CN204958606U - 一种涂层废液处理装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型涉及废液处理技术领域，尤其涉及一种涂层废液处理装置，包括一级还原槽、二级还原槽、一级中和槽、二级中和槽、沉淀箱、活性炭吸附罐、三个氧化还原电位仪和四个pH监控仪；所述一级还原槽、所述二级还原槽、所述一级中和槽、所述二级中和槽、所述沉淀箱和所述活性炭吸附罐顺次相连；在所述一级还原槽、所述二级还原槽和所述二级中和槽中分别设置一所述氧化还原电位仪；在所述一级还原槽、所述二级还原槽、所述一级中和槽和所述二级中和槽中分别设置一所述pH监控仪。本实用新型对涂层废液进行两级还原和两级中和，并利用活性炭吸附罐进行吸附，大大地降低了涂层废液中六价铬的浓度，使得涂层废液中六价铬的浓度满足排放标准。
Description
技术领域
本实用新型涉及废液处理技术领域，尤其涉及一种涂层废液处理装置。
背景技术
在冷轧硅钢处理线中，带钢表面的涂层液通常包含六价铬(Cr6+)，因此，在涂层废液中也会包含Cr6+。一般，采用还原法对涂层废液进行处理，将Cr6+还原成毒性较小的Cr3+。
而，在现有技术中，利用一级还原槽和一级中和槽，仅能将涂层废液中Cr6+的浓度还原至小于0.5mg/L，难以满足排放标准：Cr6+<0.05mg/L、总铬<0.1mg/L。
实用新型内容
本实用新型通过提供一种涂层废液处理装置，解决了现有技术涂层废液中六价铬浓度高的技术问题。
本实用新型实施例提供了一种涂层废液处理装置，包括一级还原槽、二级还原槽、一级中和槽、二级中和槽、沉淀箱、活性炭吸附罐、三个氧化还原电位仪和四个pH监控仪；
所述一级还原槽、所述二级还原槽、所述一级中和槽、所述二级中和槽、所述沉淀箱和所述活性炭吸附罐顺次相连；
在所述一级还原槽、所述二级还原槽和所述二级中和槽中分别设置一所述氧化还原电位仪；
在所述一级还原槽、所述二级还原槽、所述一级中和槽和所述二级中和槽中分别设置一所述pH监控仪。
优选的，所述装置还包括五个搅拌机；
在所述一级还原槽、所述二级还原槽、所述一级中和槽、所述二级中和槽和所述沉淀箱中分别设置一所述搅拌机。
优选的，所述装置还包括两个还原剂投加管；
在所述一级还原槽和所述二级还原槽中分别设置一所述还原剂投加管。
优选的，所述装置还包括两个盐酸投加管；
在所述一级还原槽和所述二级还原槽中分别设置一所述盐酸投加管。
优选的，所述装置还包括两个中和剂投加管；
在所述一级中和槽和所述二级中和槽中分别设置一所述中和剂投加管。
优选的，所述装置还包括絮凝剂投加管；
所述絮凝剂投加管设置于所述沉淀箱中。
本实用新型实施例中的一个或多个技术方案，至少具有如下技术效果或优点：
通过增加二级还原槽、二级中和槽和活性炭吸附罐，对涂层废液进行两级还原和两级中和，并利用活性炭吸附罐进行吸附，大大地降低了涂层废液中六价铬的浓度，使得涂层废液中六价铬的浓度远小于0.5mg/L，满足排放标准：Cr6+<0.05mg/L、总铬<0.1mg/L；
进一步，通过搅拌机对包含有反应试剂的涂层废液进行搅拌，使得各物质之间能够充分反应，以进一步降低涂层废液中的六价铬的浓度。
附图说明
为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据提供的附图获得其他的附图。
图1为本实用新型实施例中一种涂层废液处理装置的结构示意图。
其中，1为一级还原槽，71为第一搅拌机，81为第一氧化还原电位仪，91为第一pH监控仪，101为第一还原剂投加管，111为第一盐酸投加管，2为二级还原槽，72为第二搅拌机，82为第二氧化还原电位仪，92为第二pH监控仪，102为第二还原剂投加管，112为第二盐酸投加管，3为一级中和槽，73为第三搅拌机，93为第三pH监控仪，123为第一中和剂投加管，4为二级中和槽，74为第四搅拌机，84为第三氧化还原电位仪，94为第四pH监控仪，124为第二中和剂投加管，5为沉淀箱，75为第五搅拌机，6为活性炭吸附罐，13为絮凝剂投加管。
具体实施方式
为解决现有技术涂层废液中六价铬浓度高的技术问题，本实用新型提供一种涂层废液处理装置，通过增加二级还原槽、二级中和槽和活性炭吸附罐，对涂层废液进行两级还原和两级中和，并利用活性炭吸附罐进行吸附，大大地降低了涂层废液中六价铬的浓度。
为使本实用新型实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
本实用新型提供一种涂层废液处理装置，如图1所示，所述装置包括一级还原槽1、二级还原槽2、一级中和槽3、二级中和槽4、沉淀箱5、活性炭吸附罐6、三个氧化还原电位仪和四个pH监控仪。一级还原槽1、二级还原槽2、一级中和槽3、二级中和槽4、沉淀箱5和活性炭吸附罐6顺次相连。在一级还原槽1、二级还原槽2和二级中和槽4中分别设置一氧化还原电位仪，三个氧化还原电位仪分别为第一氧化还原电位仪81、第二氧化还原电位仪82和第三氧化还原电位仪84，在一级还原槽1、二级还原槽2、一级中和槽3和二级中和槽4中分别设置一pH监控仪，四个pH监控仪分别为第一pH监控仪91、第二pH监控仪92、第三pH监控仪93、和第四pH监控仪94。
具体来讲，在一级还原槽1上设置有一进水管，涂层废液从进水管中进入涂层废液处理装置，一级还原槽1、二级还原槽2、一级中和槽3、二级中和槽4、沉淀箱5和活性炭吸附罐6之间通过连通管顺次相连。涂层废液在一级还原槽1中进行一级还原反应，一级还原槽1中的第一氧化还原电位仪81和第一pH监控仪91用于控制一级还原反应试剂的投加量和反应条件。经过一级还原反应后的涂层废液进入二级还原槽2进行二级还原反应，二级还原槽2中的第二氧化还原电位仪82和第二pH监控仪92同样用于控制二级还原反应试剂的投加量和反应条件。经过二级还原反应后的涂层废液进入一级中和槽3进行一级中和反应，一级中和槽3中的第三pH监控仪93用于控制一级中和试剂的投加量。经过一级中和反应后的涂层废液进入二级中和槽4进行二级中和反应，二级中和槽4中的第四pH监控仪94用于控制二级中和试剂的投加量，二级中和槽4中的第三氧化还原电位仪84用于测定涂层废液的电位。经过二级中和反应后的涂层废液进入沉淀箱5沉淀，从而，涂层废液中的Cr6+转变为Cr(OH)3沉淀。沉淀后的涂层废液经活性炭吸附罐6吸附，最终，通过活性炭吸附罐6中的出水管排出，排出的涂层废液能够满足排放标准：Cr6+<0.05mg/L、总铬<0.1mg/L。
本申请在一级还原槽1中还设置有一还原剂投加管、一盐酸投加管和一搅拌机，分别为第一还原剂投加管101、第一盐酸投加管111和第一搅拌机71，通过第一还原剂投加管101加入亚硫酸氢钠，通过第二盐酸投加管111加入稀盐酸，并利用第一搅拌机71进行搅拌，以进行一级还原反应。在二级还原槽2中还设置有一还原剂投加管、一盐酸投加管和一搅拌机，分别为第二还原剂投加管102、第二盐酸投加管112和第二搅拌机72，同样，通过第二还原剂投加管102加入亚硫酸氢钠，通过第二盐酸投加管112加入稀盐酸，并利用第二搅拌机72进行搅拌，以进行二级还原反应。
本申请在一级中和槽3中还设置有一中和剂投加管和一搅拌机，分别为第一中和剂投加管123和第三搅拌机73，通过第一中和剂投加管123加入石灰液，并利用第三搅拌机73进行搅拌，以进行一级中和反应。在二级中和槽4中还设置有一中和剂投加管和一搅拌机，分别为第二中和剂投加管124,和第四搅拌机74，同样，通过第二中和剂投加管124加入石灰液，并利用第四搅拌机74进行搅拌，以进行二级中和反应。
本申请在沉淀箱5中还设置有一絮凝剂投加管13和一搅拌机，即，第五搅拌机75，通过絮凝剂投加管13加入絮凝剂后，利用第五搅拌机75进行搅拌，使Cr6+转变为Cr(OH)3沉淀。
本实用新型实施例中的一个或多个技术方案，至少具有如下技术效果或优点：
通过增加二级还原槽、二级中和槽和活性炭吸附罐，对涂层废液进行两级还原和两级中和，并利用活性炭吸附罐进行吸附，大大地降低了涂层废液中六价铬的浓度，使得涂层废液中六价铬的浓度远小于0.5mg/L，满足排放标准：Cr6+<0.05mg/L、总铬<0.1mg/L；
进一步，通过搅拌机对包含有反应试剂的涂层废液进行搅拌，使得各物质之间能够充分反应，以进一步降低涂层废液中的六价铬的浓度。
尽管已描述了本实用新型的优选实施例，但本领域内的技术人员一旦得知了基本创造性概念，则可对这些实施例作出另外的变更和修改。所以，所附权利要求意欲解释为包括优选实施例以及落入本实用新型范围的所有变更和修改。
显然，本领域的技术人员可以对本实用新型进行各种改动和变型而不脱离本实用新型的精神和范围。这样，倘若本实用新型的这些修改和变型属于本实用新型权利要求及其等同技术的范围之内，则本实用新型也意图包含这些改动和变型在内。
Claims (6)
1.一种涂层废液处理装置，其特征在于，包括一级还原槽、二级还原槽、一级中和槽、二级中和槽、沉淀箱、活性炭吸附罐、三个氧化还原电位仪和四个pH监控仪；
所述一级还原槽、所述二级还原槽、所述一级中和槽、所述二级中和槽、所述沉淀箱和所述活性炭吸附罐顺次相连；
在所述一级还原槽、所述二级还原槽和所述二级中和槽中分别设置一所述氧化还原电位仪；
在所述一级还原槽、所述二级还原槽、所述一级中和槽和所述二级中和槽中分别设置一所述pH监控仪。
2.如权利要求1所述的装置，其特征在于，所述装置还包括五个搅拌机；
在所述一级还原槽、所述二级还原槽、所述一级中和槽、所述二级中和槽和所述沉淀箱中分别设置一所述搅拌机。
3.如权利要求1所述的装置，其特征在于，所述装置还包括两个还原剂投加管；
在所述一级还原槽和所述二级还原槽中分别设置一所述还原剂投加管。
4.如权利要求1所述的装置，其特征在于，所述装置还包括两个盐酸投加管；
在所述一级还原槽和所述二级还原槽中分别设置一所述盐酸投加管。
5.如权利要求1所述的装置，其特征在于，所述装置还包括两个中和剂投加管；
在所述一级中和槽和所述二级中和槽中分别设置一所述中和剂投加管。
6.如权利要求1所述的装置，其特征在于，所述装置还包括絮凝剂投加管；
所述絮凝剂投加管设置于所述沉淀箱中。
Priority Applications (1)
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| CN201520700636.7U CN204958606U (zh) | 2015-09-10 | 2015-09-10 | 一种涂层废液处理装置 |
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Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN111925018A (zh) * | 2020-08-18 | 2020-11-13 | 宝钢湛江钢铁有限公司 | 一种含铬涂层废液处理方法及系统 |
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2015
- 2015-09-10 CN CN201520700636.7U patent/CN204958606U/zh active Active
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