CN205741077U - 瑕疵皮革修复结构 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开一种瑕疵皮革修复结构,包括所述的皮革的表面有瑕疵部,所述瑕疵部有凹陷部和凸起磨消部,所述凸起磨消部上方表面覆盖有亚光底浆层,可以减少凸起部分的高亮反光,减少视差,所述凹陷部上方表面覆盖有高光底浆层,同理在局部提高亮度,缩小该部的视差,所述亚光底浆层与高光底浆层的上部共同涂覆有韧性底浆层,将两种改变亮度的底浆同时覆盖,同一视觉效果,所述韧性底浆层的上表面覆盖有着色层,所述着色层上表面覆盖有顶浆层,所述亚光底浆层与高光底浆层的表面都插通有细孔,所述细孔穿透过皮革,提高亚光底浆层与高光底浆层的牢固度;本方案结构简单,设计合理,加工操作起来方便,将原本无法利用的皮革再次利用。
Description
技术领域
本实用新型涉及一种破损皮革的修复的结构,具体是一种瑕疵皮革修复结构。
背景技术
现有技术中的汽车坐垫革,修补皮坯层伤残瑕疵的方案是在皮坯干燥后采用补伤→磨革,伤残严重的重复补伤→磨革操作,这样的方法而对于皮面伤残较重的皮坯来说,在皮面覆盖底浆层、着色层、和顶浆层后,皮坯层上的伤残瑕疵无法做到很好的遮盖,直接降低了成革的利用率,造成了大量的伤残不良品。
实用新型内容
针对现有技术中的不足,需要一种可以修复皮革破损处的结构。
为实现上述的技术方案,本实用新型需要一种瑕疵皮革修复结构,包括所述的皮革的表面有瑕疵部,所述瑕疵部有凹陷部和凸起磨消部,所述凸起磨消部上方表面覆盖有亚光底浆层,可以减少凸起部分的高亮反光,减少视差,所述凹陷部上方表面覆盖有高光底浆层,同理在局部提高亮度,缩小该部的视差,所述亚光底浆层与高光底浆层的上部共同涂覆有韧性底浆层,将两种改变亮度的底浆同时覆盖,同一视觉效果,所述韧性底浆层的上表面为磨砂面,磨砂面模糊修复出的边界,所述韧性底浆层的上表面覆盖有着色层,所述着色层上表 面覆盖有顶浆层,所述亚光底浆层与高光底浆层的表面都插通有细孔,所述细孔穿透过皮革,提高亚光底浆层与高光底浆层的牢固度。
所述韧性底浆层渗入到细孔中,并且透出至皮革底面,同上提高了韧性底浆层的牢固度。
所述皮革的凹陷部和凸起磨消部的底面贴覆有防漏贴片,防止在加工的过程中浆料过多渗透。
所述皮革的下底面成型有规则的防滑纹理,所述防滑纹理分布在皮革的整个底面,起到了防滑的效果。
所述防滑纹理为平行排列的长条凸起,或者是矩形阵列的并且表面凸起的凸点。
本实用新型的优点是:本方案结构简单,设计合理,加工操作起来方便,同时在结构中根据不同的位置覆盖不同的光亮的底浆,调节视觉感觉,提高产品的最终质量,将原本无法利用的皮革再次利用。
附图说明
图1是瑕疵皮革修复结构;
图中:1、皮革,2、凹陷部,3、凸起磨消部,4、亚光底浆层,5、高光底浆层,6、韧性底浆层,7、着色层,8、顶浆层,9、细孔,10、防漏贴片。
具体实施方式
根据图1说明本实用新型的具体实施例,所述的皮革1的表面有瑕疵部,所述瑕疵部有凹陷部2和凸起磨消部3,所述凸起磨消部3,上方表面覆盖有亚光底浆层4,所述凹陷部2上方表面覆盖有高光底 浆层5,所述亚光底浆层4与高光底浆层5的上部共同涂覆有韧性底浆层6,所述韧性底浆层6的上表面为磨砂面,所述韧性底浆层6的上表面覆盖有着色层7,所述着色层7上表面覆盖有顶浆层8,所述亚光底浆层4与高光底浆层5的表面都插通有细孔9,所述细孔9穿透过皮革1。
所述韧性底浆层6渗入到细孔9中,并且透出至皮革1底面。
所述皮革1的凹陷部2和凸起磨消部3,的底面贴覆有防漏贴片10。
所述皮革1的下底面成型有规则的防滑纹理,所述防滑纹理分布在皮革1的整个底面。
所述防滑纹理为平行排列的长条凸起,或者是矩形阵列的并且表面凸起的凸点。
本皮革的加工步骤是:干燥震荡→磨革(3次粗砂纸)→补伤→磨革(细砂纸)→摔软→震荡→辊预底浆层→辊底浆层→喷着色层→喷顶浆层(2次)。
本说明书中所描述的以上内容仅仅是对本实用新型所作的举例说明。本实用新型所属技术领域的技术人员可以对所描述的具体实施例做各种各样的修改或补充或采用类似的方式替代,只要不偏离本实用新型说明书的内容或者超越本权利要求书所定义的范围,均应属于本实用新型的保护范围。
Claims (5)
1.一种瑕疵皮革修复结构,所述的皮革(1)的表面有瑕疵部,所述瑕疵部有凹陷部(2)和凸起磨消部(3),其特征在于:所述凸起磨消部(3)上方表面覆盖有亚光底浆层(4),所述凹陷部(2)上方表面覆盖有高光底浆层(5),所述亚光底浆层(4)与高光底浆层(5)的上部共同涂覆有韧性底浆层(6),所述韧性底浆层(6)的上表面为磨砂面,所述韧性底浆层(6)的上表面覆盖有着色层(7),所述着色层(7)上表面覆盖有顶浆层(8),所述亚光底浆层(4)与高光底浆层(5)的表面都插通有细孔(9),所述细孔(9)穿透过皮革(1)。
2.根据权利要求1所述的瑕疵皮革修复结构,其特征在于:所述韧性底浆层(6)渗入到细孔(9)中,并且透出至皮革(1)底面。
3.根据权利要求1或2所述的瑕疵皮革修复结构,其特征在于:所述皮革(1)的凹陷部(2)和凸起磨消部(3)的底面贴覆有防漏贴片(10)。
4.根据权利要求1所述的瑕疵皮革修复结构,其特征在于:所述皮革(1)的下底面成型有规则的防滑纹理,所述防滑纹理分布在皮革(1)的整个底面。
5.根据权利要求4所述的瑕疵皮革修复结构,其特征在于:所述防滑纹理为平行排列的长条凸起,或者是矩形阵列的并且表面凸起的凸点。
Priority Applications (1)
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CN201620582503.9U CN205741077U (zh) | 2016-06-15 | 2016-06-15 | 瑕疵皮革修复结构 |
Applications Claiming Priority (1)
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Publications (1)
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Family
ID=57386047
Family Applications (1)
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CN201620582503.9U Active CN205741077U (zh) | 2016-06-15 | 2016-06-15 | 瑕疵皮革修复结构 |
Country Status (1)
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2016
- 2016-06-15 CN CN201620582503.9U patent/CN205741077U/zh active Active
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