CN205752117U - 防反溅治具 - Google Patents
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Abstract
防反溅治具。涉及芯片加工领域,尤其涉及芯片背面的防止光阻剂反溅的治具。提供了一种结构简单,使芯片背面无光阻剂残留,提升产品外观的防反溅治具。所述定位台的顶面边缘设有反溅圈一;所述中孔内设有主轴,所述主轴的顶面设有吸盘,所述吸盘的上方连接芯片一,所述芯片一和反溅圈一之间设有间隙,所述芯片一和反溅圈一的边缘位于同一平面。所述反溅圈一和定位台一体成型。所述定位台的外侧设有定位环,所述定位环上可拆卸连接设有反溅圈二。所述定位环和定位台一体成型。本实用新型操作可靠,提高了产品的质量。
Description
技术领域
本实用新型涉及芯片加工领域,尤其涉及芯片背面的防止光阻剂反溅的治具。
背景技术
二极管芯片或其它芯片在制造过程中有一道或几道工序为芯片表面上光阻剂。目前大多数公司采用的是调节排风、晶片背洗、员工擦拭等方法,降低光阻剂反溅的影响。但改善效果较差或造成其它物料的耗用,增加了成本。为了使芯片背面无光阻剂残留,晶片在上光阻工序结束后,要求操作人员必需将芯片背面擦拭干净,这样增加了员工的劳动强度也造成了芯片外观的不稳定性。
实用新型内容
本实用新型针对以上问题,提供了一种结构简单,使芯片背面无光阻剂残留,提升产品外观的防反溅治具。
本实用新型的技术方案是:包括定位台,所述定位台呈T字形、且具有中孔,所述定位台的顶面边缘设有反溅圈一;
所述中孔内设有主轴,所述主轴的顶面设有吸盘,所述吸盘的上方连接芯片一,所述芯片一和反溅圈一之间设有间隙,
所述芯片一和反溅圈一的边缘位于同一平面。
所述反溅圈一和定位台一体成型。
所述定位台的外侧设有定位环,所述定位环上可拆卸连接设有反溅圈二。
所述定位环和定位台一体成型。
本实用新型在工作中,将定位台进行固定,再将芯片放置在吸盘上,通过对芯片的正面(即芯片上方)上光阻剂,由于芯片一和反溅圈一的边缘位于同一平面,防止芯片背面有光阻剂的反溅,提高产品的品质。在定位台上设置定位环,定位环上设置反溅圈二,可用于加工芯片二,适应不同规格的芯片加工。本实用新型操作可靠,提高了产品的质量。
附图说明
图1是本实用新型的结构示意图,
图2是图1的俯视图,
图3是本实用新型的优化实施方式的结构示意图,
图4是本实用新型的工作状态图一,
图5是本实用新型的工作状态图二;
图中1是定位台,2是中孔,3是反溅圈一,4是主轴,5是吸盘,6是芯片一,7是间隙,8是定位环,9是反溅圈二,10是芯片二。
具体实施方式
本实用新型如图1-5所示,包括定位台1,所述定位台1呈T字形、且具有中孔2,所述定位台1的顶面边缘设有反溅圈一3;工作中,定位台固定设置;
所述中孔2内设有主轴4,所述主轴4的顶面设有吸盘5,所述吸盘5的上方连接芯片一6,所述芯片一和反溅圈一之间设有间隙7,工作中,吸盘用于固定芯片一,主轴可旋转动作,使得芯片一上的光阻剂均匀,操作可靠。
所述芯片一和反溅圈一的边缘位于同一平面,避免了光阻剂反溅到芯片一的背面。
所述反溅圈一和定位台一体成型,方便加工。
如图3、5所示,所述定位台的外侧设有定位环8,所述定位环上可拆卸连接设有反溅圈二9,反溅圈二的上方放置芯片二10,芯片二的尺寸大于芯片一的尺寸。
所述定位环和定位台一体成型,方便加工,可靠性高。
Claims (4)
1.防反溅治具,其特征在于,包括定位台,所述定位台呈T字形、且具有中孔,所述定位台的顶面边缘设有反溅圈一;
所述中孔内设有主轴,所述主轴的顶面设有吸盘,所述吸盘的上方连接芯片一,所述芯片一和反溅圈一之间设有间隙,
所述芯片一和反溅圈一的边缘位于同一平面。
2.根据权利要求1所述的防反溅治具,其特征在于,所述反溅圈一和定位台一体成型。
3.根据权利要求1或2所述的防反溅治具,其特征在于,所述定位台的外侧设有定位环,所述定位环上可拆卸连接设有反溅圈二。
4.根据权利要求3所述的防反溅治具,其特征在于,所述定位环和定位台一体成型。
Priority Applications (1)
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CN201620643642.8U CN205752117U (zh) | 2016-06-24 | 2016-06-24 | 防反溅治具 |
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Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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CN205752117U true CN205752117U (zh) | 2016-11-30 |
Family
ID=57381213
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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CN201620643642.8U Active CN205752117U (zh) | 2016-06-24 | 2016-06-24 | 防反溅治具 |
Country Status (1)
Country | Link |
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2016
- 2016-06-24 CN CN201620643642.8U patent/CN205752117U/zh active Active
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