CN205990344U - 一种单银Low-E玻璃 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种单银Low‑E玻璃，包括依次设置的玻璃基层、第一保护层、第一介质层、功能层、第二介质层、第二保护层，第一保护层、第二保护层均选自氧化钛层、氧化铌层、氧化锆层、氧化硅层、氮化硅层、氮化锆层、氮化铌层中的一种，所述第一介质层、所述第二介质层均选自氧化锡层、氧化锌层、氧化锌锡层、AZO层中的一种。本实用新型通过在第一介质层和第二介质层外均设置有保护层，该保护层可延缓内部功能层受氧化而失效，另外，通过将功能层设置成稀土掺杂金属复合材料层，从而进一步延缓功能层的失效和变色，从而保证单银Low‑E玻璃的使用寿命。

Description

一种单银Low-E玻璃

技术领域

本实用新型涉及低辐射镀膜玻璃领域，特别涉及一种单银Low-E玻璃。

背景技术

我国是能耗大国，能源消耗世界第一，其中建筑能耗占总能耗的30％左右，特别是玻璃部分的能耗就占了建筑能耗的50％以上，这意味着要从改变玻璃的性能来减少热能的损失，最有效的方法是抑制其内表面的辐射。普通浮法玻璃的辐射率高达0.84，当镀上一层以银为基础的低辐射薄膜后，其辐射率可降至0.15以下。因此，用Low-E玻璃制造建筑物门窗，可大大降低因辐射而造成的室内热能向室外的传递，达到理想的节能效果。

现有的Low-E低辐射玻璃具有较低的面电阻主要是由于具有导电性能优良的银层，所以纯银层是Low-E薄膜的核心功能层。但由于现有Low-E薄膜的纯银层存在被氧化而导致Low-E中空失效、变色的缺陷，另外，虽然增加银层厚度可以降低膜层的面电阻从而提升隔热性能，但银层的厚度增加是有限度的，银层太厚会降低低辐射玻璃的可见光透过率，消弱玻璃透光的作用。因此，如何保证Low-E低辐射玻璃可见光透光性的基础上达到好的节能效果是目前Low-E低辐射玻璃应用遇到的主要问题。

实用新型内容

本实用新型要解决的技术问题是提供一种单银Low-E玻璃，该单银Low-E玻璃具有防止功能层被氧化而失效、变色的优点。

为了解决上述技术问题，本实用新型的技术方案为一种单银Low-E玻璃，包括依次设置的玻璃基层、第一保护层、第一介质层、功能层、第二介质层、第二保护层，第一保护层、第二保护层均选自氧化钛层、氧化铌层、氧化锆层、氧化硅层、氮化硅层、氮化锆层、氮化铌层中的一种，而第一介质层、第二介质层均选自氧化锡层、氧化锌层、氧化锌锡层、AZO层中的一种。

进一步，功能层为稀土掺杂金属复合材料层，功能层的厚度为7～15nm。

进一步，第一保护层、第二保护层的厚度为5～50nm。

进一步，第一介质层、第二介质层的厚度为10～50nm。

进一步，玻璃基层的厚度2～15mm，选自普通浮法玻璃、超白浮法玻璃、有色玻璃中的一种，优选4～8mm的超白浮法玻璃，进一步优选5～6mm的超白浮法玻璃。

采用上述技术方案，由于在第一介质层和第二介质层外均设置有保护层，该保护层可延缓内部功能层受氧化而失效，另外，通过将功能层设置成稀土掺杂金属复合材料层，从而进一步延缓功能层的失效和变色，从而保证单银Low-E玻璃的使用寿命。

附图说明

图1为一种单银Low-E玻璃的结构示意图。

图中，1-玻璃基层，2-第一保护层，3-第一介质层，4-功能层，5-第二介质层，6-第二保护层。

具体实施方式

下面结合附图对本实用新型的具体实施方式作进一步说明。在此需要说明的是，对于这些实施方式的说明用于帮助理解本实用新型，但并不构成对本实用新型的限定。此外，下面所描述的本实用新型各个实施方式中所涉及的技术特征只要彼此之间未构成冲突就可以相互组合。

一种单银Low-E玻璃，包括依次设置的玻璃基层1、第一保护层2、第一介质层3、功能层4、第二介质层5、第二保护层6，第一保护层2、第二保护层6均选自氧化钛层、氧化铌层、氧化锆层、氧化硅层、氮化硅层、氮化锆层、氮化铌层中的一种，而第一介质层3、第二介质层5均选自氧化锡层、氧化锌层、氧化锌锡层、AZO层中的一种。其中，功能层4为稀土掺杂金属复合材料层，其中金属选自金、银、银铜合金、铜中的一种，而稀土则选自钇、镧、钐、铈、钆、钕、铒、钪中的一种，稀土的添加比例为金属与稀土混合后的0.001％～2％。由于稀土中所包括的不同元素在本发明中的作用相似，本发明的实施例将以银铜合金中添加钇作为功能层进行说明，银铜合金：钇＝99:1，而银铜合金中银：铜＝90:9，另外由于本发明中的玻璃基层1虽然包括普通浮法玻璃、超白浮法玻璃、有色玻璃，并且厚度也不同，但不同玻璃基层及厚度的选择对本发明所述的作用、效果没有直接影响，实施例中仅以10mm的超白浮法玻璃进行说明。

一种单银Low-E玻璃，其制备方法包括下述步骤：

1)玻璃基层经纯净水清洗烘干后送入真空镀膜室；

2)第一保护层溅射：中频反应溅射硅铝靶，设定功率70KW，氩气和氮气混合气氛溅射，Ar：N₂＝5:1，气压5×10^-4mbar；

3)第一介质层溅射：中频反应溅射氧化锌靶，设定功率40KW，氩气和氧气混合气氛溅 射，Ar：O₂＝10:1，气压5×10^-4mbar；

4)功能层溅射：直流电源磁控溅射平面银铜参钇靶，设定功率8KW，电流12A，纯氩气溅射，气压5×10^-4mbar，走速3m/min；

5)第二介质层溅射：中频反应溅射氧化锌靶，设定功率40KW，氩气和氧气混合气氛溅射，Ar：O₂＝5:1，气压5×10^-4mbar；

6)第二保护层溅射：中频反应溅射硅铝靶，设定功率80KW，氩气和氮气混合气氛溅射，Ar：N₂＝5:1，气压5×10^-4mbar；

实施例1

一种单银Low-E玻璃，其层次结构依次为超白浮法玻璃/SiN层/ZnO层/AgCu:Y层/ZnSnO层/SiN层，其中，SiN层(前)厚度为20nm，ZnO层厚度为15nm，AgCu:Y层厚度为12nm，ZnSnO层厚度为25nm，SiN层(后)厚度为35nm。

实施例2

一种单银Low-E玻璃，其层次结构依次为超白浮法玻璃/SiN层/ZnO层/AgCu:Y层/SnO₂层/SiN层，其中，SiN层(前)厚度为5nm，ZnO层厚度为15nm，AgCu:Y层厚度为2nm，SnO₂层厚度为25nm，SiN层(后)厚度为35nm。

实施例3

一种单银Low-E玻璃，其层次结构依次为超白浮法玻璃/SiN层/ZnO层/AgCu:Y层/ZnO层/SiN层，其中，SiN层(前)厚度为20nm，ZnO层厚度为15nm，AgCu:Y层厚度为7nm，ZnO层厚度为10nm，SiN层(后)厚度为50nm。

实施例4

一种单银Low-E玻璃，其层次结构依次为超白浮法玻璃/SiN层/ZnO层/AgCu:Y层/ZnSnO层/SiN层，其中，SiN层(前)厚度为50nm，ZnO层厚度为15nm，AgCu:Y层厚度为12nm，ZnSnO层厚度为10nm，SiN层(后)厚度为35nm。

实施例5

一种单银Low-E玻璃，其层次结构依次为超白浮法玻璃/NbN层/AZO层/AgCu:Y层/ZnSnO层/TiO₂层，其中，NbN层厚度为20nm，AZO层厚度为10nm，AgCu:Y层厚度为12nm，ZnSnO层厚度为50nm，TiO₂层厚度为5nm。

实施例6

一种单银Low-E玻璃，其层次结构依次为超白浮法玻璃/Nb₂O₅层/ZnO层/AgCu:Y层/AZO层/NbN层，其中，Nb₂O₅层厚度为35nm，ZnO层(前)厚度为50nm，AgCu:Y层厚度为12nm，AZO层(后)厚度为25nm，NbN层厚度为35nm。

实施例7

一种单银Low-E玻璃，其层次结构依次为超白浮法玻璃/SiO2层/ZnSnO层/AgCu:Y层/AZO层/ZrN层，其中，SiO2层厚度为20nm，ZnSnO层厚度为35nm，AgCu:Y层厚度为12nm，AZO层厚度为25nm，ZrN层厚度为35nm。

以上结合附图对本实用新型的实施方式作了详细说明，但本实用新型不限于所描述的实施方式。对于本领域的技术人员而言，在不脱离本实用新型原理和精神的情况下，对这些实施方式进行多种变化、修改、替换和变型，仍落入本实用新型的保护范围内。

Claims (7)

1.一种单银Low-E玻璃，其特征在于：包括依次设置的玻璃基层、第一保护层、第一介质层、功能层、第二介质层、第二保护层，第一保护层、第二保护层均选自氧化钛层、氧化铌层、氧化锆层、氧化硅层、氮化硅层、氮化锆层、氮化铌层中的一种，所述第一介质层、所述第二介质层均选自氧化锡层、氧化锌层、氧化锌锡层、AZO层中的一种。

2.根据权利要求1所述的单银Low-E玻璃，其特征在于：所述功能层为稀土掺杂金属复合材料层，厚度为7～15nm。

3.根据权利要求1所述的单银Low-E玻璃，其特征在于：所述第一保护层、所述第二保护层的厚度均为5～50nm。

4.根据权利要求1所述的单银Low-E玻璃，其特征在于：所述第一介质层、所述第二介质层的厚度均为10～50nm。

5.根据权利要求1所述的单银Low-E玻璃，其特征在于：所述玻璃基层选自普通浮法玻璃、超白浮法玻璃、着色玻璃中的一种，厚度为2～15mm。

6.根据权利要求1所述的单银Low-E玻璃，其特征在于：所述玻璃基层为厚度4～8mm的超白浮法玻璃。

7.根据权利要求1所述的单银Low-E玻璃，其特征在于：所述玻璃基层为厚度5～6mm的超白浮法玻璃。