CN205133488U - 一种具有抗电磁波效果的oca光学胶膜 - Google Patents
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Abstract
本实用新型涉及保护膜技术领域,具体涉及一种具有抗电磁波效果的OCA光学胶膜,包括从上往下依次设置的重离型膜、抗电磁波高黏胶层、硅胶层和中离型膜,抗电磁波高黏胶层的上表面、下表面分别与重离型膜的下表面、硅胶层的上表面贴合,硅胶层的下表面与中离型膜的上表面贴合。本实用新型的OCA光学胶膜通过采用抗电磁波高黏胶层,具有抗电磁波的功能,优化目前钢化玻璃膜的功能,提升其使用保护性能,结构简单,成本低,实用性强。
Description
技术领域
本实用新型涉及保护膜技术领域,具体涉及一种具有抗电磁波效果的OCA光学胶膜。
背景技术
目前市场上提供的手机保护膜种类繁多,其一般都是依靠黏胶贴在屏幕上的透明薄膜,较易脱落起泡,抗刮抗震性能差,使用寿命较短。而新型的钢化玻璃保护膜则很好解决了上述缺点,并且贴合容易且紧密,具有较高的坚韧度。
然而,目前应用于钢化玻璃的OCA光学胶膜功能单一,不具有市面上普通保护膜的抗电磁波功能,导致其使用和保护性能不佳,难以满足用户的需求。
发明内容
为了克服现有技术中存在的缺点和不足,本实用新型的目的在于提供一种具有抗电磁波效果的OCA光学胶膜,该OCA光学胶膜具有抗电磁波的功能,优化目前钢化玻璃膜的功能,提升其使用保护性能。
本实用新型的目的通过下述技术方案实现:一种具有抗电磁波效果的OCA光学胶膜,包括从上往下依次设置的重离型膜、抗电磁波高黏胶层、硅胶层和中离型膜,抗电磁波高黏胶层的上表面、下表面分别与重离型膜的下表面、硅胶层的上表面贴合,硅胶层的下表面与中离型膜的上表面贴合。
进一步的,所述重离型膜为剥离力在8-15g的重离型膜。
进一步的,所述重离型膜为表面经过电晕处理的PET重离型膜。
进一步的,所述抗电磁波高黏胶层为含有纳米银颗粒的抗电磁波高黏胶层。
进一步的,所述中离型膜为剥离力在3-10g的中离型膜。
进一步的,所述中离型膜为表面经过电晕处理的PET中离型膜、PE中离型膜、OPP中离型膜、BOPET中离型膜或BOPP中离型膜。
进一步的,所述重离型膜的厚度为23-100μm。
进一步的,所述抗电磁波高黏胶层的厚度为30-50μm。
进一步的,所述硅胶层的厚度为20-40μm。
进一步的,所述中离型膜的厚度为23-100μm。
本实用新型的有益效果在于:本实用新型的OCA光学胶膜通过采用抗电磁波高黏胶层,具有抗电磁波的功能,优化目前钢化玻璃膜的功能,提升其使用保护性能,结构简单,成本低,实用性强。
附图说明
图1是本实用新型所述复合膜A的剖视图。
图2是本实用新型所述复合膜B的剖视图。
图3是本实用新型具有抗电磁波效果的OCA光学胶膜的剖视图。
附图标记为:1—复合膜A、11—重离型膜、12—抗电磁波高黏胶层、13—第一轻离型膜、2—复合膜B、21—中离型膜、22—硅胶层、23—第二轻离型膜。
具体实施方式
为了便于本领域技术人员的理解,下面结合实施例及附图1-3对本实用新型作进一步的说明,实施方式提及的内容并非对本实用新型的限定。
见图1-3,一种具有抗电磁波效果的OCA光学胶膜,包括从上往下依次设置的重离型膜11、抗电磁波高黏胶层12、硅胶层22和中离型膜21,抗电磁波高黏胶层12的上表面、下表面分别与重离型膜11的下表面、硅胶层22的上表面贴合,硅胶层22的下表面与中离型膜21的上表面贴合。
本实用新型的OCA光学胶膜通过采用抗电磁波高黏胶层,具有抗电磁波的功能,优化目前钢化玻璃膜的功能,提升其使用保护性能,结构简单,成本低,实用性强。
本实施例中,所述重离型膜11为剥离力在8-15g的重离型膜11。本实用新型通过采用剥离力在8-15g的重离型膜11,最外层不会轻易分离,可以更好地保护本实用新型的OCA光学胶膜。
本实施例中,所述重离型膜11为表面经过电晕处理的PET重离型膜。电晕处理其原理是利用高频率高电压在被处理的塑料表面电晕放电(高频交流电压高达5000-15000V/m2),而产生低温等离子体,使塑料表面产生游离基反应而使聚合物发生交联.表面变粗糙并增加其对极性溶剂的润湿性-这些离子体由电击和渗透进入被印体的表面破坏其分子结构,进而将被处理的表面分子氧化和极化,离子电击侵蚀表面,以致增加承印物表面的附着能力。电晕处理使承印物表面分子结构重新排列,产生更多的极性部位,有利于附着外物。
本实施例中,所述抗电磁波高黏胶层12为含有纳米银颗粒的抗电磁波高黏胶层。本实用新型通过采用含有纳米银颗粒的抗电磁波高黏胶层12,抗电磁波效果好,优化目前钢化玻璃膜的功能,提升其使用保护性能。
本实施例中,所述中离型膜21为剥离力在3-10g的中离型膜21。本实用新型通过采用剥离力在3-10g的中离型膜21,最外层不会轻易分离,可以更好地保护本实用新型的OCA光学胶膜。
本实施例中,所述中离型膜21为表面经过电晕处理的PET中离型膜、PE中离型膜、OPP中离型膜、BOPET中离型膜或BOPP中离型膜。电晕处理使承印物表面分子结构重新排列,产生更多的极性部位,有利于附着外物。
本实施例中,所述重离型膜11的厚度为23-100μm。本实用新型通过将重离型膜11的厚度控制在23-100μm,最外层不会轻易分离,可以更好地保护本实用新型的光学膜。优选的,所述重离型膜11的厚度可以为23μm、50μm、75μm或100μm。更为优选的,所述重离型膜11的厚度为75μm。
本实施例中,所述抗电磁波高黏胶层12的厚度为30-50μm。本实用新型通过将抗电磁波高黏胶层12的厚度控制在30-50μm,抗电磁波效果好,优化目前钢化玻璃膜的功能,提升其使用保护性能。优选的,所述抗电磁波高黏胶层12的厚度为30μm、35μm、40μm、45μm或50μm。更为优选的,所述抗电磁波高黏胶层12的厚度为40μm。
本实施例中,所述硅胶层22的厚度为20-40μm。本实用新型通过将硅胶层22的厚度控制在20-40μm,粘合性能好,与抗电磁波高黏胶层12粘贴紧密。优选的,所述硅胶层22的厚度为20μm、25μm、30μm、35μm或40μm。更为有优选的,所述硅胶层22的厚度为30μm。
本实施例中,所述中离型膜21的厚度为23-100μm。本实用新型通过将中离型膜21的厚度控制在23-100μm,最外层不会轻易分离,可以更好地保护本实用新型的光学膜。优选的,所述中离型膜21的厚度可以为23μm、50μm、75μm或100μm。更为优选的,所述中离型膜21的厚度为75μm。
所述抗电磁波高黏胶层12的原料为添加有抗电磁波材料的高黏胶,抗电磁波材料与高黏胶的重量比为1-5:100,抗电磁波材料由如下重量份的原料组成:
纳米银颗粒20-35份
增稠剂4-5.5份
分散剂3-5份
溶剂46-70份。
所述高黏胶为丙烯酸类高黏胶、有机硅类高黏胶和聚氨酯类高黏胶中的任意一种;所述硅胶层22的原料为有机硅胶。
所述增稠剂为乙基纤维素;所述分散剂为司班-85;所述溶剂是由松油醇1-5份和无水乙醇45-65份组成的混合物。
一种具有抗电磁波效果的OCA光学胶膜的制备方法,包括如下步骤:
(1)制备复合膜A1:
取重离型膜11,在重离型膜11的一面进行电晕处理后采用刮刀涂布一层抗电磁波高黏胶,高温固化,形成抗电磁波高黏胶层12,在抗电磁波高黏胶层12的另一面贴合第一轻离型膜13,制得复合膜A1,如图1所示;
(2)制备复合膜B2:
取中离型膜21,在中离型膜21的一面进行电晕处理后采用刮刀涂布一层硅胶,高温固化,形成硅胶层22,在硅胶层22的另一面贴合第二轻离型膜23,制得复合膜B2,如图2所示;
(3)制备具有抗电磁波效果的OCA光学胶膜:
将复合膜A1撕去第一轻离型膜13,将复合膜B2撕去第二轻离型膜23,将复合膜A1的抗电磁波高黏胶层12与复合膜B2的硅胶层22贴合,制得具有抗电磁波效果的OCA光学胶膜,如图3所示。
所述第一轻离型膜13为剥离力在1-5g的第一轻离型膜13;所述第二轻离型膜23为剥离力在1-5g的第二轻离型膜23;所述第一轻离型膜13、第二轻离型膜23均为PET轻离型膜、PE轻离型膜、OPP轻离型膜、BOPET轻离型膜或BOPP轻离型膜;所述第一轻离型膜13、第二轻离型膜23的厚度均为23-100μm。
所述步骤(1)和所述步骤(2)中,高温固化的温度为100-200℃,高温固化的时间为1-3min。
上述实施例为本实用新型较佳的实现方案,除此之外,本实用新型还可以其它方式实现,在不脱离本实用新型构思的前提下任何显而易见的替换均在本实用新型的保护范围之内。
Claims (10)
1.一种具有抗电磁波效果的OCA光学胶膜,其特征在于:包括从上往下依次设置的重离型膜、抗电磁波高黏胶层、硅胶层和中离型膜,抗电磁波高黏胶层的上表面、下表面分别与重离型膜的下表面、硅胶层的上表面贴合,硅胶层的下表面与中离型膜的上表面贴合。
2.根据权利要求1所述的一种具有抗电磁波效果的OCA光学胶膜,其特征在于:所述重离型膜为剥离力在8-15g的重离型膜。
3.根据权利要求1所述的一种具有抗电磁波效果的OCA光学胶膜,其特征在于:所述重离型膜为表面经过电晕处理的PET重离型膜。
4.根据权利要求1所述的一种具有抗电磁波效果的OCA光学胶膜,其特征在于:所述抗电磁波高黏胶层为含有纳米银颗粒的抗电磁波高黏胶层。
5.根据权利要求1所述的一种具有抗电磁波效果的OCA光学胶膜,其特征在于:所述中离型膜为剥离力在3-10g的中离型膜。
6.根据权利要求1所述的一种具有抗电磁波效果的OCA光学胶膜,其特征在于:所述中离型膜为表面经过电晕处理的PET中离型膜、PE中离型膜、OPP中离型膜、BOPET中离型膜或BOPP中离型膜。
7.根据权利要求1所述的一种具有抗电磁波效果的OCA光学胶膜,其特征在于:所述重离型膜的厚度为23-100μm。
8.根据权利要求1所述的一种具有抗电磁波效果的OCA光学胶膜,其特征在于:所述抗电磁波高黏胶层的厚度为30-50μm。
9.根据权利要求1所述的一种具有抗电磁波效果的OCA光学胶膜,其特征在于:所述硅胶层的厚度为20-40μm。
10.根据权利要求1所述的一种具有抗电磁波效果的OCA光学胶膜,其特征在于:所述中离型膜的厚度为23-100μm。
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