CN205871360U - 一种触摸屏盖板及触摸屏盖板膜 - Google Patents
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Abstract
本实用新型提供了一种触摸屏盖板及触摸屏盖板膜。该触摸屏盖板膜，其依次包括一氧化硅薄膜、一氮化锌薄膜和一氮化硅薄膜；其中，氧化硅薄膜的厚度为10～20nm，氮化锌薄膜的厚度为10～50nm。本实用新型的触摸屏盖板膜采用氮化锌薄膜作为黑色膜的功能层，表面反射率较低，生产成本低；表面硬度高，抗刮伤性能和耐磨性较强；表面能较高，能够有效的贴合液晶显示器；厚度约70～220nm，可消除段差效应。
Description
技术领域
本实用新型涉及一种触摸屏盖板及触摸屏盖板膜。
背景技术
随着科技的进步，智能设备的发展，对于作为人机交互主要窗口的触摸屏需求越来越旺盛，近几年的年出货量呈爆棚式增长，随着智能设备生产企业的技术革新以及激烈的竞争，对触摸屏的生产技术和成本提出了更高的要求。触摸屏的光学盖板作为触摸屏主要功能部件，对BM区(黑色矩阵Black Matrix)的光学遮盖区生产技术和生产成本均有较高的要求。
传统的触摸屏盖板BM区遮光层主要采用黑色油墨的丝网印刷技术来实现。然而丝印油墨的技术存在镀膜良率低、生产成本较高、生产效率低等缺陷，并且由于触摸屏盖板需要与液晶显示器(Liquid Crystal Display，简称LCD)进行贴合使用，要求盖板以及油墨都必须与OCA光学胶(Optically Clear Adhesive)或OCR光学树脂(Optically Clear Resin)都能够很好的兼容，但实际操作过程中，油墨与OCA光学胶的贴合经常出现气泡，无法完美贴合，而且，贴合后所得产品再进行耐性测试(85℃，85％RH，500h)时，会出现大面积气泡，影响产品的外观或使用。该问题亟待解决。
实用新型内容
本实用新型要解决的技术问题是为了克服现有技术采用黑色油墨的丝网印刷术制备触摸屏盖板BM区遮光层时，镀膜良率低、生产成本高、生产效率低，所得产品与液晶显示器进行贴合使用时，易产生气泡，无法实现完美贴合的缺陷，提供了一种触摸屏盖板及触摸屏盖板膜。本实用新型的触摸屏盖板膜采用氮化锌薄膜作为黑色膜的功能层，表面反射率较低，生产成本低；表面硬度高，抗刮伤性能和耐磨性较强；表面能较高，能够有效的贴合液晶显示器；厚度约70～220nm，可消除段差效应。
本实用新型是通过下述技术方案来解决上述技术问题。
本实用新型提供了一种触摸屏盖板膜，其依次包括一氧化硅(SiO)薄膜、一氮化锌(Zn3N2)薄膜和一氮化硅(Si3N4)薄膜；
其中，所述氧化硅薄膜的厚度为10～20nm，所述氮化锌薄膜的厚度为10～50nm。
其中，若所述氧化硅薄膜的厚度＞20nm，要想达到该厚度，则需要增加靶材的用量或降低线速度，由此导致氧化硅的溅射效率较低或成本较高；若所述氧化硅薄膜的厚度＜10nm，则无法达到薄膜附着力的要求。
其中，所述氧化硅薄膜的厚度较佳地为15nm。
其中，若所述氮化锌薄膜的厚度＞50nm，则会造成薄膜的附着力下降；若所述氮化锌薄膜的厚度＜10nm，会有透光，无法实现密不透光的效果。所述氮化锌薄膜对可见光有较强的吸收，外观呈黑色，是作为黑色膜的功能层。
其中，所述氮化锌薄膜的厚度较佳地为10～30nm，更佳地为25nm。
其中，所述氮化硅薄膜的厚度为本领域常规，一般为50～150nm，较佳地为100nm。综合考虑生产效率、内应力、机械性能以及作为保护层的功效等诸多因素的影响，本领域技术人员一般会选择厚度为50～150nm的氮化硅薄膜。所述氮化硅薄膜的械强度较高，薄膜致密，能够有效保护所述氮化锌薄膜不被刮伤和分解氧化。
其中，所述氮化硅薄膜的另一侧较佳地还设有一保护膜。所述保护膜为本领域常规的塑料保护膜。
本实用新型的触摸屏盖板膜可通过本领域常规的磁控溅射技术制得。
本实用新型还提供了一种触摸屏盖板，其包括一树脂基板和一如前所述的触摸屏盖板膜，所述触摸屏盖板膜的氧化硅薄膜与所述树脂基板相连接。
本实用新型的积极进步效果在于：
1、本实用新型的触摸屏盖板膜可通过本领域常规的磁控溅射技术制得，生产成本低，降低约50倍；
2、本实用新型的触摸屏盖板膜的表面硬度≥6H；
3、本实用新型的触摸屏盖板膜的最外层表面能较高，与OCA光学胶或OCR光学树脂的粘结性能较好，能够有效的贴合LCD，无气泡产生；经过85℃×85％RH×500h的耐性测试后，不易产生气泡，粘附力也不降低；
4、本实用新型触摸屏盖板膜的黑色遮光薄膜较薄，厚度约70～220nm，较薄的薄膜可有效减少黑色遮光膜边部的段差问题，防止盖板在贴合时出现气泡，更有利于盖板与LCD的贴合；
5、本实用新型的表面抗刮伤性能和耐磨性较强：1kg压力施加在沾水棉布上，在两种触摸屏盖板膜分别上滴上10滴水或酒精，进行摩擦20次测试，表面不脱膜。
附图说明
图1为本实用新型实施例1的触摸屏盖板的结构示意图，其中，1为保护膜，2为氮化硅薄膜，3为氮化锌薄膜，4为氧化硅薄膜，5为树脂基板。
具体实施方式
下面举个较佳实施例，并结合附图来更清楚完整地说明本实用新型。
实施例1
本实施例的触摸屏盖板膜，其依次包括一氧化硅(SiO)薄膜、一氮化锌(Zn3N2)薄膜、一氮化硅(Si3N4)薄膜和一保护膜；其中，氧化硅薄膜的厚度为10nm，氮化锌薄膜的厚度为10nm，氮化硅薄膜的厚度为50nm，保护膜为本领域常规的塑料保护膜。
本实施例的触摸屏盖板，其包括一树脂基板和一上述触摸屏盖板膜，触摸屏盖板膜的氧化硅薄膜与树脂基板相连接。
图1为实施例1的触摸屏盖板的结构示意图，其中，1为保护膜，2为氮化硅薄膜，3为氮化锌薄膜，4为氧化硅薄膜，5为树脂基板。
实施例2
本实施例的触摸屏盖板膜，其依次包括一氧化硅(SiO)薄膜、一氮化锌(Zn3N2)薄膜、一氮化硅(Si3N4)薄膜和一保护膜；其中，氧化硅薄膜的厚度为20nm，氮化锌薄膜的厚度为30nm，氮化硅薄膜的厚度为150nm，保护膜为本领域常规的塑料保护膜。
实施例3
本实施例的触摸屏盖板膜，其依次包括一氧化硅(SiO)薄膜、一氮化锌(Zn3N2)薄膜、一氮化硅(Si3N4)薄膜和一保护膜；其中，氧化硅薄膜的厚度为15nm，氮化锌薄膜的厚度为50nm，氮化硅薄膜的厚度为100nm，保护膜为本领域常规的塑料保护膜。
本实施例的触摸屏盖板，其包括一树脂基板和一上述触摸屏盖板膜，触摸屏盖板膜的氧化硅薄膜与树脂基板相连接。
实施例4
本实施例的触摸屏盖板膜，其依次包括一氧化硅(SiO)薄膜、一氮化锌(Zn3N2)薄膜、一氮化硅(Si3N4)薄膜和一保护膜；其中，氧化硅薄膜的厚度为15nm，氮化锌薄膜的厚度为50nm，氮化硅薄膜的厚度为100nm，保护膜为本领域常规的塑料保护膜。
本实施例的触摸屏盖板，其包括一树脂基板和一上述触摸屏盖板膜，触摸屏盖板膜的氧化硅薄膜与树脂基板相连接。
实施例5
本实施例的触摸屏盖板膜，其依次包括一氧化硅(SiO)薄膜、一氮化锌(Zn3N2)薄膜、一氮化硅(Si3N4)薄膜和一保护膜；其中，氧化硅薄膜的厚度为15nm，氮化锌薄膜的厚度为25nm，氮化硅薄膜的厚度为150nm，保护膜为本领域常规的塑料保护膜。
本实施例的触摸屏盖板，其包括一树脂基板和一上述触摸屏盖板膜，触摸屏盖板膜的氧化硅薄膜与树脂基板相连接。
效果实施例1
本实用新型实施例1～5的触摸屏盖板膜通过本领域常规的磁控溅射技术制得，具备以下积极进步效果：
1、生产效率高，提升约4～7倍：本实用新型使用大面积基材(550×820mm)进行磁控溅射镀膜，一片板材可切割成10～20片触摸屏盖板，并且镀膜为水平连续式镀膜，一炉可放置3片大板，约1min完成三片大板镀膜。而丝网印刷的生产方式也可以进行一次大板(550×820mm)印刷，油墨印刷需要进行印刷两遍，并且每一遍印刷结束后需要进行约40min的烘烤；
2、本实用新型触摸屏盖板膜的镀膜良率≥98％，镀膜范围的尺寸控制更加精确；而丝网印刷方式容易产生针孔的透光缺陷，良率仅为80～90％；
3、生产成本低，降低约50倍：本实用新型所使用到的靶材有Si靶和Zn靶，每个靶材单价约2～4万/根，一根靶材可以使用约900小时，原材料的使用效率可达90％以上；本实用新型生产工艺大约需要用到8根Si靶，2根Zn靶，小于40万的原材料成本，可以生产约16万张大板。而丝网印刷油墨印刷方法，16万张大板需要约1500万的油墨费用；
4、本实用新型的触摸屏盖板膜表面硬度≥6H，而油墨丝网印刷方法制得的产品硬度一般都＜HB；
5、本实用新型的触摸屏盖板膜的最外层表面能较高，与OCA光学胶或OCR光学树脂的粘结性能较好，能够有效的贴合LCD，无气泡产生；经过85℃×85％RH×500h的耐性测试后，不易产生气泡，粘附力也不降低；而油墨丝网印刷方法制得的产品容易产生气泡；
6、本实用新型触摸屏盖板膜的黑色遮光薄膜较薄，厚度约70～220nm，较薄的薄膜可有效减少黑色遮光膜边部的段差问题，防止盖板在贴合时出现气泡，更有利于盖板与LCD的贴合；而油墨丝网印刷的厚度约8～12μm，油墨与非油墨区存在台阶段差，该段差容易藏污纳垢，并且在贴合后产生气泡；
7、本实用新型的表面抗刮伤性能和耐磨性较强：1kg压力施加在沾水棉布上，在两种触摸屏盖板膜分别上滴上10滴水或酒精，进行摩擦20次测试，表面不脱膜。
将本实用新型实施例1～5的触摸屏盖板膜进行性能测试，具体测试数据如下表1所示。
表1
Claims (8)
1.一种触摸屏盖板膜，其特征在于，其依次包括一氧化硅薄膜、一氮化锌薄膜和一氮化硅薄膜；
其中，所述氧化硅薄膜的厚度为10～20nm，所述氮化锌薄膜的厚度为10～50nm。
2.如权利要求1所述的触摸屏盖板膜，其特征在于，所述氧化硅薄膜的厚度为15nm。
3.如权利要求1或2所述的触摸屏盖板膜，其特征在于，所述氮化锌薄膜的厚度为10～30nm。
4.如权利要求3所述的触摸屏盖板膜，其特征在于，所述氮化锌薄膜的厚度为25nm。
5.如权利要求1或2所述的触摸屏盖板膜，其特征在于，所述氮化硅薄膜的厚度为50～150nm。
6.如权利要求5所述的触摸屏盖板膜，其特征在于，所述氮化硅薄膜的厚度为100nm。
7.如权利要求1或2所述的触摸屏盖板膜，其特征在于，所述氮化硅薄膜的另一侧还设有一保护膜。
8.一种触摸屏盖板，其特征在于，其包括一树脂基板和一如权利要求1～7任一项所述的触摸屏盖板膜，所述触摸屏盖板膜的氧化硅薄膜与所述树脂基板相连接。
Priority Applications (1)
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| CN201620468911.1U CN205871360U (zh) | 2016-05-19 | 2016-05-19 | 一种触摸屏盖板及触摸屏盖板膜 |
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Publications (1)
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Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN106864145A (zh) * | 2017-03-13 | 2017-06-20 | 信利光电股份有限公司 | 一种镀膜工艺及电子产品 |
| CN106875840A (zh) * | 2017-04-01 | 2017-06-20 | 武汉华星光电技术有限公司 | 一种显示装置及其制作方法 |
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- 2016-05-19 CN CN201620468911.1U patent/CN205871360U/zh active Active
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