CN206445670U - 一种圆环不锈钢零件的化学机械抛光设备 - Google Patents
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Abstract
一种圆环不锈钢零件的化学机械抛光设备,包括底座,底座上方设有抛光槽,抛光槽内设有抛光盘,所述底座上设置有第一旋转装置,抛光盘下侧与第一旋转装置固定连接,抛光盘上侧设置有抛光垫;所述抛光盘左部上方设有卡盘,卡盘内固定有零件,所述卡盘上端固定连接有第二旋转装置;所述抛光盘右部上方设有衬垫修整器,衬垫修整器下表面布置有修整凸起,所述修整凸起呈三棱锥状。本实用新型的有益效果是第一旋转装置带动抛光盘转动,第二旋转装置带动卡盘转动,从而抛光垫对零件表面进行抛光处理;修整后产生的污垢可以通过隔离带排出,避免粘附在修整凸起上,使衬垫修整器的寿命降低。
Description
技术领域
本实用新型涉及化学机械抛光技术领域,具体涉及一种圆环不锈钢零件的化学机械抛光设备。
背景技术
化学机械抛光技术是机械研磨和化学腐蚀的组合技术,通过浆料的研磨作用和化学腐蚀作用在晶片的表面形成光洁平坦的表面。化学机械抛光技术现已成为对半导体器件进行全局平整化的主流技术之一。举例来说,典型的逻辑器件制造工艺包括七道层间电介质化学机械抛光工序、七道金属化学机械抛光工序和一道浅沟槽隔离化学机械抛光工艺。
在现有技术,化学机械抛光技术一般只应用于晶片制造过程中,但在机械制造过程中,很多机械零件也需要进行抛光研磨处理,但由于机械零件的硬度更高,因此对于抛光设备的要求也就更高。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种圆环不锈钢零件的化学机械抛光设备,以解决上述背景技术中提出的问题。
为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:
一种圆环不锈钢零件的化学机械抛光设备,包括底座,底座上方设有抛光槽,抛光槽内设有抛光盘,所述底座上设置有第一旋转装置,抛光盘下侧与第一旋转装置固定连接,抛光盘上侧设置有抛光垫;所述抛光盘左部上方设有卡盘,卡盘内固定有零件,所述卡盘上端固定连接有第二旋转装置;所述抛光盘右部上方设有衬垫修整器,衬垫修整器下表面布置有修整凸起,所述修整凸起呈三棱锥状;所述衬垫修整器下表面设有若干自内边缘延伸至外边缘的隔离带,所述衬垫修整器上端固定连接有第三旋转装置,第三旋转装置固定设置在动力臂上;所述底座右侧设有抛光液储槽,抛光液储槽内盛有抛光液,抛光液储槽内设有管道,管道另一端延伸至抛光盘上方,所述管道上设置有泵体。
作为本实用新型进一步的方案:所述修整凸起的尺寸范围为10微米-20微米。
作为本实用新型再进一步的方案:所述修整凸起为金刚石材料制成。
作为本实用新型再进一步的方案:所述动力臂与底座固定连接。
作为本实用新型再进一步的方案:所述第二旋转装置还与支撑架固定连接。
作为本实用新型再进一步的方案:所述衬垫修整器下表面中央处设置有凹槽。
本实用新型的有益效果是第一旋转装置带动抛光盘转动,第二旋转装置带动卡盘转动,从而抛光垫对零件表面进行抛光处理;修整后产生的污垢可以通过隔离带排出,避免粘附在修整凸起上,使衬垫修整器的寿命降低;凹槽内可以临时储存修整后的污垢,避免污垢粘附在修整凸起间,从而延长了修整凸起的使用寿命。
附图说明
图1为本实用新型的结构示意图;
图2为本实用新型衬垫修整器的仰视图。
图中:1-底座、2-第一旋转装置、3-抛光盘、4-抛光垫、5-零件、6-卡盘、7-第二旋转装置、8-管道、9-衬垫修整器、10-第三旋转装置、11-动力臂、12-泵体、13-抛光液储槽、14-抛光槽、15-隔离带、16-修整凸起、17-凹槽。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。
请参阅图1和图2,本实用新型实施例中,一种圆环不锈钢零件的化学机械抛光设备,包括底座1,底座1上方设有抛光槽14,抛光槽14内设有抛光盘3,所述底座1上设置有第一旋转装置2,抛光盘3下侧与第一旋转装置2固定连接,抛光盘3上侧设置有抛光垫4;所述抛光盘3左部上方设有卡盘6,卡盘6内固定有零件5,所述卡盘6上端固定连接有第二旋转装置7,第一旋转装置2带动抛光盘3转动,第二旋转装置7带动卡盘6转动,从而抛光垫4对零件表面进行抛光处理;
所述抛光盘3右部上方设有衬垫修整器9,衬垫修整器9下表面布置有修整凸起16,所述修整凸起16呈三棱锥状,衬垫修整器9下表面的修整凸起16对抛光垫4表面进行有效修整;
所述衬垫修整器9下表面设有若干自内边缘延伸至外边缘的隔离带15,所述衬垫修整器9上端固定连接有第三旋转装置10,第三旋转装置10固定设置在动力臂11上,修整后产生的污垢可以通过隔离带15排出,避免粘附在修整凸起16上,使衬垫修整器9的寿命降低;
所述底座1右侧设有抛光液储槽13,抛光液储槽13内盛有抛光液,抛光液中含有二氧化硅颗粒,抛光液储槽13内设有管道8,管道8另一端延伸至抛光盘3上方,所述管道8上设置有泵体12,泵体12工作将抛光液储槽13内的抛光液泵出,抛光液落到抛光垫4上后,配合抛光垫4对零件进行抛光处理。本实用新型中的第一旋转装置2、第二旋转装置7和第三旋转装置10可以为电机驱动模式,其具体结构为现有技术,在机械制造中经常应用到,此处不再赘述。
所述修整凸起16的尺寸范围为10微米-20微米。
所述修整凸起16为金刚石材料制成。
所述动力臂11与底座1固定连接。
所述第二旋转装置7还与支撑架(图中未画出)固定连接,支撑架对第二旋转装置7进行支撑作用。
所述衬垫修整器9下表面中央处设置有凹槽17,凹槽17内可以临时储存修整后的污垢,避免污垢粘附在修整凸起16间,从而延长了修整凸起16的使用寿命。
本实用新型的工作原理是:在使用时,泵体12工作将抛光液储槽13内的抛光液泵出,抛光液落到抛光垫4上后,再启动第一旋转装置2和第二旋转装置7,第一旋转装置2带动抛光盘3转动,第二旋转装置7带动卡盘6转动,从而抛光垫4对零件表面进行抛光处理;当需要对抛光垫4进行修整时,启动第三旋转装置10,衬垫修整器9下表面的修整凸起16对抛光垫4表面进行有效修整;修整后产生的污垢可以通过隔离带15排出,避免粘附在修整凸起16上,使衬垫修整器9的寿命降低;凹槽17内可以临时储存修整后的污垢,避免污垢粘附在修整凸起16间,从而延长了修整凸起16的使用寿命。
对于本领域技术人员而言,显然本实用新型不限于上述示范性实施例的细节,而且在不背离本实用新型的精神或基本特征的情况下,能够以其他的具体形式实现本实用新型。因此,无论从哪一点来看,均应将实施例看作是示范性的,而且是非限制性的,本实用新型的范围由所附权利要求而不是上述说明限定,因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本实用新型内。不应将权利要求中的任何附图标记视为限制所涉及的权利要求。
此外,应当理解,虽然本说明书按照实施方式加以描述,但并非每个实施方式仅包含一个独立的技术方案,说明书的这种叙述方式仅仅是为清楚起见,本领域技术人员应当将说明书作为一个整体,各实施例中的技术方案也可以经适当组合,形成本领域技术人员可以理解的其他实施方式。
Claims (6)
1.一种圆环不锈钢零件的化学机械抛光设备,包括底座,其特征在于,底座上方设有抛光槽,抛光槽内设有抛光盘,所述底座上设置有第一旋转装置,抛光盘下侧与第一旋转装置固定连接,抛光盘上侧设置有抛光垫;所述抛光盘左部上方设有卡盘,卡盘内固定有零件,所述卡盘上端固定连接有第二旋转装置;所述抛光盘右部上方设有衬垫修整器,衬垫修整器下表面布置有修整凸起,所述修整凸起呈三棱锥状;所述衬垫修整器下表面设有若干自内边缘延伸至外边缘的隔离带,所述衬垫修整器上端固定连接有第三旋转装置,第三旋转装置固定设置在动力臂上;所述底座右侧设有抛光液储槽,抛光液储槽内盛有抛光液,抛光液储槽内设有管道,管道另一端延伸至抛光盘上方,所述管道上设置有泵体。
2.根据权利要求1所述的一种圆环不锈钢零件的化学机械抛光设备,其特征在于,所述修整凸起的尺寸范围为10微米-20微米。
3.根据权利要求1或2所述的一种圆环不锈钢零件的化学机械抛光设备,其特征在于,所述修整凸起为金刚石材料制成。
4.根据权利要求1所述的一种圆环不锈钢零件的化学机械抛光设备,其特征在于,所述动力臂与底座固定连接。
5.根据权利要求1所述的一种圆环不锈钢零件的化学机械抛光设备,其特征在于,所述第二旋转装置还与支撑架固定连接。
6.根据权利要求1所述的一种圆环不锈钢零件的化学机械抛光设备,其特征在于,所述衬垫修整器下表面中央处设置有凹槽。
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Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN107877352A (zh) * | 2017-10-23 | 2018-04-06 | 大连理工大学 | 半导体晶片光电化学机械抛光装置 |
CN108188933A (zh) * | 2017-12-24 | 2018-06-22 | 哈尔滨秋冠光电科技有限公司 | 一种化学机械抛光垫的修整设备的结构及其制造方法 |
CN109986456A (zh) * | 2017-12-29 | 2019-07-09 | 长鑫存储技术有限公司 | 化学机械研磨方法、系统及金属插塞的制备方法 |
CN110509172A (zh) * | 2019-08-27 | 2019-11-29 | 浙江日成模具有限公司 | 一种模具钢表面的精加工设备及其精加工工艺 |
CN110877286A (zh) * | 2019-12-02 | 2020-03-13 | 深圳市安达工业设计有限公司 | 一种便于清理的化学机械抛光设备 |
CN114952452A (zh) * | 2022-04-19 | 2022-08-30 | 赛莱克斯微系统科技(北京)有限公司 | 抛光垫修整器、化学机械抛光装置和方法 |
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Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN107877352A (zh) * | 2017-10-23 | 2018-04-06 | 大连理工大学 | 半导体晶片光电化学机械抛光装置 |
CN108188933A (zh) * | 2017-12-24 | 2018-06-22 | 哈尔滨秋冠光电科技有限公司 | 一种化学机械抛光垫的修整设备的结构及其制造方法 |
CN109986456A (zh) * | 2017-12-29 | 2019-07-09 | 长鑫存储技术有限公司 | 化学机械研磨方法、系统及金属插塞的制备方法 |
CN110509172A (zh) * | 2019-08-27 | 2019-11-29 | 浙江日成模具有限公司 | 一种模具钢表面的精加工设备及其精加工工艺 |
CN110877286A (zh) * | 2019-12-02 | 2020-03-13 | 深圳市安达工业设计有限公司 | 一种便于清理的化学机械抛光设备 |
CN110877286B (zh) * | 2019-12-02 | 2021-01-15 | 盐城恒远投资发展有限公司 | 一种便于清理的化学机械抛光设备 |
CN112338795A (zh) * | 2019-12-02 | 2021-02-09 | 深圳市安达工业设计有限公司 | 一种便于清理的化学机械抛光设备的抛光方法 |
CN114952452A (zh) * | 2022-04-19 | 2022-08-30 | 赛莱克斯微系统科技(北京)有限公司 | 抛光垫修整器、化学机械抛光装置和方法 |
CN114952452B (zh) * | 2022-04-19 | 2023-09-26 | 赛莱克斯微系统科技(北京)有限公司 | 抛光垫修整器、化学机械抛光装置和方法 |
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