CN206406542U - 一种高性能单银低辐射镀膜中空玻璃 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种高性能单银低辐射镀膜中空玻璃，包括内玻璃基片、外玻璃基片、连接在所述内玻璃基片与外玻璃基片之间的中空层。外玻璃基片的内侧面镀有复合膜层，复合膜层则由底层氧化钛层、氧化锌层、银层、镍铬层、顶层氧化钛层自外玻璃基片的内侧面向内依次层叠而成。其中，底层氧化钛层的厚度为10nm~35nm、氧化锌层的厚度为4nm~10nm、银层的厚度为12nm~15nm、顶层氧化钛层的厚度为20nm~40nm。本实用新型的高性能单银低辐射镀膜中空玻璃的选择系数LSG可达到1.4~1.5，相对于普通单银低辐射镀膜玻璃性能高,即在同等采光条件下遮阳性能更好；在同等遮阳条件下采光性能更好。
Description
技术领域
本实用新型涉及一种高性能单银低辐射镀膜中空玻璃。
背景技术
中空玻璃是将两片或多片玻璃以有效支撑均匀隔开并周边粘结密封，使玻璃层间形成有干燥气体空间的玻璃制品，其因具有良好的隔热、隔音、美观适用、并可降低建筑物自重等特性而作为一种新型的建筑材料。中空玻璃多种性能优越于普通双层玻璃，因此得到了世界各国的认可。
低辐射玻璃又称Low-E玻璃，是通过磁控真空溅射的方法，在优质浮法玻璃表面均匀地镀上特殊的金属膜系，极大地降低了玻璃表面辐射率，玻璃辐射率能够从0.84降低到0.04～0.12，并提高了玻璃的光谱选择性。
中国标准光谱选择系数LSG为玻璃的可见光透过率除以玻璃的国标得热因子。现有技术生产的普通单银低辐射镀膜玻璃的中国标准光谱选择系数LSG在1.2-1.3之间，处于较低数值。也就是在获得相同的可见光透过率的情况下，现有技术得热因子更高；在获得相同得热因子的情况下，可见光透过率更低，使得遮阳性能与采光性能难以兼顾。
发明内容
本实用新型的目的是提供一种高性能单银低辐射镀膜中空玻璃，目的在于使得单银低辐射镀膜中空玻璃对具有高可见光透过率的同时也具有较高的隔热性能，即提高单银低辐射镀膜中空玻璃的LSG值。
为达到上述目的，本实用新型采用的技术方案是：一种高性能单银低辐射镀膜中空玻璃，包括内玻璃基片、外玻璃基片、连接在所述内玻璃基片与外玻璃基片之间的中空层，所述外玻璃基片的内侧面镀有复合膜层，所述的复合膜层由底层氧化钛层、氧化锌层、银层、镍铬层、顶层氧化钛层自所述外玻璃基片的内侧面向内依次层叠而成，其中，所述底层氧化钛层的厚度为10nm~35nm；所述氧化锌层的厚度为4nm~10nm；所述银层的厚度为12nm~15nm；所述顶层氧化钛层的厚度为20nm~40nm。
优选地，所述镍铬层的厚度为1nm~10nm。
进一步地，所述镍铬层的厚度为4nm~6nm。
进一步地，所述底层氧化钛层的厚度为20nm~28nm。
进一步地，所述氧化锌层的厚度为4.5nm~6nm。
进一步地，所述顶层氧化钛层的厚度为28nm~38nm。
作为一种具体实施方式，所述的复合膜层的结构为TiO2/ZnO/Ag/NiCr/
TiO2，各膜层的厚度分别为26nm/5nm/12.4nm/1.2nm /28.3nm。
作为另一种具体实施方式，所述的复合膜层的结构为TiO2/ZnO/Ag/NiCr/
TiO2，各膜层的厚度分别为22nm/4.5nm/13.2nm/5.7nm/36nm。
作为另一种具体实施方式，所述的复合膜层的结构为TiO2/ZnO/Ag/NiCr/
TiO2，各膜层的厚度分别为20nm/4.7nm/12.8nm/4.1nm/38nm。
由于上述技术方案的运用，本实用新型与现有技术相比具有下列优点：本实用新型的高性能单银低辐射镀膜中空玻璃的选择系数LSG可达到1.4~1.5，即在同等采光条件下，该镀膜中空玻璃的遮阳性能更好；在同等遮阳条件下，该镀膜中空玻璃的采光性能更好。
附图说明
附图1为本实用新型的高性能单银低辐射镀膜中空玻璃的截面示意图。
其中：1、内玻璃基片；2中空层；3、外玻璃基片；
4、底层氧化钛（TiO2）层；5、氧化锌（ZnO）层；6、银（Ag）层；7、镍铬（NiCr）层；8、顶层氧化钛（TiO2）层。
具体实施方式
下面结合附图和具体的实施例来对本实用新型的技术方案作进一步的阐述。
参见图1所示的高性能单银低辐射镀膜中空玻璃截面示意图，高性能单银低辐射镀膜中空玻璃，包括内玻璃基片1、外玻璃基片3、连接在内玻璃基片1与外玻璃基片3之间的中空层2。外玻璃基片3的内侧表面镀有复合膜层，该复合膜层则由底层TiO2层4、ZnO层5、Ag层6、NiCr层7、顶层TiO2层8自所述外玻璃基片3的内侧面向内依次层叠而成。镀膜后的高性能单银低辐射镀膜中空玻璃结构为：内玻璃基片1/中空层2/底层TiO2层4/ZnO层5/Ag层6/NiCr层7/顶层TiO2层8/外玻璃基片3。
其中，所述底层TiO2层4的厚度为10nm~35nm，其优选范围为20nm~28nm ；ZnO层5的厚度为4nm~10nm，其优选范围为4.5nm~6nm；Ag层6的厚度为12nm~15nm；镍铬层的厚度为1nm~10nm，其优选范围为4nm~6nm；顶层TiO2层8的厚度为20nm~40nm，其优选范围为28nm~38nm。
该镀膜玻璃的复合膜层中，其中以ZnO层5为打底层，使得Ag层6镀的更平整，从而提升Ag层6的隔热性能。同时采用TiO2这种高折射率材料作为主要介质层材料，可使得产品在保持舒适颜色的情况下Ag层6可镀的更厚，从而使产品的性能更优。
以下给出具体的实施例来予以说明：
实施例1
参见图1所示的高性能单银低辐射镀膜中空玻璃截面示意图，本实施例的镀膜中空玻璃的复合膜层的厚度分别为：底层TiO2层4的厚度为26nm；ZnO层5的厚度为5nm；Ag层6的厚度为12.4nm；NiCr层7的厚度为1.2nm；顶层TiO2层8的厚度为28.3nm。
经试验得出，其性能参数下所示：
可见光透过率：80%；
可见光反射率：12%；
得热因子：0.55；
LSG值：1.45。
由上可知，本实施例的单银低辐射镀膜中空玻璃选择系数LSG值为1.45，超过普通单银低辐射镀膜玻璃的1.2~1.3，即其性能比普通单银低辐射镀膜玻璃性能高。
实施例2
参见图1所示的高性能单银低辐射镀膜中空玻璃截面示意图，本实施例的镀膜中空玻璃的复合膜层的厚度分别为：底层TiO2层4的厚度为22nm；ZnO层5的厚度为4.5nm；Ag层6的厚度为13.2nm；NiCr层7的厚度为5.7nm；顶层TiO2层8的厚度为36nm。
经试验得出，其性能参数如下所示：
可见光透过率：56%；
可见光反射率：19%；
得热因子：0.39；
LSG值：1.44。
由上可知，本实施例的单银低辐射镀膜中空玻璃选择系数LSG值为1.44，超过普通单银低辐射镀膜玻璃的1.2~1.3，即其性能比普通单银低辐射镀膜玻璃性能高。
实施例3
参见图1所示的高性能单银低辐射镀膜中空玻璃截面示意图，本实施例的镀膜中空玻璃的复合膜层的厚度分别为：底层TiO2层4的厚度为20nm；ZnO层5的厚度为4.7nm；Ag层6的厚度为12.8nm；NiCr层7的厚度为4.1nm；顶层TiO2层8的厚度为38nm。
经试验得出，其性能参数如下所示：
可见光透过率：62%；
可见光反射率：23%；
得热因子：0.42；
LSG值：1.48。
由上可知，本实施例的单银低辐射镀膜中空玻璃选择系数LSG值为1.48，超过普通单银低辐射镀膜玻璃的1.2~1.3，即其性能比普通单银低辐射镀膜玻璃性能高。
综上，当照射相同的可见光时，本中空玻璃与现有技术生产出的单银低辐射镀膜中空玻璃相比，在获得相同的可见光透过率的情况下，本中空玻璃得热因子更底；在获得相同得热因子的情况下，本中空玻璃可见光透过率更高。该中空玻璃的选择系数LSG可达到1.4~1.5，相对于普通单银低辐射镀膜玻璃性能高。
上述实施例只为说明本实用新型的技术构思及特点，其目的在于让熟悉此项技术的人士能够了解本实用新型的内容并据以实施，并不能以此限制本实用新型的保护范围。凡根据本实用新型精神实质所作的等效变化或修饰，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。
Claims (9)
1.一种高性能单银低辐射镀膜中空玻璃，包括内玻璃基片、外玻璃基片、连接在所述内玻璃基片与外玻璃基片之间的中空层，其特征在于：所述外玻璃基片的内侧面镀有复合膜层，所述的复合膜层由底层氧化钛层、氧化锌层、银层、镍铬层、顶层氧化钛层自所述外玻璃基片的内侧面向内依次层叠而成，其中，所述底层氧化钛层的厚度为10nm~35nm；所述氧化锌层的厚度为4nm~10nm；所述银层的厚度为12nm~15nm；所述顶层氧化钛层的厚度为20nm~40nm。
2.根据权利要求1所述的高性能单银低辐射镀膜中空玻璃，其特征在于：所述镍铬层的厚度为1nm~10nm。
3.根据权利要求2所述的高性能单银低辐射镀膜中空玻璃，其特征在于：所述镍铬层的厚度为4nm~6nm。
4.根据权利要求1所述的高性能单银低辐射镀膜中空玻璃，其特征在于：所述底层氧化钛层的厚度为20nm~28nm。
5.根据权利要求1所述的高性能单银低辐射镀膜中空玻璃，其特征在于：所述氧化锌层的厚度为4.5nm~6nm。
6.根据权利要求1所述的高性能单银低辐射镀膜中空玻璃，其特征在于：所述顶层氧化钛层的厚度为28nm~38nm。
7.根据权利要求1至6任一所述的高性能单银低辐射镀膜中空玻璃，其特征在于：所述的复合膜层的结构为TiO2/ZnO/Ag/NiCr/TiO2，各膜层的厚度分别为26nm/5nm/12.4nm/1.2nm /28.3nm。
8.根据权利要求1至6任一所述的高性能单银低辐射镀膜中空玻璃，其特征在于：所述的复合膜层的结构为TiO2/ZnO/Ag/NiCr/TiO2，各膜层的厚度分别为22nm/4.5nm/13.2nm/5.7nm/36nm。
9.根据权利要求1至6任一所述的高性能单银低辐射镀膜中空玻璃，其特征在于：所述的复合膜层的结构为TiO2/ZnO/Ag/NiCr/TiO2，各膜层的厚度分别为20nm/4.7nm/12.8nm/4.1nm/38nm。
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN106584997A (zh) * | 2017-01-19 | 2017-04-26 | 吴江南玻华东工程玻璃有限公司 | 一种高性能单银低辐射镀膜中空玻璃 |
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2017
- 2017-01-19 CN CN201720067391.8U patent/CN206406542U/zh active Active
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