CN206149777U - 一种具有控温装置的射频等离子体种子处理设备 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及一种具有控温装置的射频等离子体种子处理设备，包括仓室组合、传送装置、调压装置、射频装置以及控温装置。处理设备配有控温装置，用于稳定处理仓内部温度，防止种子高温失活。本实用新型避免了射频等离子体长时间处理种子带来的高温问题，可以实现连续性作业。

Description

一种具有控温装置的射频等离子体种子处理设备

技术领域

本实用新型属于种子处理设备领域，具体地，涉及一种具有控温装置的射频等离子体种子处理设备。

背景技术

冷等离子体是物质存在的第四种状态，即物质第四态，是一种能量更高的物质聚集态，冷等离子体中含有大量的电子、离子、激发态的分子原子、自由基及紫外光等活性粒子，比通常的化学反应所产生的活性粒子种类更多、活性更强，更易于和所接触的材料表面发生反应。

以色列Edward Bormashenko等人研究认为，种子经过射频等离子体处理可以改变其表面性质，使种子的表观接触角大幅度下降，表明种子的吸水性大幅度增加，尤其是润湿性。此外，经过射频等离子体处理可以改变氧气和二氧化碳对种子的渗透率，直接影响种子的发芽情况，对提高产量和控制发芽速度具有潜在的作用。另外，经过射频等离子体处理还可以缩短育种周期，改良其相关性状。

目前，国内射频等离子体种子处理设备大多数无法实现批量生产，部分设备采用传送带的输送方式，意在实现批量生产，但该方式产生等离子体的过程温度极易升高，易将种子烤熟，故在处理种子的时候需要经常停机降温。

发明内容

针对以上问题，本实用新型的目的在于提供一种控温型射频等离子体种子处理设备，从而可以实现批量生产，保证种子在处理过程中不受高温的影响。

实现本实用新型目的采用的技术方案是：一种具有控温装置的射频等离子种子处理设备，包括仓室组合、传送装置、调压装置、射频装置、控温装置，仓室组合包括进料仓1、进料电动真空蝶阀2、分料器3、处理仓6、出料电动真空蝶阀12、出料仓13、落料斗14；传送装置包括带张紧装置的带张紧装置的从动胶辊4、驱动电机15、主动胶辊16、传送带17；调压装置包括处理仓抽气口7、电磁充气阀8、真空波纹管9、真空泵10、第一气体转子流量计20、第二气体转子流量计21、电阻真空计22、电阻硅管29、驱动电机接线口30、射频电源接线口31、真空观察窗32、处理仓仓门33、第一电磁阀34、第二电磁阀35；射频装置包括射频匹配器18、射频电源19、触摸显示屏23、上电极板24、上绝缘板25、下电极板26；控温装置包括空调压缩机11、盘管27、温度传感器28。

优选地，处理仓6呈长方体，其内部设有可抽出式架板5；进料仓1位于处理仓6的上部，通过进料电动真空蝶阀2与处理仓6连通；分料器3位于处理仓6内部，设置在进料电动真空蝶阀2的正下方；出料仓13位于处理仓6的下部，出料电动真空蝶阀12位于出料仓13下方且与出料仓连通；落料斗14位于处理仓6内部，设置在出料仓13的正上方。

优选地，驱动电机15位于架板5的一侧；主动胶辊16通过轴承座固定于架板5上，与驱动电机15之间通过链条连接；带张紧装置的从动胶辊4通过张紧装置连接到架板5上；传送带17缠绕在主动胶辊16和带张紧装置的从动胶辊4上。

优选地，真空泵10位于种子处理设备的底部；电阻硅管29位于处理仓6的内部；电阻真空计22位于种子处理设备的前面板上，并与电阻硅管29连接。

优选地，射频电源19位于种子处理设备的顶部；射频匹配器18位于射频电源19的下方且位于处理仓6的上方；射频电源19与射频匹配器18通过射频连接线相连，由射频匹配器18引出射频连接线通入处理仓6，连接上电极板24。

优选地，温度传感器28位于处理仓6内部；空调压缩机11位于种子处理设备的底部；盘管27盘绕在处理仓6的内部上表面，并通向处理仓6外，用于连接空调压缩机11。

本实用新型具有如下优点：能够实现连续作业，减少操作时间，降低工作气体的使用量；应用降温装置，温度稳定，避免工作时出现停机降温，避免高温使种子失活。

附图说明

图1是本实用新型的一种具有温控装置的射频等离子体种子处理设备的主视图；

图2是本实用新型的处理设备的处理仓的结构图；

本实用新型的附图标记为，

1.进料仓，2.进料电动真空蝶阀，3.分料器，4.带张紧装置的从动胶辊，5.可抽出式架板，6.处理仓，7.处理仓抽气口，8.电磁充气阀，9.真空波纹管，10.真空泵，11.空调压缩机，12.出料电动真空蝶阀，13.出料仓，14.落料斗，15.驱动电机，16.主动胶辊，17.传送带，18.射频匹配器，19.射频电源，20.第一气体转子流量计，21.第二气体转子流量计，22.电阻真空计，23.触摸显示屏，24.上电极板，25.上绝缘板，26.下电极板，27.盘管，28.温度传感器，29.电阻硅管，30.驱动电机接线口，31.射频电源接线口，32.真空观察窗，33.处理仓仓门，34.第一电磁阀，35.第二电磁阀。

具体实施方式

为使本实用新型实施的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行更加详细的描述。所描述的实施例是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，旨在用于解释本实用新型，而不能理解为对本实用新型的限制。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。下面结合附图对本实用新型的实施例进行详细说明。

实用新型如附图1和2所示，本实用新型的一种具有控温装置的射频等离子体种子处理设备，包括仓室组合、传送装置、调压装置、射频装置、控温装置。其中，

仓室组合包括进料仓1、进料电动真空蝶阀2、分料器3、处理仓6、出料电动真空蝶阀12、出料仓13、落料斗14。处理仓6呈长方体，其内部设有可抽出式架板5，仓内零部件置于架板5上。进料仓1位于处理仓6的上部，通过进料电动真空蝶阀2与处理仓6连通。分料器3位于处理仓6内部，设置在进料电动真空蝶阀2的正下方。出料仓13位于处理仓6的下部，出料电动真空蝶阀12位于出料仓13下方且与出料仓连通。落料斗14位于处理仓6内部，设置在出料仓13的正上方。

传送装置包括带张紧装置的带张紧装置的从动胶辊4、驱动电机15、主动胶辊16、传送带17。驱动电机15位于架板5的一侧，主动胶辊16通过轴承座固定于架板5上，与驱动电机15之间通过链条连接。带张紧装置的从动胶辊4通过张紧装置连接到架板5上。传送带17缠绕在主动胶辊16和带张紧装置的从动胶辊4上。

调压装置包括处理仓抽气口7、电磁充气阀8、真空波纹管9、真空泵10、第一气体转子流量计20、第二气体转子流量计21、电阻真空计22、电阻硅管29、驱动电机接线口30、射频电源接线口31、真空观察窗32、处理仓仓门33、第一电磁阀34、第二电磁阀35。真空泵10位于种子处理设备的底部。电阻硅管29位于处理仓6的内部。电阻真空计22位于种子处理设备的前面板上，并与电阻硅管29连接。

射频装置包括射频匹配器18、射频电源19、触摸显示屏23、上电极板24、上绝缘板25、下电极板26。射频电源19位于种子处理设备的顶部。射频匹配器18位于射频电源19的下方且位于处理仓6的上方。射频电源19与射频匹配器18通过射频连接线相连，由射频匹配器18引出射频连接线通入处理仓6，连接上电极板24。

控温装置包括空调压缩机11、盘管27、温度传感器28。温度传感器28位于处理仓6内部。空调压缩机11位于种子处理设备的底部。盘管27盘绕在处理仓6的内部上表面，并通向处理仓6外，用于连接空调压缩机11。

实用新型

本处理设备的真空处理工作过程如下。打开真空泵10对进行抽真空处理，外部空气通过第一电磁阀34和第一气体转子流量计20调节，充入处理仓6内，通过电阻真空计22的检测，使处理仓6内真空度稳定在60Pa；然后工作气体通过第二电磁阀35和第二气体转子流量计21调节，充入处理仓6内，使处理仓6内真空度稳定在130～160pa。

本处理设备的等离子体产生工作过程如下。待处理仓6的真空度稳定后，即可开启射频电源匹配器18和射频电源19，使上电极板24和下电极板26之间产生辉光放电现象，生成等离子体。

本处理设备的进料工作过程如下。待处理的种子置于进料仓1内，通过调节进料电动真空蝶阀2控制种子的流量，经过分料器3将种子均匀的铺在传送带17上。

本处理设备的传送工作过程如下。通过打开驱动电机15驱动主动胶辊16转动，从而带动传送带17传送，将传送带17上的种子送入上电极板24和下电极板26间进行处理；通过调节驱动电机15的转速以调节传送带17的速度，从而调节种子经过上电极板24和下电极板26的时间，即调节种子处理时间。

本处理设备的出料工作过程如下。处理后的种子经落料斗14进入出料仓13，待所有种子处理完毕后，打开电磁充气阀8平衡仓内外的压力，然后打开出料电动真空蝶阀12放出所有处理完毕的种子。

本处理设备的控温工作过程如下。

实用新型当温度传感器28检测到温度高于设定范围值时，打开空调压缩机11，通过盘绕在处理仓6内部的盘管27将处理仓6内部的热量带走以降低温度，当温度低于范围值时，控制系统会将空调压缩机11关闭。

本处理设备采用真空射频方式产生等离子体，由于真空状态下有吸附作用，使得种子接触的射频等离子体更充分。

最后需要指出的是：以上实施例仅用以说明本实用新型的技术方案，而非对其限制。尽管参照前述实施例对本实用新型进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本实用新型各实施例技术方案的精神和范围。

Claims (6)

1.一种具有控温装置的射频等离子体种子处理设备，包括仓室组合、传送装置、调压装置、射频装置、控温装置，其特征在于，

仓室组合包括进料仓（1）、进料电动真空蝶阀（2）、分料器（3）、处理仓（6）、出料电动真空蝶阀（12）、出料仓（13）、落料斗（14）；

传送装置包括带张紧装置的带张紧装置的从动胶辊（4）、驱动电机（15）、主动胶辊（16）、传送带（17）；

调压装置包括处理仓抽气口（7）、电磁充气阀（8）、真空波纹管（9）、真空泵（10）、第一气体转子流量计（20）、第二气体转子流量计（21）、电阻真空计（22）、电阻硅管（29）、驱动电机接线口（30）、射频电源接线口（31）、真空观察窗（32）、处理仓仓门（33）、第一电磁阀（34）、第二电磁阀（35）；

射频装置包括射频匹配器（18）、射频电源（19）、触摸显示屏（23）、上电极板（24）、上绝缘板（25）、下电极板（26）；

控温装置包括空调压缩机（11）、盘管（27）、温度传感器（28）。

2.根据权利要求1所述的处理设备，其特征在于，处理仓（6）呈长方体，其内部设有可抽出式架板（5）；进料仓（1）位于处理仓（6）的上部，通过进料电动真空蝶阀（2）与处理仓（6）连通；分料器（3）位于处理仓（6）内部，设置在进料电动真空蝶阀（2）的正下方；出料仓（13）位于处理仓（6）的下部，出料电动真空蝶阀（12）位于出料仓（13）下方且与出料仓连通；落料斗（14）位于处理仓（6）内部，设置在出料仓（13）的正上方。

3.根据权利要求1所述的处理设备，其特征在于，驱动电机（15）位于架板（5）的一侧；主动胶辊（16）通过轴承座固定于架板（5）上，与驱动电机（15）之间通过链条连接；带张紧装置的从动胶辊（4）通过张紧装置连接到架板（5）上；传送带（17）缠绕在主动胶辊（16）和带张紧装置的从动胶辊（4）上。

4.根据权利要求1所述的处理设备，其特征在于，真空泵（10）位于种子处理设备的底部；电阻硅管（29）位于处理仓（6）的内部；电阻真空计（22）位于种子处理设备的前面板上，并与电阻硅管（29）连接。

5.根据权利要求1所述的处理设备，其特征在于，射频电源（19）位于种子处理设备的顶部；射频匹配器（18）位于射频电源（19）的下方且位于处理仓（6）的上方；射频电源（19）与射频匹配器（18）通过射频连接线相连，由射频匹配器（18）引出射频连接线通入处理仓（6），连接上电极板（24）。

6.根据权利要求1所述的处理设备，其特征在于，温度传感器（28）位于处理仓（6）内部；空调压缩机（11）位于种子处理设备的底部；盘管（27）盘绕在处理仓（6）的内部上表面，并通向处理仓（6）外，用于连接空调压缩机（11）。