CN205874222U - 一种新型膜系的金色low‑e 双银玻璃 - Google Patents

一种新型膜系的金色low‑e 双银玻璃 Download PDF

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周永文
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Abstract

一种新型膜系的金色LOW‑E双银玻璃,包括玻璃基层,所述玻璃基层上依次覆盖有第一介质层、第二介质层、介质阻挡层、第一功能层、第一阻挡层、第一中间折射层、第二中间折射层、第三中间折射层、第二功能层、第二阻挡层和第三介质层。所述第一介质层为Si3N4层,该第一介质层的厚度为10nm~100nm。所述第二介质层为TiO2层,该第二介质层的厚度为5nm~60nm。所述介质阻挡层为AZO层。本实用新型能够采用常规的靶材生产出特殊的金色,大大降低生产成本,减少了生产金色产品需换靶的工作量,方便金色和常规LOW‑E产品之间的在线转换,并且热工性能能满足广大建筑节能送检要求;其具有操作方便、成本低的特点。

Description

一种新型膜系的金色LOW-E 双银玻璃
技术领域
本实用新型涉及一种新型膜系的金色LOW-E双银玻璃。
背景技术
金色镀膜玻璃由于它特殊的产品颜色及其良好的光学性能,越来越受人们的喜爱,近几年的市场需求量也是不断增加,特别是一些象征财政的相关工程。但是,由于某些地区建筑节能指标不断增高,单银的建筑节能指标已经不能满足该地区对送检标准,所以金色LOW-E双银玻璃的研发具有较大的市场。然而,以往传统金色LOW-E的生产必须要使用到不锈钢靶材,只能专门生产一种颜色就专门购买一种靶材,再将靶材装到阴极里面,于是,不仅大大提高了生产成本,而且还占据了一个阴极位,这种现状对于阴极位不多的中小型企业造成了巨大压力。
实用新型内容
本实用新型的目的旨在提供一种操作灵活、生产成本低的新型膜系的金色LOW-E双银玻璃,以克服现有技术中的不足之处。
按此目的设计的一种新型膜系的金色LOW-E双银玻璃,包括玻璃基层,其结构特征是所述玻璃基层上依次覆盖有第一介质层、第二介质层、介质阻挡层、第一功能层、第一阻挡层、第一中间折射层、第二中间折射层、第三中间折射层、第二功能层、第二阻挡层和第三介质层。
进一步,所述第一介质层为Si3N4层,该第一介质层的厚度为10nm~100nm。
进一步,所述第二介质层为TiO2层,该第二介质层的厚度为5nm~60nm。
进一步,所述介质阻挡层为AZO层,该介质阻挡层的厚度为5nm~30nm。
进一步,所述第一功能层为Ag层,该第一功能层的厚度为5nm~15nm。
进一步,所述第一阻挡层为NiCr层,该第一阻挡层的厚度为2nm~10nm。
进一步,所述第一中间折射层为AZO层,该第一中间折射层的厚度为5nm~100nm。
进一步,所述第二中间折射层为TiO2层,该第二中间折射层的厚度为5nm~60nm。
进一步,所述第三中间折射层为AZO层,该第三中间折射层的厚度为5nm~100nm。
进一步,所述第二功能层为Ag层,该第二功能层的厚度为5nm~15nm;所述第二阻挡层为NiCr层,该第二阻挡层的厚度为2nm~10nm;所述第三介质层为Si3N4层,该第三介质层的厚度为10nm~100nm。
本实用新型中的玻璃基层上设置有镀膜层,该镀膜层包括玻璃基层上依次覆盖的第一介质层、第二介质层、介质阻挡层、第一功能层、第一阻挡层、第一中间折射层、第二中间折射层、第三中间折射层、第二功能层、第二阻挡层和第三介质层。其中,第一介质层用于提高膜层的物理性能和抗氧化性能。
本实用新型中的第二介质层用于阻挡玻璃表面的Na+对功能层的破坏、平复银层以及提高玻璃的折射率。
本实用新型中的介质阻挡层用于阻挡玻璃表面的Na+对功能层的破坏、平复银层、提高玻璃的折射率和降低玻璃表面的面电阻。
本实用新型中的第一功能层用于降低辐射率、提高玻璃的光学性能。
本实用新型中的第一阻挡层用于阻挡阳离子和钠离子对银层的破坏。
本实用新型中的第一中间折射层用于提高玻璃的可见光透过率。
本实用新型中的第二中间折射层用于提高AZO的溅射效率、提高玻璃的可见光透过率。
本实用新型中的第三中间折射层用于提高玻璃的可见光透过率。
本实用新型中的第二功能层用于降低辐射率、提高玻璃的光学性能。
本实用新型中的第二阻挡层用于阻挡阳离子和钠离子对银层的破坏。
本实用新型中的第三介质层用于提高膜层的物理性能和抗氧化性能。
综上所述,本实用新型克服了以前技术的不足,不断的优化材料、气体的配比,提供了一种新型膜系,不使用不锈钢材料就能生产出性能优异的双银金色LOW-E双银玻璃产品。
本实用新型能够采用常规的靶材生产出特殊的金色,大大降低生产成本,减少了生产金色产品需换靶的工作量,方便金色和常规LOW-E产品之间的在线转换,并且热工性能能满足广大建筑节能送检要求;其具有操作方便、成本低的特点。
附图说明
图1为本实用新型一实施例的局部剖切示意图。
图中:1为玻璃基层,2为第一介质层,3为第二介质层,4为介质阻挡层,5为第一功能层,6为第一阻挡层,7为第一中间折射层,8为第二中间 折射层,9为第三中间折射层,10为第二功能层,11为第二阻挡层,12为第三介质层。
具体实施方式
下面结合附图及实施例对本实用新型作进一步描述。
参见图1,本新型膜系的金色LOW-E双银玻璃,包括玻璃基层1,所述玻璃基层1上依次覆盖有第一介质层2、第二介质层3、介质阻挡层4、第一功能层5、第一阻挡层6、第一中间折射层7、第二中间折射层8、第三中间折射层9、第二功能层10、第二阻挡层11和第三介质层12。膜系结构为Glass-Si3N4-TiO2-AZO-Ag-NiCr-AZO-TiO2-AZO-Ag-NiCr-Si3N4
在本实施例中,Glass为玻璃基层。玻璃输送速度为3.5m/min。
所述第一介质层2为Si3N4层,该第一介质层2的厚度为10nm~100nm。第一介质层2通过交流中频电源、氮气作反应气体溅射半导体材料SiAl,其密度为96%,其中,SiAl中的Si:Al的质量比为98:2。第一介质层2用于提高膜层的物理性能和抗氧化性能。
在本实施例中,第一介质层2厚度的优选为10nm、15nm、20nm、25nm、30nm、35nm、40nm、45nm、50nm、55nm、60nm、65nm、70nm、75nm、80nm、85nm、90nm、95nm、100nm中的一种。
所述第二介质层3为TiO2层,该第二介质层3的厚度为5nm~60nm。第二介质层3通过交流中频电源溅射陶瓷钛靶后形成。第二介质层3用于阻挡玻璃表面的Na+对功能层的破坏、平复银层以及提高玻璃的折射率。
在本实施例中,第二介质层3厚度的优选为5nm、10nm、15nm、20nm、25nm、30nm、35nm、40nm、45nm、50nm、55nm、60nm中的一种。
所述介质阻挡层4为AZO层,该介质阻挡层4的厚度为5nm~30nm。介质阻挡层4通过交流中频电源溅射陶瓷钛靶形成。介质阻挡层4用于阻挡玻璃表面的Na+对功能层的破坏、平复银层以及提高玻璃的折射率和降低玻璃表面的面电阻。
在本实施例中,介质阻挡层4厚度的优选为5nm、10nm、15nm、20nm、25nm、30nm中的一种。
所述第一功能层5为Ag层,该第一功能层5的厚度为5nm~15nm。第一功能层5通过交流电源溅射形成,用于降低辐射率和提高玻璃的光学性能。
在本实施例中,第一功能层5厚度的优选为5nm、6nm、7nm、8nm、9nm、10nm、11nm、12nm、13nm、14nm、15nm中的一种。
所述第一阻挡层6为NiCr层,该第一阻挡层6的厚度为2nm~10nm。第一阻挡层6通过直流电源溅射形成,用于阻挡阳离子和钠离子对银层的破 坏。
在本实施例中,第一阻挡层6厚度的优选为2nm、3nm、4nm、5nm、6nm、7nm、8nm、9nm、10nm中的一种。
所述第一中间折射层7为AZO层,该第一中间折射层7的厚度为5nm~100nm。第一中间折射层7通过中频交流电源溅射陶瓷靶形成,用于提高玻璃的可见光透过率。
在本实施例中,第一中间折射层7厚度的优选为5nm、10nm、15nm、20nm、25nm、30nm、35nm、40nm、45nm、50nm、55nm、60nm、65nm、70nm、75nm、80nm、85nm、90nm、95nm、100nm中的一种。
所述第二中间折射层8为TiO2层,该第二中间折射层8的厚度为5nm~60nm。第二中间折射层8通过交流中频电源溅射陶瓷钛靶形成,用于提高AZO的溅射效率,提高玻璃的可见光透过率。
在本实施例中,二中间折射层8厚度的优选为5nm、10nm、15nm、20nm、25nm、30nm、35nm、40nm、45nm、50nm、55nm、60nm中的一种。
所述第三中间折射层9为AZO层,该第三中间折射层9的厚度为5nm~100nm。第三中间折射层9通过中频交流电源溅射陶瓷靶形成,用于提高玻璃的可见光透过率。
在本实施例中,第三中间折射层9厚度的优选为5nm、10nm、15nm、20nm、25nm、30nm、35nm、40nm、45nm、50nm、55nm、60nm、65nm、70nm、75nm、80nm、85nm、90nm、95nm、100nm中的一种。
所述第二功能层10为Ag层,该第二功能层10的厚度为5nm~15nm;第二功能层10通过交流电源溅射形成,用于降低辐射率,提高玻璃的光学性能。
在本实施例中,第二功能层10厚度的优选为5nm、6nm、7nm、8nm、9nm、10nm、11nm、12nm、13nm、14nm、15nm中的一种。
所述第二阻挡层11为NiCr层,该第二阻挡层11的厚度为2nm~10nm;第二阻挡层11通过直流电源溅射形成,用于阻挡阳离子和钠离子对银层的破坏。
在本实施例中,第二阻挡层11厚度的优选为2nm、3nm、4nm、5nm、6nm、7nm、8nm、9nm、10nm中的一种。
所述第三介质层12为Si3N4层,该第三介质层12的厚度为10nm~100nm。第三介质层12通过交流中频电源、氮气作反应气体溅射半导体材料SiAl,其密度为96%,其中,SiAl中的Si:Al的质量比为98:2。第三介质层12用于提高膜层的物理性能和抗氧化性能。
在本实施例中,第三介质层12厚度的优选为10nm、15nm、20nm、25nm、 30nm、35nm、40nm、45nm、50nm、55nm、60nm、65nm、70nm、75nm、80nm、85nm、90nm、95nm、100nm中的一种。
用上述工艺参数设计出的玻璃其颜色性能如下表1所示:
表1
颜色性能 参数
玻璃可见光透过率Tvis 49.3
可见光玻璃面反射率Rout 17.8
玻璃面颜色坐标a* 4.3
玻璃面颜色坐标b* 16.2
玻璃面辐射率 0.05
从上述数据可以分析出,采用上述新型工艺方法后,玻璃面颜色a*值为﹢4.3,b*值为﹢16.2,呈现的颜色为金黄色。
用上述玻璃制成中空间隔为12mm的中空玻璃,在UV-3600紫外光分光光度计上测出数据,按照JGJ/T 151-2008标准计算出来6mmLOW-E玻璃+12A+6mm白玻,其光学和热学性能如下表2所示:
表2
性能指标 参数
可见光透过率Tvis 45
可见光玻璃面反射率Rout 17.5
太阳能透过率Tsol 15
太阳能反射率Rout 26
传热系数U 1.69
遮阳系数Sc 0.35
光热比LSG 1.47
从上述数据分析可以得知:该颜色产品光热比LSG在1.47,辐射率为0.05,热学性能达到了双银LOW-E的水品标准,能满足广大建筑节能送检需求。
以上显示和描述了本实用新型的基本原理和主要特征和本实用新型的优点。本行业的技术人员应该了解,本实用新型不受上述实施例的限制,上述实施例和说明书中描述的只是说明本实用新型的原理,在不脱离本实用新型精神和范围的前提下,本实用新型还会有各种变化和改进,这些变化和改进都落入要求保护的本实用新型范围内。本实用新型要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。

Claims (10)

1.一种新型膜系的金色LOW-E双银玻璃,包括玻璃基层(1),其特征是所述玻璃基层(1)上依次覆盖有第一介质层(2)、第二介质层(3)、介质阻挡层(4)、第一功能层(5)、第一阻挡层(6)、第一中间折射层(7)、第二中间折射层(8)、第三中间折射层(9)、第二功能层(10)、第二阻挡层(11)和第三介质层(12)。
2.根据权利要求1所述的新型膜系的金色LOW-E双银玻璃,其特征是所述第一介质层(2)为Si3N4层,该第一介质层(2)的厚度为10nm~100nm。
3.根据权利要求1所述的新型膜系的金色LOW-E双银玻璃,其特征是所述第二介质层(3)为TiO2层,该第二介质层(3)的厚度为5nm~60nm。
4.根据权利要求1所述的新型膜系的金色LOW-E双银玻璃,其特征是所述介质阻挡层(4)为AZO层,该介质阻挡层(4)的厚度为5nm~30nm。
5.根据权利要求1所述的新型膜系的金色LOW-E双银玻璃,其特征是所述第一功能层(5)为Ag层,该第一功能层(5)的厚度为5nm~15nm。
6.根据权利要求1所述的新型膜系的金色LOW-E双银玻璃,其特征是所述第一阻挡层(6)为NiCr层,该第一阻挡层(6)的厚度为2nm~10nm。
7.根据权利要求1所述的新型膜系的金色LOW-E双银玻璃,其特征是所述第一中间折射层(7)为AZO层,该第一中间折射层(7)的厚度为5nm~100nm。
8.根据权利要求1所述的新型膜系的金色LOW-E双银玻璃,其特征是所述第二中间折射层(8)为TiO2层,该第二中间折射层(8)的厚度为5nm~60nm。
9.根据权利要求1所述的新型膜系的金色LOW-E双银玻璃,其特征是所述第三中间折射层(9)为AZO层,该第三中间折射层(9)的厚度为5nm~100nm。
10.根据权利要求1至9任一所述的新型膜系的金色LOW-E双银玻璃,其特征是所述第二功能层(10)为Ag层,该第二功能层(10)的厚度为5nm~15nm;所述第二阻挡层(11)为NiCr层,该第二阻挡层(11)的厚度为2nm~10nm;所述第三介质层(12)为Si3N4层,该第三介质层(12)的厚度为10nm~100nm。
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