CN203792810U - 一种低辐射镀膜玻璃 - Google Patents

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王勇
胡冰
刘双
王烁
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Tianjin CSG Architectural Glass Co Ltd
Tianjin CSG Energy Conservation Glass Co Ltd
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Tianjin CSG Architectural Glass Co Ltd
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Abstract

本实用新型提供一种低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基片和镀膜层，镀膜层自内向外依次包括：第一层TiOx、第二层：LaB6-AZO、第三层：Ag、第四层：NiCr、第五层：LaB6-AZO、第六层：Si3N4。本实用新型镀膜玻璃具有以下优点：本镀膜玻璃可见光透过率较高，透过率相对AZO可提高3～4%；在Low-E产品中，作为Ag的打底层与Ag的结合力更好；辐射率低；产品性能稳定，适于大规模生产，光学及热学性能稳定。该玻璃具有良好的外观颜色，膜层不易脱落。可夹层或合中空使用。

Description

一种低辐射镀膜玻璃
技术领域
本实用新型涉及一种镀膜玻璃，更具体的涉及一种低辐射镀膜玻璃。
背景技术
目前，透明介质膜在大面积镀膜玻璃中的应用十分广泛。其中，陶瓷态氧化锌铝（AZO）由于溅射速率快，可使用纯Ar进行溅射，溅射条件易控，可节省隔气靶位且薄膜可见光透过高等优点而得到广泛研究及应用。但是，陶瓷态AZO靶在安装使用一段时间后，表面容易出现结瘤放电现象，严重影响了靶材的使用功率和寿命，同时也会造成镀膜产品存在颜色波动的隐患。AZO膜层作为Ag的打底层容易脱膜。
实用新型内容
本实用新型的目的是针对现有技术的技术缺陷，本实用新型旨在提供一种低辐射镀膜玻璃，为实现以上技术目标，本实用新型采用以下技术方案：一种掺杂硼化镧AZO低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基片和镀膜层，镀膜层自内向外依次包括：第一层TiOx、第二层：LaB6-AZO、第三层：Ag、第四层：NiCr、第五层：LaB6-AZO、第六层：Si3N4，第二层Ag打底层是LaB6-AZO。
进一步，所述的LaB6-AZO层采用真空磁控溅射法直接溅射掺入LaB6的氧化锌铝靶材，其中LaB6掺入量是2.5～10wt%。
一种低辐射镀膜玻璃，第一层TiOx厚度为15～25nm、第二层：LaB6-AZO厚度为20～30nm、第三层：Ag厚度为5～15nm、第四层：NiCr厚度1～5nm、第五层：LaB6-AZO厚度15～25nm、第六层：SiNx厚度20～45nm。
一种低辐射镀膜玻璃的制备方法，包括如下步骤：
（1）使用丙酮、无水乙醇和去离子水依次超声清洗玻璃基片；
（2）烘干；
（3）放入真空腔室内进行抽真空；
（4）达到真空度后充入1200sccm纯Ar气溅射陶瓷氧化钛靶材进行靶表清洁，5min后纯氩溅射进行TiOx薄膜的制备；
（5）达到厚度后关闭该靶，依次纯氩进行靶表清洁和掺杂LaB6的AZO靶、Ag靶、NiCr靶和顶层LaB6的AZO膜层；
（6）用纯Ar进行靶表清洁，然后使用Ar：N2为1:1.6的混合气体溅射制备SiNx膜。
本实用新型玻璃基片厚度包括：4、5、6、8、10、12、15、19mm。玻璃颜色包括：超白玻、白玻、绿玻、灰玻、水晶灰玻、蓝玻、海洋蓝玻、茶色玻璃等。玻璃结构包括：夹层玻璃、彩釉玻璃、钢化玻璃、半钢化玻璃、退火玻璃、防火玻璃、中空玻璃等。
本实用新型镀膜玻璃具有以下优点：
1.本镀膜产品可见光透过率较高，透过率相对AZO可提高3～4%；
2.该膜层表面更加平整，在Low-E产品中，作为Ag的打底层与Ag的结合力更好；
3.该材料膜层的辐射率比未掺杂LaB6的AZO辐射率低；
4.产品性能稳定，适于大规模生产，光学及热学性能稳定。该玻璃具有良好的外观颜色，膜层不易脱落等特点。可夹层或合中空使用。
附图说明
图1掺杂硼化镧AZO低辐射镀膜玻璃结构示意图
图2玻面反射光谱
图3膜面反射光谱
图4透过光谱
具体实施方式
为了阐明本发明的技术方案及技术目的，下面结合附图及具体实施方式对本发明做进一步的介绍。
实施例1
一种低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基片和镀膜层，镀膜层自内向外依次包括：第一层TiOx、第二层：LaB6-AZO、第三层：Ag、第四层：NiCr、第五层：LaB6-AZO、第六层：Si3N4，第二层Ag打底层是LaB6-AZO。
第一层TiOx厚度为20nm、第二层LaB6-AZO厚度为24nm、第三层Ag厚度为6nm、第四层NiCr厚度1.9nm、第五层LaB6-AZO厚度18nm、第六层SiNx厚度30nm。
所述的LaB6-AZO层采用真空磁控溅射法直接溅射掺入LaB6的氧化锌铝靶材，其中LaB6掺入量是5wt%。
实施例2
一种低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基片和镀膜层，镀膜层自内向外依次包括：第一层TiOx、第二层：LaB6-AZO、第三层：Ag、第四层：NiCr、第五层：LaB6-AZO、第六层：Si3N4，第二层Ag打底层是LaB6-AZO。
第一层TiOx厚度为12nm、第二层LaB6-AZO厚度为30nm、第三层Ag厚度为15nm、第四层NiCr厚度3nm、第五层LaB6-AZO厚度25nm、第六层SiNx厚度20nm。
所述的LaB6-AZO层采用真空磁控溅射法直接溅射掺入LaB6的氧化锌铝靶材，其中LaB6掺入量是10wt%。
实施例3
一种低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基片和镀膜层，镀膜层自内向外依次包括：第一层TiOx、第二层：LaB6-AZO、第三层：Ag、第四层：NiCr、第五层：LaB6-AZO、第六层：Si3N4，第二层Ag打底层是LaB6-AZO。
第一层TiOx厚度为25nm、第二层LaB6-AZO厚度为20nm、第三层Ag厚度为10nm、第四层NiCr厚度5nm、第五层LaB6-AZO厚度15nm、第六层SiNx厚度45nm。
所述的LaB6-AZO层采用真空磁控溅射法直接溅射掺入LaB6的氧化锌铝靶材，其中LaB6掺入量是2.5wt%。
实施例4
上述镀膜玻璃的制备过程为：
（1）使用丙酮、无水乙醇和去离子水依次超声清洗玻璃基片；
（2）烘干；
（3）放入真空腔室内进行抽真空；
（4）达到真空度后充入1200sccm纯Ar气溅射陶瓷氧化钛靶材进行靶表清洁，5min后纯氩溅射进行TiOx薄膜的制备；
（5）达到厚度后关闭该靶，依次纯氩进行靶表清洁和掺杂LaB6的AZO靶、Ag靶、NiCr靶和顶层LaB6的AZO膜层；
（6）用纯Ar进行靶表清洁，然后使用Ar：N2为1:1.6的混合气体溅射制备SiNx膜。
实施例5
如附图2-4所示：实施例1的镀膜玻璃的的光谱图。
玻面反射Rg:4.54，玻面亮度L*g:61.04，膜面颜色值a*g:1.83、b*g:-1.86。上述颜色为最优颜色，实际各项可以偏差0.8。
膜面反射Rf:6.34，膜面亮度L*f:30.25，膜面颜色值a*f:1.84、b*f:9.58。上述颜色为最优颜色，实际各项可以偏差0.8。
玻璃透过T:77.29，透过亮度L*t:90.45，颜色坐标a*t:-1.7，b*t:-2.04。上述颜色为最优颜色，实际各项可以偏差0.8。
以上对本发明的实施例进行了详细说明，但所述内容仅为本发明的较佳实施例，并不用以限制本发明。凡在本发明的申请范围内所做的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims (3)

1.一种低辐射镀膜玻璃，其特征在于，包括玻璃基片和镀膜层，镀膜层自内向外依次包括：第一层：TiOx、第二层：LaB6-AZO、第三层：Ag、第四层：NiCr、第五层：LaB6-AZO、第六层：Si3N4。
2.根据权利要求1所述一种低辐射镀膜玻璃，其特征在于：第一层TiOx厚度为15～25nm、第二层：LaB6-AZO厚度为20～30nm、第三层：Ag厚度为5～15nm、第四层：NiCr厚度1～5nm、第五层：LaB6-AZO厚度15～25nm、第六层：SiNx厚度20～45nm。
3.根据权利要求1所述一种低辐射镀膜玻璃，其特征在于，第一层TiOx厚度为20nm、第二层：LaB6-AZO厚度为24nm、第三层：Ag厚度为6nm、第四层：NiCr厚度1.9nm、第五层：LaB6-AZO厚度18nm、第六层：SiNx厚度30nm。
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