CN204959034U - 一种用于扩散炉/pecvd设备的侧向传输机构 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种用于扩散炉/PECVD设备的侧向传输机构，包括具有两条平行轨道的支撑主体（1）、设在支撑主体一端的主动轴（2）和设置在支撑主体另一端的从动轴（3）、分别安装在主动轴和从动轴两端的带轮（4）、两条分别绕在带轮上构成双环状的同步带（5）、放置在所述同步带上的滑块（6），与所述主动轴连接的控制装置（8）和伺服电机（9），滑块随同步带做往复移动。本实用新型通过模块化设计解决了无缝对接的技术问题，而且组装、维修简易，自动化程度高。

Description

一种用于扩散炉/PECVD设备的侧向传输机构

技术领域

本实用新型涉及太阳能电池硅片的生产设备，尤其涉及一种用于扩散炉/PECVD设备的侧向传输机构。

背景技术

扩散炉是半导体生产线前工序的重要工艺设备之一，用于大规模集成电路、电力电子、光电器件和光导纤维等行业的扩散、氧化、退火、合金及烧结等工艺。扩散工艺的主要用途是在高温条件下对半导体晶圆进行掺杂，即将元素磷、硼扩散入硅片，从而改变和控制半导体的内杂质的类型、浓度和分布，以便建立起不同的电特性区域。

PECVD是等离子体增强化学气相沉积法，其借助射频等使含有薄膜组成原子的气体，在局部形成等离子体，而等离子体化学活性很强，很容易发生反应，在基片上沉积出所期望的薄膜。

随着设备行业的发展，对自动化程度要求越来越高。现有的传输机构是将硅片放在石英舟/石墨舟设备中，然后通过输送设备运送到自动插片取片机附近，装片后再放入扩散炉中处理，需要人工介入，并且自动石英舟/石墨舟设备无法与自动插片取片机实现无缝对接。此外，现有的传输机构无法调节，机动性差。

发明内容

本实用新型的目的是解决上述现有技术中存在的问题，提出一种用于扩散炉/PECVD设备的侧向传输机构，该机构能使装载硅片的石英舟/石墨舟与自动插片取片机无缝对接。

本实用新型提出的用于扩散炉/PECVD设备的侧向传输机构包括具有两条平行轨道的支撑主体、设在支撑主体一端的主动轴和设置在支撑主体另一端的从动轴、分别安装在主动轴和从动轴两端的带轮、两条分别绕在带轮上构成双环状的同步带、放置在所述同步带上的滑块，与所述主动轴连接的控制装置和伺服电机，滑块随同步带做往复移动。

所述的支撑主体采用模块化设计，包括：两条平行的支撑构件，其上下呈开口状；多个安装在支撑构件上方的上支撑轴，其两端用直角构件固定，上支撑轴上通过轴承安装有上同步带支撑轮；多个安装在支撑构件下方，通过两块支撑板固定的下支撑轴，其上通过轴承安装有下同步带支撑轮；和安装在所述支撑构件一侧的挡板，各模块之间通过定位块和螺钉固定。

与现有技术相比，本实用新型具有以下优点：

1.侧向传输机构设置在自动插片取片机侧面并与自动插片取片机实现无缝对接；

2.同步带传输机构采用模块化设计，组装、维修简易，适应性强；

3.同步带传输机构利用两条平行铝型材机构作为支撑主体，使石英舟/石墨舟运行平稳、精确。

附图说明

图1是本实用新型的主视图；

图2是本实用新型的俯视图；

图3是支撑主体的剖面图；

图4是主动轴侧局部放大图；

图5是从动轴侧局部放大图。

具体实施方式

为了更充分理解本实用新型的技术内容，下面结合附图对本实用新型进一步进行说明。

如图1和图2所示，在本实用新型设计的侧向传输机构包括具有两条平行轨道的支撑主体1、设在支撑主体一端的主动轴2和设置在支撑主体另一端的从动轴3、分别安装在主动轴和从动轴两端的带轮4、两条皮带分别绕在带轮上构成双环状的同步带5、放置在所述同步带上的滑块6，与所述主动轴连接的控制装置8和伺服电机9。石英舟/石墨舟10放置在滑块6上并随同步带5一起做往复移动。

如图3所示，为了更容易组装和维修，并适应不同的设备要求，支撑主体1采用模块化设计，包括：两条平行的支撑构件11，其上下呈开口状；多个安装在支撑构件上方的上支撑轴12，其两端分别用一直角构件19固定，上支撑轴上通过轴承安装有上同步带支撑轮13；多个安装在支撑构件下方，通过支撑板15固定的下支撑轴16，其上通过轴承安装有下同步带支撑轮17；和安装在所述支撑构件11一侧的挡板18。各模块之间通过定位块20和螺钉固定。

同步带5覆盖压紧在上下同步带支撑轮13和17上方，并带动滑块移动。挡板18的作用是为了让滑块6不会偏离轨道运行。同步带5可以调整以避免下垂的问题。定位块20位于各个模块之间，用于精确地限定左右两条平行型材之间的距离，从而保证滑块6与挡板18之间的缝隙，并且保证了滑块和石英舟/石墨舟平稳精准运行。支撑主体下方通过底连接板22和底支撑板23固定连接，从而可以根据不同机型来确定同步带传输机构1的长度，增强了该设备的通用性。各模块组装完后，除底支撑板23在扩散炉设备外安装完成外，该设备可以直接将整个机构安装在扩散炉设备上。

支撑主体的支撑构件11可采用通过热挤压模具、冲床冲压和人工时效处理等工艺加工而成的铝型材，比如6063、6061等型号的铝型材，或者其它金属型材。

如图1所示，主动轴侧安装有一与控制装置8配合的传感器21，控制装置用于控制伺服电机减速或正反转。

图4和图5分别是主动轴侧和从动轴侧的局部示意图。从动轴侧设有至少两个调节螺钉，用以调节同步带5的松紧程度，同步带,紧绕在带轮4上。

本实用新型工作时：首先，开启开关，伺服电机9转动带动主动轴上的带轮转动，装有硅片的石英舟/石墨舟在同步带5的作用下往扩散炉方向移动并平稳过渡到自动插片取片机上，然后通过自动插片取片机将硅片放置扩散炉中处理。处理结束后，再通过自动插片取片机将硅片取出放置在石英舟/石墨舟上，通过同步带传输机构反向移动传送至下一工位。

本实用新型设计的硅片扩散处理的设备，经检测验收，具有以下检测结果：

1.滑块及石英舟/石墨舟在侧向传输结构及自动插片取片机上往复运转10000次，未出现故障，以及报警情况；

2.滑块及石英舟/石墨舟运行至指定位置10000次，机械手均能抓起硅片，效果良好。

本实用新型提出的侧向传输机构不仅能满足行业设备对自动化的要求，而且让装载硅片的石英舟/石墨舟与自动插片取片机实现无缝对接，很好地满足现代生产自动化的需求。

以上的具体实施例仅用以举例说明本实用新型的构思，本领域的普通技术人员在本实用新型的构思下可以做出多种变形和变化，这些变形和变化均包括在本实用新型的保护范围之内。

Claims (4)

1.一种用于扩散炉/PECVD设备的侧向传输机构，其特征在于：所述同步带传输机构包括具有两条平行轨道的支撑主体（1）、设在支撑主体一端的主动轴（2）和设置在支撑主体另一端的从动轴（3）、分别安装在主动轴和从动轴两端的带轮（4）、两条分别绕在带轮上构成双环状的同步带（5）、放置在所述同步带上的滑块（6），与所述主动轴连接的控制装置（8）和伺服电机（9），滑块随同步带做往复移动。

2.如权利要求1所述的侧向传输机构，其特征在于：所述的支撑主体（1）采用模块化设计，包括：两条平行的支撑构件（11），其上下呈开口状；多个安装在支撑构件上方的上支撑轴（12），其两端用直角构件（19）固定，上支撑轴上通过轴承安装有上同步带支撑轮（13）；多个安装在支撑构件下方，通过支撑板（15）固定的下支撑轴（16），其上通过轴承安装有下同步带支撑轮（17）；和安装在所述支撑构件（11）一侧的挡板（18），各模块之间通过定位块（20）和螺钉固定。

3.如权利要求2所述的侧向传输机构，其特征在于：所述的支撑构件（11）采用铝型材。

4.如权利要求2所述的侧向传输机构，其特征在于：所述主动轴侧安装有一与所述控制装置配合的传感器（21），所述控制装置用于控制伺服电机减速或正反转。