CN205449915U - 多晶硅循环氢气杂质气体富集辅助检测装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种多晶硅循环氢气杂质气体富集辅助检测装置,其包括冷凝桶、中空的U形管和U形管固定板,冷凝桶包括桶体和设置在桶体顶部的两个桶盖。本实用新型的优点在于,可以对多晶硅生产中循环氢气杂质气体进行富集,辅助气相色谱分析仪器进行循环氢气的分析,极大地提高了循环氢气中微量杂质气体的色谱检测响应值,最终达到提高循环氢气中微量杂质气体气相色谱检测分析准确度的目的。
Description
技术领域:
本实用新型涉及多晶硅生产领域,特别涉及一种多晶硅循环氢气杂质气体富集辅助检测装置。
背景技术:
在西门子法多晶硅生产的过程中,循环氢气的质量直接影响着多晶硅的质量,在多晶硅生产过程中,由于设备原因或者工艺控制过程的变化,常常会引起的循环氢气质量的变化,造成多晶硅质量的持续波动,因此对于各个工序的循环氢气质量的监控十分重要,为了监控循环氢气的质量,通常采用气体色谱分析仪器对循环氢气的质量进行检测。
但在实际检测操作的过程中,由于循环氢气中含有微量的杂质气体,造成引进的、高成本的在线高纯气体色谱分析仪器有时不能很好的检测出循环氢气中含有微量的杂质气体,导致循环氢气中微量杂质气体气相色谱检测分析不准确,目前没有很好的办法解决此问题。
实用新型内容:
本实用新型的目的在于提供一种极大地提高微量杂质气体的色谱检测响应值、提高循环氢气气相色谱分析准确度的多晶硅循环氢气杂质气体富集辅助检测装置。
本实用新型由如下技术方案实施:多晶硅循环氢气杂质气体富集辅助检测装置,其包括冷凝桶、中空的U形管和U形管固定板,所述冷凝桶包括桶体和设置在所述桶体顶部的两个桶盖;
在所述桶体内壁及所述桶盖底部设有均保温材料;所述桶体内水平固定设有环形架板,所述U形管固定板活动置于所述环形架板顶部并覆盖环形架板的中心孔;所述U形管的两端穿过所述U形管固定板并置于所述U形管固定板上方;在所述U形管的两端分别设有一个多孔压板,两所述多孔压板之间的所述U形管内填充有活性炭;
在所述U形管的两端分别设有进气管和出气管;所述进气管和所述出气管的外端均从两个所述桶盖之间穿过,置于所述桶体外侧,在所述桶体外侧的所述进气管上沿进气方向依次设有流量计和进气阀;在所述桶体外侧的所述出气管上沿出气方向依次设有压力表和出气阀。
进一步的,所述保温材料为耐低温保温材料。
进一步的,所述保温材料为聚氨酯。
进一步的,所述进气管和所述出气管均为内壁经过抛光处理的金属管。
进一步的,所述进气管和所述出气管均为内壁经过抛光处理的铜管。
进一步的,所述的流量计为气体流量计。
本实用新型的优点:可以对多晶硅生产中循环氢气杂质气体进行富集,辅助气相色谱分析仪器进行循环氢气的分析,极大地提高了循环氢气中微量杂质气体的色谱检测响应值,最终达到提高循环氢气中微量杂质气体气相色谱检测分析准确度的目的。
附图说明:
图1为本实用新型整体结构示意图。
图2为冷凝桶的桶盖整体结构示意图。
图3为冷凝桶的桶体俯视图。
冷凝桶1,U形管2,U形管固定板3,桶体4,桶盖5,保温材料6,环形架板7,多孔压板8,活性炭9,进气管10,出气管11,流量计12,进气阀13,出气阀14,压力表15。
具体实施方式:
如图1-3所示,多晶硅循环氢气杂质气体富集辅助检测装置,其包括冷凝桶1、中空的U形管2和U形管固定板3,冷凝桶1包括桶体4和设置在桶体4顶部的两个桶盖5,桶盖5为两个下翻边的、形状尺寸相同的半圆形盖体拼接形成的一个圆形的桶盖5;在桶体4内壁及桶盖5底部设有均保温材料6,保温材料6可保持桶内的温度稳定,保温材料6为耐低温保温材料,如聚氨酯;
桶体4内水平固定设有环形架板7,U形管固定板3活动置于环形架板7顶部并覆盖环形架板7的中心孔;U形管2的两端穿过U形管固定板3并置于U形管固定板3上方;在U形管2的两端分别设有一个多孔压板8,两多孔压板8之间的U形管2内填充有活性炭9,一方面多孔压板8可保持U形管2内的活性炭9位置固定,另一方面多孔压板8保证U形管2内的气体流通顺畅;
在U形管2的两端分别设有进气管10和出气管11,进气管10和出气管11均为内壁经过抛光处理的金属管,如内壁经过抛光处理的铜管,避免冷凝液化的杂质气体粘附与管壁上;进气管10和出气管11的外端均从两个桶盖5之间穿过,置于桶体4外侧,在桶体4外侧的进气管10上沿进气方向依次设有流量计12和进气阀13,流量计12为气体流量计,用于记录导入U形管2内的循环氢气的流量;在桶体4外侧的出气管11上沿出气方向依次设有压力表15和出气阀14,压力表15用于指示U形管2内的压力。
使用方法:
使用时,向环形架板7下方的桶体4内注入液氮,并将U形管2放入桶体4中,桶体4内的保温材料6与环形架板7、U形管固定板3形成一个密闭空间,可防止液氮逸散;向进气管10内通入循环氢气,打开进气阀13和出气阀14,循环氢气通过进气管10导入U形管2内,当循环氢气经过浸没在液氮中的、填充有活性炭9的U形管2时,循环氢气中的杂质气体被冷凝并被活性炭9吸附,氢气因不能被冷凝而从出气管11排出,当流量计12所示的循环氢气流量达到一定数值时,先关闭出气阀14,再关闭进气阀13,记录下循环氢气的流量;将U形管2从桶体4中取出,并放置于室温环境中,此时,被活性炭9吸附的杂质气体解吸附,通过压力表15观察U形管2内的压力值的变化,当压力表15示数不再升高时,记录此时的压力表15示数,将出气管11与高纯气体色谱分析仪器的进样口连通,打开出气阀14,通过高纯气体色谱分析仪器对循环氢气中的杂质气体的分析;这样通过杂质气体分析结果与流量表所示的循环氢气流量进行对比,即可得出循环氢气中微量杂质气体的气相色谱检测分析结果。
这样,先对多晶硅生产中循环氢气杂质气体进行富集,再通过高纯气体色谱分析仪器对循环氢气中的杂质气体的分析,极大地提高了循环氢气中微量杂质气体的色谱检测响应值,最终达到提高循环氢气中微量杂质气体气相色谱检测分析准确度的目的。
以上所述仅为本实用新型的较佳实施例而已,并不用以限制本实用新型,凡在本实用新型的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本实用新型的保护范围之内。
Claims (6)
1.多晶硅循环氢气杂质气体富集辅助检测装置,其特征在于,其包括冷凝桶、中空的U形管和U形管固定板,所述冷凝桶包括桶体和设置在所述桶体顶部的两个桶盖;
在所述桶体内壁及所述桶盖底部设有均保温材料;所述桶体内水平固定设有环形架板,所述U形管固定板活动置于所述环形架板顶部并覆盖环形架板的中心孔;所述U形管的两端穿过所述U形管固定板并置于所述U形管固定板上方;在所述U形管的两端分别设有一个多孔压板,两所述多孔压板之间的所述U形管内填充有活性炭;
在所述U形管的两端分别设有进气管和出气管;所述进气管和所述出气管的外端均从两个所述桶盖之间穿过,置于所述桶体外侧,在所述桶体外侧的所述进气管上沿进气方向依次设有流量计和进气阀;在所述桶体外侧的所述出气管上沿出气方向依次设有压力表和出气阀。
2.根据权利要求1所述的多晶硅循环氢气杂质气体富集辅助检测装置,其特征在于,所述保温材料为耐低温保温材料。
3.根据权利要求1或2任一所述的多晶硅循环氢气杂质气体富集辅助检测装置,其特征在于,所述保温材料为聚氨酯。
4.根据权利要求1所述的多晶硅循环氢气杂质气体质富集辅助检测装置,其特征在于,所述进气管和所述出气管均为内壁经过抛光处理的金属管。
5.根据权利要求1或4任一所述的多晶硅循环氢气杂质气体富集辅助检测装置,其特征在于,所述进气管和所述出气管均为内壁经过抛光处理的铜管。
6.根据权利要求1所述的多晶硅循环氢气杂质气体富集辅助检测装置,其特征在于,所述的流量计为气体流量计。
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