CN205449907U - 一种带有顶空进样器的气相色谱仪 - Google Patents

Abstract

一种带有顶空进样器的气相色谱仪，包括壳体，所述壳体的内部设置有衬管，壳体的上端侧壁上安装有顶空样品气流入口，壳体的顶端安装有隔膜吹扫通道，壳体的底部安装有与衬管相连通的毛细管色谱柱，壳体的下端侧壁上安装有分流出口，其特征在于：所述分流出口的管路上设置有氮气管道，所述氮气管道与分流出口相连通。本实用新型结构简单、分流管道不易堵塞，延长了设备的使用寿命，降低了分析测试成本。

Description

一种带有顶空进样器的气相色谱仪

技术领域

本实用新型涉及仪器分析技术领域，具体涉及一种带有顶空进样器的气相色谱仪。

背景技术

目前，二氯二氢硅在半导体工业中作为外延淀积硅源，具有沉积速率快、外延片厚度均匀等特点，被广泛应用。但由于二氯二氢硅中的微量杂质会给半导体器件带来不良影响，危害非常大，因而二氯二氢硅中的微量杂质检测尤为重要。

中国专利授权公告号CN201289475，授权公告日为2009年8月12日的实用新型公开了一种带有顶空进样器的气相色谱仪，气相色谱仪包括分流/不分流进样口、顶空样品分流通道、分流出口、毛细管色谱柱；由顶空进样器通过所述顶空样品流通通道传输而来的载气及样品的一部分通过分流/不分流进样口进入气相色谱仪的毛细管色谱柱，另一部分通过顶空样品分流通道传输至所述分流出口；在分流出口处设置限流针型阀，通过该限流针型阀控制分流流量。

在分流模式下，由于分流比为10:1，分流流量较柱流量大很多，在AFC（电子流量控制器）分流阀与分流流路中会有较多的二氯二氢硅残留，无法随尾吹气排出。在停机后，不可避免的会接触到空气，由于二氯二氢硅遇空气中的水与氧气等极易生成二氧化硅等微小颗粒状物质，从而导致分流流路堵塞。

发明内容

本实用新型的目的是克服现技术的缺陷和不足，提供一种结构简单、分流管路不易堵塞的带有顶空进样器的气相色谱仪。

为实现以上目的，本实用新型的技术解决方案是：一种带有顶空进样器的气相色谱仪，包括壳体，所述壳体的内部设置有衬管，壳体的上端侧壁上安装有顶空样品气流入口，壳体的顶端安装有隔膜吹扫通道，壳体的底部安装有与衬管相连通的毛细管色谱柱，壳体的下端侧壁上安装有分流出口，其特征在于：所述分流出口的管路上设置有氮气管道，所述氮气管道与分流出口相连通。

所述分流出口的管路上安装有限流针型阀。

本实用新型相比现有技术，具有以下优势：

1、本实用新型在AFC（电子流量控制器）分流流路中加装氮气管道，在停机后通入氮气，对分流流路进行不间断吹扫，保证无空气进入流路中，在加装氮气管前，AFC平均使用两个月就会因分流流路堵塞从而需要更换，加装氮气管后，已使用六个月，AFC依然无异常。

2、本实用新型在分流出口管路上加装限流针型阀，可以在氮气管冲刷一段时间后用针型阀将分流出口封闭，节省氮气的使用，降低成本。

附图说明

图1是本实用新型的结构示意图。

图中：壳体1，衬管2，顶空样品气流入口3，隔膜吹扫通道4，毛细管色谱柱5，分流出口6，氮气管道7，限流针型阀8。

具体实施方式

以下结合附图说明和具体实施方式对本实用新型作进一步详细的说明。

参见图1，一种带有顶空进样器的气相色谱仪，包括壳体1，所述壳体1的内部设置有衬管2，壳体1的上端侧壁上安装有顶空样品气流入口3，壳体1的顶端安装有隔膜吹扫通道4，壳体1的底部安装有与衬管2相连通的毛细管色谱柱5，壳体1的下端侧壁上安装有分流出口6，所述分流出口6的管路上设置有氮气管道7和，所述氮气管道7与分流出口6相连通。

本实用新型在工作时载气及样品通过顶空样品气流入口3进入壳体1内，其中一部分载气及样品在经过顶空样品流通通道后流入衬管2中最后进入毛细管色谱柱5，另一部分通过顶空瓶分流通道传输至分流出口。在停机后，打开氮气管道7，对分流管路进行不间断冲洗，避免空气进入分流管路，当冲洗一段时间后，可以用限流针型阀8将分流管路封死，待下次分析测试时再打开。

Claims (2)

1.一种带有顶空进样器的气相色谱仪，包括壳体（1），所述壳体（1）的内部设置有衬管（2），壳体（1）的上端侧壁上安装有顶空样品气流入口（3），壳体（1）的顶端安装有隔膜吹扫通道（4），壳体（1）的底部安装有与衬管（2）相连通的毛细管色谱柱（5），壳体（1）的下端侧壁上安装有分流出口（6），其特征在于：所述分流出口（6）的管路上设置有氮气管道（7），所述氮气管道（7）与分流出口（6）相连通。

2.根据权利要求1所述的一种带有顶空进样器的气相色谱仪，其特征在于：所述分流出口（6）的管路上安装有限流针型阀（8）。