CN206185674U - 反应釜镜面抛光机 - Google Patents

Abstract

本实用新型属于抛光设备领域，尤其涉及一种反应釜镜面抛光机，包括抛光电机和抛光轮，抛光轮安装在抛光电机的输出轴上，还包括底板、固定支架、转动支架、转动电机、行走滑道、行走丝杠和行走电机，固定支架固定在底板的一端，转动支架共有两个，两个转动支架均固定在底板上方，用于支撑反应釜，转动支架的顶部设置有滚轮，反应釜放置在滚轮上，转动电机的输出轴通过减速机构与一个转动支架上的滚轮的旋转轴连接，行走滑道的一端固定安装在固定支架的顶端，另一端从反应釜的开口处进入反应釜并通过轴承与反应釜的底部连接，行走滑道上设置有滑套，滑套上焊接有抛光支架，所述的抛光电机通过弹簧的支撑安装在抛光支架上。

Description

反应釜镜面抛光机

技术领域

本实用新型属于抛光设备领域，尤其涉及一种反应釜镜面抛光机。

背景技术

反应釜是生产聚丙烯酰胺时必备的一种生产设备，在反应釜的生产和维护过程中，需要对反应釜的内壁进行抛光处理。现有技术中，抛光工作通常是由人工完成的，抛光时，需要工人手持抛光机进入反应釜内进行操作，这种操作方式不但工作效率低，而且难以保证抛光质量。

发明内容

本实用新型提供一种反应釜镜面抛光机，以解决上述背景技术中提出的问题。

本实用新型所解决的技术问题采用以下技术方案来实现：本实用新型提供一种反应釜镜面抛光机，包括抛光电机和抛光轮，抛光轮安装在抛光电机的输出轴上，还包括底板、固定支架、转动支架、转动电机、行走滑道、行走丝杠和行走电机，所述的固定支架固定在底板的一端，所述的转动支架共有两个，两个转动支架均固定在底板上方，用于支撑反应釜，转动支架的顶部设置有滚轮，反应釜放置在滚轮上，所述的转动电机的输出轴通过减速机构与一个转动支架上的滚轮的旋转轴连接，所述的行走滑道的一端固定安装在固定支架的顶端，另一端从反应釜的开口处进入反应釜并通过轴承与反应釜的底部连接，行走滑道上设置有滑套，滑套上焊接有抛光支架，所述的抛光电机通过弹簧的支撑安装在抛光支架上，所述的行走丝杠安装在行走滑道的侧面，所述的滑套的侧面固定连接有与行走丝杠匹配的螺纹套，所述的行走电机安装在行走丝杠的端部，行走丝杠在行走电机的驱动下转动。

所述的抛光电机共有三组，三组抛光电机均匀分布在滑套的周围。

本实用新型的有益效果为：使用本实用新型，在行走电机和行走丝杠的驱动下，抛光电机在反应釜内进行直线往复运动，从而实现对反应釜内壁表面进行均匀磨削抛光；在转动电机的驱动下，反应釜与抛光机构发生相对转动，从而实现对反应釜内部的全方位抛光。另外，采用变频器对各电机的转速和启停进行控制，可实现自动抛磨，加工效率高，劳动强度低，抛光精度可以达到Ra≤0.016-0.01um。

附图说明

图1是本实用新型的结构示意图；

图2是抛光电机的安装结构示意图。

图中：1-轴承，2-反应釜，3-行走滑道，4-行走丝杠，5-抛光电机，6-抛光轮，7-抛光支架，8-螺纹套，9-行走电机，10-固定支架，11-转动电机，12-转动支架，13-滑套，14-底板，15-弹簧。

具体实施方式

以下结合附图对本实用新型做进一步描述：

本实施例包括抛光电机5和抛光轮6，抛光轮6安装在抛光电机5的输出轴上。

本实施例还包括底板14、固定支架10、转动支架12、转动电机11、行走滑道3、行走丝杠4和行走电机9，所述的固定支架10固定在底板14的一端，其作用是用来支撑行走滑道3和行走电机9。

所述的转动支架12共有两个，两个转动支架12均固定在底板14上方，用于支撑反应釜2，转动支架12的顶部设置有滚轮，反应釜2放置在滚轮上，所述的转动电机11的输出轴通过减速机构与一个转动支架12上的滚轮的旋转轴连接。转动电机11通过驱动滚轮旋转，实现对反应釜2的旋转驱动。

所述的行走滑道3的一端固定安装在固定支架10的顶端，另一端从反应釜2的开口处进入反应釜2并通过轴承1与反应釜2的底部连接，抛光时，行走滑道3位置不动，反应釜2在转动电机11的驱动下沿其自身的轴线转动。轴承1的设置可为行走滑道3的端部提供稳定支撑，从而保证抛光机构运动的精确性。轴承1可通过螺栓固定安装在反应釜的底部。

行走滑道3上设置有滑套13，滑套13上焊接有抛光支架7，所述的抛光电机5通过弹簧15的支撑安装在抛光支架7上，弹簧的设置给抛光电机5提供了柔性支撑，从而使抛光电机5与反应釜2的内壁更好的贴合。

所述的行走丝杠4安装在行走滑道3的侧面，所述的滑套13的侧面固定连接有与行走丝杠4匹配的螺纹套8，所述的行走电机9安装在行走丝杠4的端部，行走丝杠4在行走电机9的驱动下转动，继而将旋转运动转换成滑套13的直线运动。

所述的抛光电机5共有三组，三组抛光电机5均匀分布在滑套13的周围。各抛光电机5有利于保证抛光进程的均匀性。

使用本实用新型，在行走电机9和行走丝杠4的驱动下，抛光电机5在反应釜2内进行直线往复运动，从而实现对反应釜2内壁表面进行均匀磨削抛光；在转动电机11的驱动下，反应釜2与抛光机构发生相对转动，从而实现对反应釜2内部的全方位抛光。另外，采用变频器对各电机的转速和启停进行控制，可实现自动抛磨，加工效率高，劳动强度低，抛光精度可以达到Ra≤0.016-0.01um。

Claims (2)

1.一种反应釜镜面抛光机，包括抛光电机(5)和抛光轮(6)，抛光轮(6)安装在抛光电机(5)的输出轴上，其特征在于：还包括底板(14)、固定支架(10)、转动支架(12)、转动电机(11)、行走滑道(3)、行走丝杠(4)和行走电机(9)，所述的固定支架(10)固定在底板(14)的一端，所述的转动支架(12)共有两个，两个转动支架(12)均固定在底板(14)上方，用于支撑反应釜(2)，转动支架(12)的顶部设置有滚轮，反应釜(2)放置在滚轮上，所述的转动电机(11)的输出轴通过减速机构与一个转动支架(12)上的滚轮的旋转轴连接，所述的行走滑道(3)的一端固定安装在固定支架(10)的顶端，另一端从反应釜(2)的开口处进入反应釜(2)并通过轴承(1)与反应釜(2)的底部连接，行走滑道(3)上设置有滑套(13)，滑套(13)上焊接有抛光支架(7)，所述的抛光电机(5)通过弹簧(15)的支撑安装在抛光支架(7)上，所述的行走丝杠(4)安装在行走滑道(3)的侧面，所述的滑套(13)的侧面固定连接有与行走丝杠(4)匹配的螺纹套(8)，所述的行走电机(9)安装在行走丝杠(4)的端部，行走丝杠(4)在行走电机(9)的驱动下转动。

2.根据权利要求1所述的一种反应釜镜面抛光机，其特征在于：所述的抛光电机(5)共有三组，三组抛光电机(5)均匀分布在滑套(13)的周围。