CN206007581U - 一种脚踝偏摆按摩机芯 - Google Patents

Abstract

本实用新型提供了一种脚踝偏摆按摩机芯，包括：足底支撑机构、足底按摩机构、传动机构以及偏摆机构；偏摆机构包括随传动机构沿着水平方向转动的转动件，以及与足底支撑机构保持相对静止的静止件；转动件和静止件顶抵配合，并且转动件和静止件的顶抵配合面在水平方向上具有高度变化的结构；当转动件转动时，静止件在转动方向上保持静止；转动件和静止件之间的顶抵作用力，使得静止件和足底支撑机构在沿着水平面偏摆；足底按摩机构随传动机构沿着水平方向转动，足底支撑机构具有一让位孔，足底按摩机构的按摩头穿过该让位孔并外露于足底支撑机构的表面。上述的脚踝偏摆按摩机芯，其实现对脚心转动按摩的同时，也实现了对脚踝的偏摆按摩。

Description

一种脚踝偏摆按摩机芯

技术领域

本实用新型涉及一种按摩机芯，尤其涉及一种脚部按摩机芯。

背景技术

目前市面上存在着非常多种类的按摩器械，其通过对人体的不同部位进行揉捏、敲打、行走等方式进行放松和按摩。众所周知，脚部作为人体血液循环的末端和每天活动量最大的部位，其疲劳程度远远大于人体的其余部位。现有技术中，对足底按摩做了大量的相关研究，主要采用揉捏的方式对足底进行按摩放松。而对于脚踝则没有引起相应的重视，现有技术中，对于脚踝的按摩也以揉捏居多。但是由于脚踝与脚底运动方式和受力方式均有很大的不同，揉捏按摩对于脚踝并没有很好的放松效果。

实用新型内容

本实用新型所要解决的主要技术问题是提供一种按摩机芯，其实现对脚心转动按摩的同时，也实现了对脚踝的3D偏摆按摩。

为了解决上述的技术问题，本实用新型提供了一种脚踝偏摆按摩机芯，包括：足底支撑机构、足底按摩机构、传动机构以及偏摆机构；

所述偏摆机构包括随传动机构沿着水平方向转动的转动件，以及与所述足底支撑机构保持相对静止的静止件；所述转动件和静止件顶抵配合，并且所述转动件和静止件的顶抵配合面在水平方向上具有高度变化的结构；当所述转动件转动时，所述静止件在转动方向上保持静止；所述转动件和静止件之间的顶 抵作用力，使得所述静止件和足底支撑机构在沿着水平面偏摆；

所述足底按摩机构随传动机构沿着水平方向转动，足底支撑机构具有一让位孔，所述足底按摩机构的按摩头穿过该让位孔并外露于足底支撑机构的表面。

在一较佳实施例中：所述静止件为沿着所述让位孔的内壁下凹形成的空心凸块，所述凸块内形成容置所述足底按摩机构的容置腔，所述凸块的底部为水平面。

在一较佳实施例中：所述转动件具有一高度连续变化的斜面；所述斜面与凸块底部的水平面相顶抵。

在一较佳实施例中：所述斜面的倾斜角度为10°；所述凸块的侧壁底端向外延伸一定位块，所述脚踝偏摆按摩机芯还包括一设置在转动件外的水平限位块，其与所述转动件的底部平齐。

在一较佳实施例中：所述传动机构包括一转轴以及齿轮组；所述齿轮组受电机的输出转轴驱动，带动所述转轴绕其轴线转动。

在一较佳实施例中：所述转动件沿着其轴向方向具有一贯穿孔，所述凸块底部具有一通孔；所述转轴通过该贯穿孔和通孔与转动件和足底按摩机构转动连接，形成同轴转动配合。

在一较佳实施例中：所述贯穿孔的直径大于所述转轴的直径；所述贯穿孔的内壁向所述转轴的方向延伸一圆弧台，所述转轴上设有与所述圆弧台端面顶抵配合的传动件。

在一较佳实施例中：所述足底支撑机构、足底按摩机构、传动机构以及偏摆机构为两组，且呈左右对称设置。

在一较佳实施例中：所述传动件为与转轴轴线垂直的插销；其中一个转轴上的插销两端均外凸于转轴表面；另一个转轴上的插销一端外凸于转轴表面； 所述圆弧台的圆心角为180°。

在一较佳实施例中：足底支撑机构包括一踏板和气囊，所述气囊的两侧分别与踏板的左右两侧连接，在所述气囊和踏板之间形成脚部容置空间。

相较于现有技术，本实用新型的技术方案具备以下有益效果：

1.本实用新型提供的一种脚踝偏摆按摩机芯，通过设置转动件和静止件，利用转动件和静止件之间的相对转动，从而使得转动件与静止件之间产生顶抵作用力；由于转动件和静止件之间的顶抵面具有高度变化的结构，因此，当转动件相对于静止件转动时，由于顶抵作用力的作用，静止件在水平面上发生了上下偏摆。由于静止件和足底支撑机构是相对静止的，因此足底支撑机构也在水平面上发生了上下偏摆，从而对脚踝形成了3D偏摆按摩的效果。

2.本实用新型提供的一种脚踝偏摆按摩机芯，还具有一沿着水平方向转动的足底按摩机构，并且该足底按摩机构的按摩头穿过足底支撑机构并暴露于足底支撑机构的表面。因此当足底支撑机构沿着水平面上下偏摆时，足底按摩机构同时对脚心形成了转动按摩。

3.本实用新型提供的一种脚踝偏摆按摩机芯，转动件和静止件之间的顶抵面为倾斜度为10°的斜面，使得足底支撑机构的偏摆角度也为10°，对脚踝的按摩效果最好。

4.本实用新型提供的一种脚踝偏摆按摩机芯，传动机构设置了与转动件顶抵配合的插销，当该插销两端均外凸于转轴表面时，无论转轴正转或反转，转轴转动后插销的外凸端立即与转动件发生顶抵作用力，使得转动件随之转动。而当该插销只有一端外凸于转轴表面时，当转轴反转时，该转轴具有一空转行程，空转180°后插销的外凸端才与转动件顶抵配合，该转动件才随之转动。而当转轴正转时，转轴转动后插销的外凸端立即与转动件发生顶抵作用力，使得 转动件随之转动。因此，当设置了两组足底支撑机构时，分别使用如上两种插销的设计，可以使得两组足底支撑机构在转轴正转时，形成同步偏摆按摩，转轴反转时形成异步偏摆按摩。

附图说明

图1为本实用新型优选实施例中脚踝偏摆按摩机芯的组装立体图；

图2为本实用新型优选实施例中脚踝偏摆按摩机芯的结构爆炸图；

图3为本实用新型优选实施例中脚踝偏摆按摩机芯的剖视图；

图4为本实用新型优选实施例中传动机构和转动件的组装示意图；

图5为图4的A-A方向剖面图；

图6为本实用新型优选实施例的整机装配图。

具体实施方式

以下结合附图及实施例对本实用新型进行进一步的详细说明。

参考图1-6中脚踝偏摆按摩机芯，包括左右对称设置的两组足底支撑机构1、足底按摩机构2、传动机构3以及偏摆机构4；

所述偏摆机构4包括随传动机构3沿着水平方向转动的转动件41，以及与所述足底支撑机构1保持相对静止的静止件；所述转动件41和静止件顶抵配合，并且所述转动件41和静止件的顶抵配合面在水平方向上具有高度变化的结构；当所述转动件41转动时，所述静止件在转动方向上保持静止；因此，当转动件41相对于静止件转动时，由于顶抵作用力的作用，静止件在水平面上发生了上下偏摆。由于静止件和足底支撑机构1是相对静止的，因此足底支撑机构1也在水平面上发生了上下偏摆，从而对脚踝形成了3D偏摆按摩的效果。

所述足底按摩机构2随传动机构3沿着水平方向转动，足底支撑机构1具有一让位孔11，所述足底按摩机构2的按摩头21穿过该让位孔11并外露于足底支撑机构1的表面。因此当足底支撑机构1沿着水平面上下偏摆时，足底按摩机构2同时对脚心形成了转动按摩，实现了脚踝的3D偏摆按摩和脚底的定点转动按摩。

进一步参考图3，本实施例的具体结构如下：所述静止件为沿着所述让位孔11的内壁下凹形成的空心凸块12，所述凸块12内形成容置所述足底按摩机构1的容置腔，所述凸块12的底部为水平面。

所述转动件41具有一高度连续变化的斜面42；所述斜面42与凸块12底部的水平面相顶抵。从而形成了所述在水平方向上高度变化的顶抵配合面。为了增加脚踝偏摆按摩的效果和舒适性，所述斜面42的倾斜角度为10°；所述凸块12的侧壁底端向外延伸一定位块121，所述脚踝偏摆按摩机芯还包括一设置在转动件41外的水平限位块5，其与所述转动件41的底部平齐。该水平限位块5限制了所述静止件的偏摆下限，当静止件偏摆至定位孔121与水平限位块5顶抵时，静止件无法继续沿着水平面向下偏摆，从而将偏摆角度限制在10°，增加了偏摆按摩的舒适性，也保证了偏摆按摩的效果。

所述传动机构3包括一转轴31以及齿轮组32；所述齿轮组32受电机33的输出转轴驱动，带动所述转轴31绕其轴线转动。

所述转动件41沿着其轴向方向具有一贯穿孔411，所述凸块12底部具有一通孔122；所述转轴31通过该贯穿孔411和通孔122与转动件41和足底按摩机构2转动连接，形成同轴转动配合。

进一步参考图4-5，所述贯穿孔411的直径大于所述转轴31的直径；所述贯穿孔411的内壁向所述转轴31的方向延伸一圆弧台412，所述转轴31上设有 与所述圆弧台412端面顶抵配合的传动件。当转轴31转动时，所述传动件与圆弧台412的端面顶抵配合，从而使得转轴31与转动件41形成连动配合关系。

所述传动件为与转轴31轴线垂直的插销34；其中一个转轴31上的插销34两端均外凸于转轴31表面；另一个转轴31上的插销34一端外凸于转轴表面；所述圆弧台412的圆心角为180°。所述转轴31位于初始位置时，其中一个插销34的两端均与所述圆弧台412的两端面顶抵，因此，无论转轴31正转或反转，转轴31转动后插销34的外凸端立即与转动件41发生顶抵作用力，使得转动件41随之转动。

而另一个插销34只有一端外凸于转轴31表面，当转轴31反转时，该转轴具有一180°的空转行程，空转180°后，所述插销34的外凸端与转动件41产生顶抵配合力，该转动件41随之转动。而当转轴31正转时，转轴31转动后插销34的外凸端立即与转动件41发生顶抵作用力，使得转动件41随之转动。因此，当设置了两组足底支撑机构1时，两组足底支撑机构1在转轴正转时，形成同步偏摆按摩，转轴反转时形成异步偏摆按摩。

参考图6，足底支撑机构1包括一踏板13和气囊14，所述气囊14的两侧分别与踏板13的左右两侧连接，在所述气囊14和踏板13之间形成脚部容置空间。所述让位孔11设置于所述踏板13的表面。

以上所述，仅为本实用新型较佳的具体实施方式，但本实用新型的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内，可轻易想到的变化或替换，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。因此，本实用新型的保护范围应该以权利要求的保护范围为准。

Claims (10)

1.一种脚踝偏摆按摩机芯，其特征在于包括：足底支撑机构、足底按摩机构、传动机构以及偏摆机构；

所述偏摆机构包括随传动机构沿着水平方向转动的转动件，以及与所述足底支撑机构保持相对静止的静止件；所述转动件和静止件顶抵配合，并且所述转动件和静止件的顶抵配合面在水平方向上具有高度变化的结构；当所述转动件转动时，所述静止件在转动方向上保持静止；所述转动件和静止件之间的顶抵作用力，使得所述静止件和足底支撑机构在沿着水平面偏摆；

所述足底按摩机构随传动机构沿着水平方向转动，足底支撑机构具有一让位孔，所述足底按摩机构的按摩头穿过该让位孔并外露于足底支撑机构的表面。

2.根据权利要求1所述的一种脚踝偏摆按摩机芯，其特征在于：所述静止件为沿着所述让位孔的内壁下凹形成的空心凸块，所述凸块内形成容置所述足底按摩机构的容置腔，所述凸块的底部为水平面。

3.根据权利要求2所述的一种脚踝偏摆按摩机芯，其特征在于：所述转动件具有一高度连续变化的斜面；所述斜面与凸块底部的水平面相顶抵。

4.根据权利要求3所述的一种脚踝偏摆按摩机芯，其特征在于：所述斜面的倾斜角度为10°；所述凸块的侧壁底端向外延伸一定位块，所述脚踝偏摆按摩机芯还包括一设置在转动件外的水平限位块，其与所述转动件的底部平齐。

5.根据权利要求2所述的一种脚踝偏摆按摩机芯，其特征在于：所述传动机构包括一转轴以及齿轮组；所述齿轮组受电机的输出转轴驱动，带动所述转轴绕其轴线转动。

6.根据权利要求5所述的一种脚踝偏摆按摩机芯，其特征在于：所述转动件沿着其轴向方向具有一贯穿孔，所述凸块底部具有一通孔；所述转轴通过该贯穿孔和通孔与转动件和足底按摩机构转动连接，形成同轴转动配合。

7.根据权利要求6所述的一种脚踝偏摆按摩机芯，其特征在于：所述贯穿孔的直径大于所述转轴的直径；所述贯穿孔的内壁向所述转轴的方向延伸一圆弧台，所述转轴上设有与所述圆弧台端面顶抵配合的传动件。

8.根据权利要求7所述的一种脚踝偏摆按摩机芯，其特征在于：所述足底支撑机构、足底按摩机构、传动机构以及偏摆机构为两组，且呈左右对称设置。

9.根据权利要求8所述的一种脚踝偏摆按摩机芯，其特征在于：所述传动件为与转轴轴线垂直的插销；其中一个转轴上的插销两端均外凸于转轴表面；另一个转轴上的插销一端外凸于转轴表面；所述圆弧台的圆心角为180°。

10.根据权利要求1-9中任一项所述的一种脚踝偏摆按摩机芯，其特征在于：足底支撑机构包括一踏板和气囊，所述气囊的两侧分别与踏板的左右两侧连接，在所述气囊和踏板之间形成脚部容置空间。