CN205142677U - 一种一分二式喷管摇摆架 - Google Patents

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郭立铭
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Abstract

本实用新型公开了一种一分二式喷管摇摆架，包括摇摆架，摇摆架上设有若干摇摆架进液管，摇摆架进液管均连接有摇摆架喷管，摇摆架喷管均连接有若干一分二式喷嘴底座，一分二式喷嘴底座上均设有两个喷嘴。所述碰嘴与竖直方向的角度为30度~45度。本实用新型的有益效果：一分二式喷嘴底座，比传统的摇摆架上可以增多一倍的喷头，使喷洒到板子上的药水没有任何盲区，有效提高蚀刻均匀性和蚀刻效率；带角度的喷嘴可以扩大药液与板子的喷洒面积，所喷洒的药液和板子面上所留药液可以向板边流动，从而减少水池效应，可以保证优良的蚀刻均匀性，有效加快工序生产运行速度。

Description

一种一分二式喷管摇摆架
技术领域
本实用新型涉及一种一分二式喷管摇摆架。
背景技术
随着工业的发展，印制电路板向多层化、密集化、柔性化方向发展，在电路板制作过程中，蚀刻工序需要对板子有更好的蚀刻均匀性和蚀刻速率，而传统摇摆喷淋方式蚀刻设备的摇摆架，存在以下技术缺陷需要改进：1、传统摇摆架上，由于喷管排布的影响，导致摇摆架上所带的喷嘴数量有限，喷嘴间距离较远，药液喷到板子上有一定盲区，导致蚀刻均匀性不良；2、传统摇摆架上所带的喷嘴数量少，排布稀，蚀刻效率较低；3、传统摇摆架上喷嘴的角度和板子是垂直的，导致板子上面的药水不能及时排走，导致较严重的水池效应，影响蚀刻均匀性。
实用新型内容
本实用新型的目的是提供一种一分二式喷管摇摆架，以克服目前现有技术存在的上述不足。
为实现上述技术目的，本实用新型的技术方案是这样实现的：
一种一分二式喷管摇摆架，包括摇摆架，所述摇摆架上设有若干摇摆架进液管，所述摇摆架进液管均连接有摇摆架喷管，所述摇摆架喷管均连接有若干一分二式喷嘴底座，所述一分二式喷嘴底座上均设有两个喷嘴。
进一步的，所述喷嘴与竖直方向的角度为30度~45度。
本实用新型的有益效果：一分二式喷嘴底座，比传统的摇摆架上可以增多一倍的喷头，使喷洒到板子上的药水没有任何盲区，有效提高蚀刻均匀性和蚀刻效率；带角度的喷嘴可以扩大药液与板子的喷洒面积，所喷洒的药液和板子面上所留药液可以向板边流动，从而减少水池效应，可以保证优良的蚀刻均匀性，有效加快工序生产运行速度。
附图说明
为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1是根据本实用新型实施例所述的一分二式喷管摇摆架的结构示意图；
图2是图1的局部结构示意图；
图3是图2的局部结构示意图。
图中：
1、摇摆架；2、摇摆架进液管；3、摇摆架喷管；4、一分二式喷嘴底座；5、喷嘴。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
如图1-3所示，根据本实用新型的实施例所述的一种一分二式喷管摇摆架，包括摇摆架1，所述摇摆架1上设有若干摇摆架进液管2，所述摇摆架进液管2均连接有摇摆架喷管3，所述摇摆架喷管3均连接有若干一分二式喷嘴底座4，所述一分二式喷嘴底座4上均设有两个喷嘴5。
在本实施例中，所述喷嘴5与竖直方向的角度为30度，优选35度，更优选45度。
为了方便理解本实用新型的上述技术方案，以下通过具体使用方式上对本实用新型的上述技术方案进行详细说明。
在具体使用时，首先开启药液喷淋和摇摆架匀速摇摆；药液经过摇摆架进液管2、摇摆架喷管3、一分二式喷嘴底座4和喷嘴5，均匀的将药液喷洒到板子上。电路板通过上下高密度喷嘴5所喷洒的药水达到蚀刻的效果，一分二式喷嘴底座4所带喷嘴5数量，比传统摇摆架1上的可以增多一倍，使喷洒到板子上的药水没有任何盲区，有效提高蚀刻均匀性和蚀刻效率；有角度的喷嘴5可以扩大药液与板子的喷洒面积，所喷洒的药液和板子面上所留药液可以向板边流动，从而减少水池效应的影响
通过实验证明得知：
蚀刻减铜均匀性可以达到95%以上，传统摇摆架喷淋设备的蚀刻减铜均匀性只能达到90%。
由于是高密度无端排列喷嘴摇摆架，可以有效提高蚀刻速度，比传统摇摆架的蚀刻速度提高1.25倍，依传统摇摆架蚀刻速度2m/min为例，本一分二式喷管同样长度的摇摆架，蚀刻运行速度可以提高到2.5m/min。
以上所述仅为本实用新型的较佳实施例而已，并不用以限制本实用新型，凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。

Claims (2)

1.一种一分二式喷管摇摆架，包括摇摆架（1），其特征在于，所述摇摆架（1）上设有若干摇摆架进液管（2），所述摇摆架进液管（2）均连接有摇摆架喷管（3），所述摇摆架喷管（3）均连接有若干一分二式喷嘴底座（4），所述一分二式喷嘴底座（4）上均设有两个喷嘴（5）。
2.根据权利要求1所述的一分二式喷管摇摆架，其特征在于，所述喷嘴（5）与竖直方向的角度为30度~45度。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN111403295A (zh) * 2020-02-25 2020-07-10 常州弘盛达电子设备有限公司 一种高精度集成电路引线框架蚀刻工艺的改进方法

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Patentee after: Jebsen Microsystems (Huizhou) Co., Ltd

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