CN206331318U - 一种低功耗低温度系数的电压基准源电路 - Google Patents

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CN206331318U CN201720025381.8U CN201720025381U CN206331318U CN 206331318 U CN206331318 U CN 206331318U CN 201720025381 U CN201720025381 U CN 201720025381U CN 206331318 U CN206331318 U CN 206331318U
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朱珍陈建文
吴江旭
王兴波
谭海曙
朱珍
于昕梅
樊耘
杨发权
肖永豪
周月霞
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Abstract

一种低功耗低温度系数的电压基准源电路,其特征在于包括PTAT电流产生电路和负载电路;PTAT电流产生电路与负载电路一端相连,基准电压源由所述负载电路输出,所述PTAT电流产生电路由PM0、PM1、PM2、PM3、NM0、NM1、NM2、NM5和NM6组成,PM0、PM1、PM2、PM3为PMOS管,NM0、NM1、NM2、NM5和NM6为NMOS管。本实用新型与已有技术相比,具有即使是低电压,甚至是超低电压下,也能正常工作的优点。

Description

一种低功耗低温度系数的电压基准源电路
技术领域
本发明涉及芯片的电压基准源技术领域,尤其涉及一种低功耗低温度系数的电压基准源电路。
背景技术
基准电压源是集成电路中极为重要的模块,广泛应用于模拟、数字、模数混合电路中,特别是在数模转化器和模数转换器等系统中。对模拟系统而言,基准电压源的性能直接影响整个系统的精度,而基准电压源的性能主要受温度的影响,因此需要设计出一种输出与温度无关的基准电压源。
传统的基准电压源采用带隙基准技术设计,这些设计中,都是利用双极型晶体管的基极—发射极电压具有负温度特性,而工作在不同电流密度下的基极—发射极电压之差则具有正温度特性,两者相互补偿可得到与温度无关的输出电压。
采用带隙基准技术设计的基准电压源的输出电压大于1V,其典型值是1.25V,而当今由于移动电子设备的增多,要求模拟集成电路的电源电压能够降至1V左右,功耗在 uW量级上,降低功耗的一个重要方法就是降低电源电压,因此带隙基准难以达到低功耗要求。与此同时,随着CMOS工艺发展到深亚微米,一些标准CMOS工艺未提供三极管器件,带隙基准不再适用。
发明内容
本发明的目的在于克服现有技术的不足,本发明提供了一种输出的基准电压源低于1V,室温下功耗低于1uW的低功耗低温度系数的电压基准源电路。
为了解决上述技术问题,本发明的技术方案为:
一种低功耗低温度系数基准电压源电路,包括PTAT电流产生电路和负载电路;PTAT电流产生电路与负载电路一端相连,基准电压源由所述负载电路输出,所述PTAT电流产生电路由PM0、PM1、PM2、PM3、NM0、NM1、NM2、NM3、NM5和NM6组成,PM0、PM1、PM2、PM3为PMOS管,NM0、NM1、NM2、NM3、NM5和NM6为NMOS管,PM0漏极d与NM3漏极d连接,PM0栅极g与PM2栅极d连接,PM0源极s与电源VDD连接,PM0衬底与电源VDD相连;PM1漏极d与其栅极g连接,PM1源极s与电源VDD连接,PM1衬底接电源VDD;PM2漏极d与其栅极g连接,PM2源极s与电源VDD连接,PM2衬底与电源VDD连接;PM3漏极d与NM1漏极d连接,PM3栅极g与PM1栅极g连接,PM3源极s与电源VDD连接,PM3衬底与电源VDD连接;NM0漏极d与PM1漏极d连接,NM0栅极g与NM3栅极g连接,NM0源极s与NM6漏极d连接,NM0衬底接地GND;NM1漏极d与其栅极g连接,NM1源极s接地GND,NM1衬底接地GND;NM2漏极d与PM2漏极d连接,NM2栅极g与NM1栅极g连接,NM2源极s与NM5漏极d连接,NM2衬底接地GND;NM3漏极d与其栅极g连接,NM3源极s接地GND,衬底接地GND;NM5漏极d与NM2源极s连接,NM5栅极g与NM1栅极g连接,NM5源极s接地GND,接地GND衬底接地GND;NM6漏极d与NM2源极s连接,NM6栅极g与NM3栅极g连接,NM6源极s接地GND,NM6衬底与地GND连接,所述负载电路由PM4和NM4组成,PM4漏极d与NM4漏极d连接,PM4栅极g与PM3栅极g连接,PM4源极s与电源VDD连接,PM4衬底与电源VDD连接,NM4漏极d与其栅极g连接,NM4源极s接地GND,NM4衬底与地GND连接,所述基准电压由NM4漏极d输出,NM0、NM1、NM2、NM3的NMOS管的物理性能是这样的,NM3、NM1与NM2、NM0的Vth(阀值电压)不相同,而且,Vth3-Vth0= Vth1-Vth2,NM0的漏极电流I0等于NM2的漏极电流I2,NM1的漏极电流I1等于NM3的漏极电流I3。
在本发明实施例中, PM0、PM1、PM2、PM3、NM0、NM1、NM2、NM3、NM5和NM6构成PTAT电流产生电路,PTAT电流产生电路用来给负载电路中提供电流,这种电流与绝对温度成正比,且与电源VDD无关;负载电路由PM4、NM4构成,PM4与PTAT电流产生电路中的PM1组成电流镜,将PTAT电路中产生的电流复制到负载电路中,这样从NM4漏极得到的基准电压可以达到零温度系数。
与现有技术相比,本发明的有益效果为:避免了使用三极管带来的与标准CMOS工艺不兼容的问题,避免使用电阻,大大减小了芯片面积,本发明得到的基准电压源电压低于1V,符合当今电子设备低电源电压和低功耗的发展趋势。
附图说明
图1为本发明的电路图。
具体实施方式
现结合附图和实施例对本发明做进一步详细描述:
包括PTAT电流产生电路和负载电路;PTAT电流产生电路与负载电路一端相连,基准电压源由所述负载电路输出,所述PTAT电流产生电路由PM0、PM1、PM2、PM3、NM0、NM1、NM2、NM5和NM6组成,PM0、PM1、PM2、PM3为PMOS管,NM0、NM1、NM2、NM5和NM6为NMOS管,PM0漏极d与NM3漏极d连接,PM0栅极g与PM2栅极d连接,PM0源极s与电源VDD连接,PM0衬底与电源VDD相连;PM1漏极d与其栅极g连接,PM1源极s与电源VDD连接,PM1衬底接电源VDD;PM2漏极d与其栅极g连接,PM2源极s与电源VDD连接,PM2衬底与电源VDD连接;PM3漏极d与NM1漏极d连接,PM3栅极g与PM1栅极g连接,PM3源极s与电源VDD连接,PM3衬底与电源VDD连接;NM0漏极d与PM1漏极d连接,NM0栅极g与NM3栅极g连接,NM0源极s与NM6漏极d连接,NM0衬底接地GND;NM1漏极d与其栅极g连接,NM1源极s接地GND,NM1衬底接地GND;NM2漏极d与PM2漏极d连接,NM2栅极g与NM1栅极g连接,NM2源极s与NM5漏极d连接,NM2衬底接地GND;NM3漏极d与其栅极g连接,NM3源极s接地GND,衬底接地GND;NM5漏极d与NM2源极s连接,NM5栅极g与NM1栅极g连接,NM5源极s接地GND,接地GND衬底接地GND;NM6漏极d与NM2源极s连接,NM6栅极g与NM3栅极g连接,NM6源极s接地GND,NM6衬底与地GND连接,所述负载电路由PM4和NM4组成,PM4漏极d与NM4漏极d连接,PM4栅极g与PM3栅极g连接,PM4源极s与电源VDD连接,PM4衬底与电源VDD连接,NM4漏极d与其栅极g连接,NM4源极s接地GND,NM4衬底与地GND连接,所述基准电压由NM4漏极d输出,NM0、NM1、NM2、NM3的NMOS管的物理性能是这样的,NM3、NM1与NM2、NM0的Vth(阀值电压)均不相同,而且,Vth3-Vth0= Vth1-Vth2,NM0的漏极电流I0等于NM2的漏极电流I2,NM1的漏极电流I1等于NM3的漏极电流I3。
本发明的电路原理是:
电路中由于NM1、NM3的NMOS管处于饱和区,而NM0、NM2的NMOS管处于亚阀值区,因此,NM0、NM1、NM2、NM3的NMOS管具有以下的特性:
上式中表示热电压,K、q是一常数,T是温度,表示特征电流,是一非理想因子,VGS是栅极、源极间的电压差,Vth是阀值电压,μn表示MOS管的电子迁移率,Cox表示MOS管栅极氧化层电容,W表示MOS管栅极宽度,L表示MOS管栅极长度。将上下两式相减,得到两个等式:
因为NM5和NM6的漏极电位相等,所以(1)式等于(2),由于选择的NM3和NM1、NM0与NM2的阈值电压相同,所以有Vth3-Vth0= Vth1-Vth2,PM0和PM2组成电流镜,将NM3的漏极电流等比例复制给NM2,PM1和PM3组成电流镜,将NM1的漏极电流等比例复制给NM0,所以NM3与NM2的漏极电流相等,NM1与NM0的漏极电流相等,同时根据NMOS管的电流特性,通过设置MOS管的宽长比K,在K3不等于K1和K0不等于K2的情况下,也能使NM0的漏极电流I0等于NM2的漏极电流I2,NM1的漏极电流I1等于NM3的漏极电流I3,这样就得到:
由于,最终得到的表达式:
PM1、PM4组成电流镜,于是有,NM4是二极管连接形式,于是可以得到基准电压的表达式:
因为有, ,调整系数就可以得到
在Hspice仿真器下本基准电压源在-15~150℃的温度范围内具有6.1ppm/℃的温度系数,输出基准电压在593.5mV~594.1mV之间,电源电压,室温下功耗为714.7nW。

Claims (1)

1.一种低功耗低温度系数的电压基准源电路,其特征在于包括PTAT电流产生电路和负载电路;PTAT电流产生电路与负载电路一端相连,基准电压源由所述负载电路输出,所述PTAT电流产生电路由PM0、PM1、PM2、PM3、NM0、NM1、NM2、NM3、NM5和NM6组成,PM0、PM1、PM2、PM3为PMOS管,NM0、NM1、NM2、NM3、NM5和NM6为NMOS管,PM0漏极d与NM3漏极d连接,PM0栅极g与PM2栅极d连接,PM0源极s与电源VDD连接,PM0衬底与电源VDD相连;PM1漏极d与其栅极g连接,PM1源极s与电源VDD连接,PM1衬底接电源VDD;PM2漏极d与其栅极g连接,PM2源极s与电源VDD连接,PM2衬底与电源VDD连接;PM3漏极d与NM1漏极d连接,PM3栅极g与PM1栅极g连接,PM3源极s与电源VDD连接,PM3衬底与电源VDD连接;NM0漏极d与PM1漏极d连接,NM0栅极g与NM3栅极g连接,NM0源极s与NM6漏极d连接,NM0衬底接地GND;NM1漏极d与其栅极g连接,NM1源极s接地GND,NM1衬底接地GND;NM2漏极d与PM2漏极d连接,NM2栅极g与NM1栅极g连接,NM2源极s与NM5漏极d连接,NM2衬底接地GND;NM3漏极d与其栅极g连接,NM3源极s接地GND,衬底接地GND;NM5漏极d与NM2源极s连接,NM5栅极g与NM1栅极g连接,NM5源极s接地GND,接地GND衬底接地GND;NM6漏极d与NM2源极s连接,NM6栅极g与NM3栅极g连接,NM6源极s接地GND,NM6衬底与地GND连接,所述负载电路由PM4和NM4组成,PM4漏极d与NM4漏极d连接,PM4栅极g与PM3栅极g连接,PM4源极s与电源VDD连接,PM4衬底与电源VDD连接,NM4漏极d与其栅极g连接,NM4源极s接地GND,NM4衬底与地GND连接,所述基准电压由NM4漏极d输出,NM0、NM1、NM2、NM3的NMOS管的物理性能是这样的,NM3、NM1与NM2、NM0的阈值电压Vth不相同,而且,Vth3-Vth0= Vth1-Vth2,NM0的漏极电流I0等于NM2的漏极电流I2,NM1的漏极电流I1等于NM3的漏极电流I3
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