轴，炉管驱动滚轴上具有炉管驱动滚轮，将炉管放置在炉管驱动滚轴上，从而带动炉管转动清洗。

4.如权利要求1所述的炉管清洗机密封机构，其特征在于，所述密封转动机构处装置陶瓷轴承，用于连接炉管密封盖。

5.如权利要求1所述的炉管清洗机密封机构，其特征在于，炉管密封盖用以密封炉管两端，炉管陶瓷轴承连接炉管活动密封盖后一同辅助驱动炉管转动。

6.如权利要求1所述的炉管清洗机密封机构，其特征在于，所述炉管清洗机构底部具有炉管驱动滚轴，炉管驱动滚轴上具有炉管驱动滚轮，用以驱动炉管。

7.如权利要求1所述的炉管清洗机密封机构，其特征在于，所述密封转动机构的炉管活动密封盖一端配有HF进液口和出液口，打开HF进液口阀门，HF液体从进液口进入，清洗药剂清洗炉管内壁，关闭进液阀门后，清洗药剂在密封转动机构不断循环清洗；清洗完毕后，打开HF出液口阀门，HF液体从出液口出，回收清洗药剂。