CN205600471U - 陶瓷设备用的防污抛光装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种陶瓷设备用的防污抛光装置，包括手持柄，所述手持柄内安装有调速电机、减速机，所述调速电机与所述减速机相连，减速机的输出轴伸出手持柄，在所述输出轴上安装有大抛光盘和小抛光盘，在所述手持柄上设置有启动开关，并在手持柄上设置有用于调节调速电机速度的旋钮。本实用新型结构简单、设计合理，大抛光盘和小抛光盘能够对陶瓷设备进行抛光，通过调节旋钮，能够改变调速电机的速度，从而根据需要来调节大抛光盘和小抛光盘的转速，且操作方便，便于推广使用。
Description
技术领域
本实用新型涉及陶瓷生产设备技术领域，尤其涉及一种陶瓷设备用的防污抛光装置。
背景技术
目前，陶瓷砖产品在生产加工过程中，尤其是抛光加工之后，需要对砖面进行防污的加工处理，即在抛光好的砖面上涂覆防污、防渗材料，通过防污材料覆盖瓷砖表面的微孔，形成防污层，从而提高瓷砖表面的抗污性能。防污材料的布施主要由防污装置的磨头旋转研磨完成。
根据中国专利申请号为201320432340.2公布的一种陶瓷设备用的抛光装置，包括有机架、装于机架上的电机、由电机驱动的转轴、装于机架下部由转轴带动的转盘、装于转盘下方的多个磨头，所述的转轴分为主轴和副轴，副轴套装于主轴外形成两轴各自独立旋转的同心轴结构，所述主轴和副轴的驱动动力均由同一台电机提供，主轴、副轴与承台三者之间设有传动皮带轮组，主轴通过第一皮带及皮带轮由电机驱动，主轴上部与承台之间设有第二皮带及皮带轮，承台与副轴之间设有第三皮带及皮带轮，传动皮带轮组带动副轴以低于主轴的转速旋转，副轴下部通过轴套与转盘固连联动，主轴下部则穿过转盘，其下端部通过第四皮带及皮带轮驱动转盘下方的磨头。这种结构的抛光装置结构复杂，只适合大型的陶瓷设备使用，但是在实际的使用过程中，对于小型的陶瓷设备，在抛光时，需要手持抛光装置进行抛光，目前，市场上还未出现一种便于使用的手持抛光装置。
实用新型内容
本实用新型的目的是为了克服现有技术的不足，提供了陶瓷设备用的防污抛光装置。
本实用新型是通过以下技术方案实现：
一种陶瓷设备用的防污抛光装置，包括手持柄，所述手持柄内安装有调速电机、减速机，所述调速电机与所述减速机相连，减速机的输出轴伸出手持柄，在所述输出轴上安装有大抛光盘和小抛光盘，在所述手持柄上设置有启动开关，并在手持柄上设置有用于调节调速电机速度的旋钮。
作为本实用新型的优选技术方案，所述小抛光盘位于所述大抛光盘端面外侧。
作为本实用新型的优选技术方案，所述大抛光盘的直径为所述小抛光盘直径的1.8-2.5倍。
作为本实用新型的优选技术方案，所述手持柄上设置有弹性保护层，一方面能够提高其握持效果，另一方面能够防止手掌被磨伤。
与现有的技术相比，本实用新型的有益效果是：本实用新型结构简单、设计合理，大抛光盘和小抛光盘能够对陶瓷设备进行抛光，通过调节旋钮，能够改变调速电机的速度，从而根据需要来调节大抛光盘和小抛光盘的转速，且操作方便，便于推广使用。
附图说明
图1为本实用新型的结构示意图。
具体实施方式
为了使本实用新型的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本实用新型进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本实用新型，并不用于限定本实用新型。
请参阅图1，图1为本实用新型的结构示意图。
所述一种陶瓷设备用的防污抛光装置，包括手持柄1，所述手持柄1内安装有调速电机、减速机，所述调速电机与所述减速机相连，减速机的输出轴2伸出手持柄1，在所述输出轴2上安装有大抛光盘3和小抛光盘4，所述小抛光盘4位于所述大抛光盘3端面外侧，在所述手持柄1上设置有启动开关5，并在手持柄1上设置有用于调节调速电机速度的旋钮6。大抛光盘3和小抛光盘4能够对陶瓷设备进行抛光，通过调节旋钮6，能够改变调速电机的速度，从而根据需要来调节大抛光盘3和小抛光盘4的转速。
所述大抛光盘3的直径为所述小抛光盘4直径的1.8-2.5倍。
所述手持柄1上设置有弹性保护层，一方面能够提高其握持效果，另一方面能够防止手掌被磨伤。
以上所述仅为本实用新型的较佳实施例而已，并不用以限制本实用新型，凡在本实用新型的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。
Claims (4)
1. 一种陶瓷设备用的防污抛光装置，其特征在于：包括手持柄（1），所述手持柄（1）内安装有调速电机、减速机，所述调速电机与所述减速机相连，减速机的输出轴（2）伸出手持柄（1），在所述输出轴（2）上安装有大抛光盘（3）和小抛光盘（4），在所述手持柄（1）上设置有启动开关（5），并在手持柄（1）上设置有用于调节调速电机速度的旋钮（6）。
2.根据权利要求1所述的陶瓷设备用的防污抛光装置，其特征在于：所述小抛光盘（4）位于所述大抛光盘（3）端面外侧。
3.根据权利要求2所述的陶瓷设备用的防污抛光装置，其特征在于：所述大抛光盘（3）的直径为所述小抛光盘（4）直径的1.8-2.5倍。
4.根据权利要求3所述的陶瓷设备用的防污抛光装置，其特征在于：所述手持柄（1）上设置有弹性保护层。
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| CN201620252941.9U CN205600471U (zh) | 2016-03-30 | 2016-03-30 | 陶瓷设备用的防污抛光装置 |
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Cited By (3)
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|---|---|---|---|---|
| CN108608277A (zh) * | 2018-05-21 | 2018-10-02 | 沈阳永赢达铸业有限公司 | 一种铜合金机件加工实用抛光装置及使用方法 |
| CN109366335A (zh) * | 2018-11-05 | 2019-02-22 | 佛山迪骏自动化科技有限公司 | 一种陶瓷设备用的防污抛光装置 |
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2016
- 2016-03-30 CN CN201620252941.9U patent/CN205600471U/zh not_active Expired - Fee Related
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| WO2020093882A1 (zh) * | 2018-11-05 | 2020-05-14 | 浙江海鸿工业产品设计有限公司 | 一种陶瓷设备用的防污抛光装置 |
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Legal Events
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|---|---|---|---|
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