CN206083331U - 清洗和灌装去离子水箱装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型提供了一种清洗和灌装去离子水箱装置，包括：用于承载所述去离子水箱的载台、用于清洗所述去离子水箱的清洗工作台、用于灌装所述去离子水箱的灌装工作台以及用于控制清洗作业和/或灌装作业运行的控制装置；所述清洗工作台、所述灌装工作台和所述控制装置设置于所述载台上。当需要清洗和灌装所述去离子水箱时，由所述控制装置分别控制所述清洗工作台和所述灌装工作台对所述去离子水箱进行清洗和灌装作业。本实用新型提供的清洗和灌装去离子水箱装置代替人工操作，大大减少人体劳动强度，提高了作业效率；另一方面，还方便了离子水箱的储存和运输。

Description

清洗和灌装去离子水箱装置

技术领域

本实用新型涉及机械设计及其自动控制领域，特别涉及一种清洗和灌装去离子水箱装置。

背景技术

去离子水是指除去了呈离子形式杂质后的纯水。去离子水箱用于储存去离子水，广泛应用于集成电路制造设备之中。去离子水箱内填有吸附树脂，可以将水中的各类能够形成导电离子的物质吸附掉，从而为半导体设备提供去离子水。去离子水箱内的树脂需要定时更换。由于去离子水箱在半导体行业使用广泛，且水箱自身较重，更换树脂不便。如何实现快速且高效地更换树脂作业变得愈发急迫。

当前，去离子水箱的清洗需要人为地将水箱倒置抱起，将其内部的水、乙二醇和树脂混合物倒出，再将水箱正常放置并注入清水，之后重新倒置抱起排出残留的混合物，如此循环反复多次。装满的去离子水箱较重，操作起来很不方便。清洗完毕的去离子水箱需要灌装入新的树脂以便重新使用。当前的灌装作业是人为地用手填树脂到水箱内，效率低且容易洒落，对无尘车间内的环境有一定的影响。

目前灌装完毕的去离子水箱没有专门的放置装置，一般放置在一个固定的区域，不整洁，也不方便拿取和运输。

为了提高清洗和灌装去离子水箱的作业效率，非常有必要开发一款清洗和灌装去离子水箱的装置。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种清洗和灌装去离子水箱装置，以解决目前人工清洗和灌装去离子水箱不方便的问题。

为解决上述技术问题以及与之相关的问题，本实用新型提供一种清洗和灌装去离子水箱装置，包括：用于承载所述去离子水箱的载台、用于清洗所述去离子水箱的清洗工作台、用于灌装所述去离子水箱的灌装工作台以及用于控制清洗作业和/或灌装作业运行的控制装置；所述清洗工作台、所述灌装工作台和所述控制装置设置于所述载台上。

可选的，所述载台包括用于储存清洗废液的储水箱和设置于所述载台上的万向轮，所述储水箱上设置有排水口。

可选的，还包括设置于所述载台上的第一导轨和第二导轨；所述清洗工作台设置于所述第一导轨上，所述灌装工作台设置于所述第二导轨上。

可选的，所述清洗工作台包括用于移动所述清洗工作台的驱动组件。

可选的，所述清洗工作台包括水管组件。

可选的，所述水管组件包括水管和连接所述水管的喷嘴，所述水管上设置有用于控制所述喷嘴喷水状态的阀门。

可选的，所述灌装工作台包括灌装箱和用于移动所述灌装箱的驱动组件。

可选的，所述灌装箱至少一侧透明。

可选的，所述灌装箱的底部呈V形。

可选的，所述V型结构的下面设置有灌装箱出口。

可选的，还包括用于固定所述去离子水箱的水箱架。

可选的，所述水箱架包括用于调整所述水箱架高度的升降装置和用于旋转所述水箱架的旋转装置。

可选的，所述水箱架分为多组，每组包括不止一个水箱架。

本实用新型提供的清洗和灌装去离子水箱装置具有以下有益效果：首先，由专门的设备代替人工作业，减轻了人的体力劳动，同时也提高了作业效率；另外，由于本设备设置的储水箱可以储存清洗后的废水，所以使整个作业过程更加清洁；进一步，本装置上的万向轮方便了整个装置的移动；更进一步，由于本装置设有多组水箱架，所以可以储存多个去离子水箱，在一定程度上为去离子水箱提供了一种储存方法。

附图说明

图1是本实用新型清洗和灌装去离子水箱装置的示意图；

图2和图3分别是本实用新型清洗和灌装去离子水箱装置的主视图和俯视图；

图4是本实用新型清洗清洗工作台的示意图；

图5是本实用新型载台的示意图；

图6是本实用新型清洗工作台安装到载台的示意图；

图7是本实用新型水箱架的爆炸图；

图8是本实用新型水箱架的装配图；

图9是本实用新型灌装工作台的示意图

图10是本实用新型灌装工作台上升和下降的示意图；

图11、图12、图13分别是本实用新型清洗和灌装去离子水箱装置在翻转水箱架时，上升、翻转、下降的示意图；

图14是本实用新型清洗和灌装去离子水箱装置在一个灌装工位的示意图；

图15是本实用新型清洗和灌装去离子水箱装置在清洗作业和灌装作业的细节图。

图中：

100-储水箱；110-导轨；120-支撑架；130-排水口；140-万向轮；

200-水箱架；210-水箱架导轨；220-水箱架丝杆；230-盖板；240-去离子水箱；241-去离子水箱口；

300-清洗工作台；311-喷水口；312-阀门；313-进水口；320-丝杆；

400-灌装箱；411-灌装箱出口；412-灌装箱箱底；420-灌装箱丝杆；421-升降臂；

500-控制装置；

600-旋转马达。

具体实施方式

本实用新型的核心思想在于提供一种自动清洗和灌装去离子水箱的装置；此外，还对去离子水箱240的运输和储存提供了一种参考方案。去离子水箱240可以集中储存在本实用新型提供的装置中，本装置可以在一个一个控制装置500的控制下对去离子水箱240实施自动清洗和灌装作业，由此，解决人工清洗和灌装效率低、费体力等问题。

以下结合附图和具体实施例对本实用新型提出的一种清洗和灌装去离子水箱装置作进一步详细说明。根据下面说明和权利要求书，本实用新型的优点和特征将更清楚。需说明的是，附图均采用非常简化的形式且均使用非精准的比例，仅用以方便、明晰地辅助说明本实用新型实施例的目的。

参阅图1，其示出的分别是本实用新型清洗和灌装去离子水箱装置的示意图；图2和图3分别是本实用新型清洗和灌装去离子水箱装置的主视图和俯视图。

本实用新型提供的清洗和灌装去离子水箱装置主要有五部分构成：载台、水箱架200、清洗工作台300、灌装工作台、控制装置500。

参阅图4，其示出的是清洗工作台300的示意图。在清洗工作台300上布置有水管装置，其中包括一个进水口313、三个阀门312以及三个喷水口311。清洗工作台300上设置了驱动装置，驱动装置包括丝杆320和旋转马达600。在工作过程中，由控制装置500控制旋转马达600旋转，带动丝杆320旋转，丝杆320带动清洗工作台300沿丝杆320的纵向移动，直至移动到要求的位置。清洗用水通过外接水源提供，进水口313连接水源，水从进水口313流入，控制装置500控制阀门313的闭合，从而控制喷水口311的喷水状态。在清洗工作时候会将水以一定的压力喷入一个去离子水箱口241，去离子水箱240内的排出物会从另一个去离子水箱口241流出。

在本实施例中的驱动装置还可以由直线电机来代替。具体的，把清洗工作台300固定在直线电机上，直接由自动控制系统500控制直线电机来实现清洗工作台300的移动。

参阅图5，其示出的是载台的示意图。载台包括一个储水箱100，储水箱100用于临时储存去离子水箱240内的排出物，排出物主要是树脂、水和乙二醇的混合废物。储水箱100底部安装四个万向轮140，用于运输整个装置。储水箱100的一侧安装一个排水口130，用于排放储存于储水箱100内的所述排出物。在储水箱100上方设置有带有导轨110的横梁，横梁的一端伸出储水箱100，延伸到储水箱100外部。灌装箱400在闲置或者需要添加树脂的时候，可以停留在横梁的延伸处。

在载台上还设置有导轨110，导轨110分为第一导轨和第二导轨，第一导轨用于清洗工作台的横向移动，第二导轨用于灌装工作台的横向移动。在横梁的上方还设置有用于承载水箱架200的支撑架120。

参阅图6，其示出的是把清洗工作台300安装到储水箱100内的装配示意图。清洗工作台300安装在第一导轨上，并可以沿第一导轨方向移动。

参阅图7和图8，其示出的分别是水箱架200的爆炸图和装配图。本实施例提供的水箱架200三个成一组，每组水箱架200上均设置了升降装置和旋转装置，升降装置包括设置在水箱架200两侧的滑块、水箱架丝杆220以及水箱架导轨210；水箱架丝杆220和水箱架导轨210固定在支撑架120上，滑块固定在水箱架200上。水箱架丝杆220可以连接一个马达来带动水箱架丝杆220旋转，从而控制水箱架200的上升和下降。旋转装置由一个旋转马达600驱动，在滑块上设置一个旋转马达600，用于控制水箱架200的旋转。在本实施例中，在去离子水箱240上有两个去离子水箱口241。把去离子水箱240装到水箱架200中后，用一个盖板230将去离子水箱240固定在水箱架200中，安装盖板230的目的是防止去离子水箱在旋转的过程中脱离水箱架200。当然，盖板230也可以由其他形式来代替，只要能将去离子水箱240固定住并不影响清洗和灌装即可。

参阅图9，其示出的是灌装工作台的结构示意图；参阅图10，其示出的是灌装工作台的灌装箱400在上升和下降时的示意图。灌装箱400的底部安装有三个灌装箱出口411，分别对应每一组去离子水箱架200上的三个去离子水箱240，优选的，在每个灌装箱出口411上分别设置一个控制阀，以控制灌装箱出口411的流量和流速，具体形式可以参考清洗工作台300上的水管结构。灌装箱400的底部，即灌装箱箱底412呈V型结构，以方便树脂向下落入喷头。

优先的，灌装箱400的至少一个侧面材料可以是玻璃材质或者其他透明材质，以方便观察灌装箱400内树脂的余量。

优选的，灌装箱400可以设置过滤装置，用于过滤树脂中的杂质。

在灌装箱400一侧安装有气管，用来将压缩空气通入树脂箱搅动树脂，并使树脂以一定流速喷入需要灌装的去离子水箱240。上方的盖板设计有若干开口，同时开口处铺以滤网，用来将多余的压缩空气排出同时防止树脂排出。

灌装工作台上设置有驱动装置，灌装工作台上的驱动装置包括升降臂421、灌装箱丝杆420和旋转马达600，灌装箱400可以根据旋转马达600的旋转沿灌装箱丝杆420上升或下降。在升降臂421的下方，还设置另外一个旋转马达600，其作用是控制整个灌装箱400沿第二导轨的方向移动。

参阅图11～图13，其示出的分别是清洗和灌装去离子水箱装置在翻转水箱架200时，上升、翻转、下降的示意图。当去离子水箱240在完成清洗作业后，需要翻转去离子水箱240以使去离子水箱口241朝上，为灌装作业做准备。在需要清洗作业时，可以按照同样的方法翻转去离子水箱240使去离子水箱口241朝下。水箱架200先上升到一定的高度再旋转，其目的是为旋转提高足够的旋转空间。

本实施例中还包括一个控制装置500，自动控制系统500主要由行程开关、旋转马达和控制电脑组成。在本实施例的装置中，各工作位置均安装有行程开关，当运动部件运动到相应位置时，行程开关发出弱电信号给控制电脑，控制电脑分析信号之后反馈给相应的旋转马达600，决定运动部件开始运动或是停止运动。

参阅图14～图15，其示出的是本实施例清洗和灌装去离子水箱装置在工作过程中的示意图。

清洗工作台300和灌装箱在控制装置500的控制下移动到清洗工位和灌装工位后，便可以实施清洗作业和灌装作业。在本实施例中，设置了5组水箱架200，每组可以装3个去离子水箱240；在具体实施过程中，可以根据不同的需求适当更改组数以及每组可安装的去离子水箱240的数量，相应的，喷水口311和灌装箱出口411的数量也随之变化。

在工作过程中，可以一次性对所有去离子水箱240进行清洗作业完，然后再旋转水箱架200，最后对所有去离子水箱240进行灌装作业。为了提高工作效率，也可以一边清洗，一边灌装。如图15所示，所示局部放大A为灌装作业是的局部放大的细节，在灌装作业时控制装置500调整灌装箱出口411对准去离子水箱口241，将树脂喷入去离子水箱240中。所示局部放大B为清洗作业是的局部放大的细节，在清洗作业时控制装置500调整清洗工作台的位置，使喷水口311对准去离子水箱口241，将去离子水箱的杂物喷洗干净。储水箱400内的水达到一定量时，打开排水口130，将废水排出。

在清洗作业和灌装作业都完毕后，灌装箱400移动到横梁的延伸处(如图1所示)。灌装好的去离子水箱240还可以继续储存在本装置中，通过万向轮移动到指定的位置，以待使用。

本实施例提供的清洗和灌装去离子水箱装置具有以下有益效果：首先是清洗和灌装的自动化，不仅提高了清洗和灌装的效率，还省去了大量劳动力；另一方面，由于灌装箱400的灌装箱出口对准去离子水箱口241进行灌装，所以避免了树脂洒落的现象，实现了作业的清洁；进一步，本装置还为去离子水箱提供了储存和运输的功能，方便拿取和使用。

上述描述仅是对本实用新型较佳实施例的描述，并非对本实用新型范围的任何限定，本技术领域的普通技术人员根据上述揭示内容做的任何变更、修饰，均属于权利要求书的保护范围。

Claims (13)

1.清洗和灌装去离子水箱装置，其特征在于，包括：用于承载所述去离子水箱的载台、用于清洗所述去离子水箱的清洗工作台、用于灌装所述去离子水箱的灌装工作台以及用于控制清洗作业和/或灌装作业运行的控制装置；

所述清洗工作台、所述灌装工作台和所述控制装置设置于所述载台上。

2.如权利要求1所述的清洗和灌装去离子水箱装置，其特征在于，所述载台包括用于储存清洗废液的储水箱和设置于所述载台上的万向轮，所述储水箱上设置有排水口。

3.如权利要求1所述的清洗和灌装去离子水箱装置，其特征在于，还包括设置于所述载台上的第一导轨和第二导轨；所述清洗工作台设置于所述第一导轨上，所述灌装工作台设置于所述第二导轨上。

4.如权利要求1所述的清洗和灌装去离子水箱装置，其特征在于，所述清洗工作台包括用于移动所述清洗工作台的驱动组件。

5.如权利要求1所述的清洗和灌装去离子水箱装置，其特征在于，所述清洗工作台包括水管组件。

6.如权利要求5所述的清洗和灌装去离子水箱装置，其特征在于，所述水管组件包括水管和连接所述水管的喷嘴，所述水管上设置有用于控制所述喷嘴喷水状态的阀门。

7.如权利要求1所述的清洗和灌装去离子水箱装置，其特征在于，所述灌装工作台包括灌装箱和用于移动所述灌装箱的驱动组件。

8.如权利要求7所述的清洗和灌装去离子水箱装置，其特征在于，所述灌装箱至少一侧透明。

9.如权利要求7所述的清洗和灌装去离子水箱装置，其特征在于，所述灌装箱的底部呈V形。

10.如权利要求9所述的清洗和灌装去离子水箱装置，其特征在于，所述V型结构的下面设置有灌装箱出口。

11.如权利要求1所述的清洗和灌装去离子水箱装置，其特征在于，还包括用于固定所述去离子水箱的水箱架。

12.如权利要求11所述的清洗和灌装去离子水箱装置，其特征在于，所述水箱架包括用于调整所述水箱架高度的升降装置和用于旋转所述水箱架的旋转装置。

13.如权利要求11所述的清洗和灌装去离子水箱装置，其特征在于，所述水箱架分为多组，每组包括不止一个水箱架。