CN204911558U - 用于与温控浴槽一起使用的支架 - Google Patents

Abstract

公开了一种用于与温控浴槽一起使用的支架，其中所述温控浴槽具有壳体，所述壳体包括供应有工作流体的储存器以及提供对所述储存器触用的开口。所述支架包括：支架本体；以及器皿支承件，其中所述器皿支承件由所述支架本体支承并以支承至少一个器皿的方式被构造。所述支架还包括支承足组件，其中所述支承足组件由所述支架本体支承并包括多个支承足。每个支承足以适于在收回位置与展开位置移动的方式被构造。

Description

用于与温控浴槽一起使用的支架

技术领域

本实用新型大体上涉及温控浴槽并且更具体地讲涉及用于在温控浴槽中支承器皿的支架。

背景技术

诸如循环浴槽的温控浴槽在实验室环境中采用，以便将温控的诸如水的工作流体提供在储存器中。使用者可以通过将实验室环境的材料试样放置在储存器中或者通过使得工作流体在储存器与外界应用装置之间循环来利用所述温控浴槽。传统的温控浴槽应用包括将材料试样放置到药瓶、试管、烧杯等器皿中，并且然后将所述器皿放置在储存器内。器皿周围的工作流体的温度由温控浴槽控制，以控制材料试样的温度。例如，温控浴槽可以使得工作流体移动经过加热或冷却元件，从实现工作流体的期望的温度，并因而控制材料试样的温度。

支架有时被用于保持放置到温控浴槽内的器皿。例如，使用者可以将器皿置于支架中，并然后将支架放入到温控浴槽内以使得器皿与工作流体接触。当使用者期望取用容纳在器皿内的材料试样时，使用者将支架从温控浴槽取出。由于支架与器皿的一些部分已经与工作流体接触，所以使用者通常会将支架放到一容器内、或一托盘上、或一种吸收材料上，从而防止工作流体掉出支架和/或器皿并且防止工作流体污染实验室环境。另外，当支架从温控浴槽被取出后从储存器带出的工作流体会使得储存器内的工作流体的量减少。因而，工作流体必须被定期地添加至储存器从而替代被带走的工作流体。

因而，存在与温控浴槽及其一起使用的支架有关的改进需求。

实用新型内容

本实用新型克服了前述的问题以及针对温控浴槽的支架的其它不足、缺陷、以及挑战。尽管本实用新型将结合特定的实施例予以描述，但是应当理解本实用新型并不限于那些实施例。相反，本实用新型包括可以在本实用新型的精神和范围内包含的所有替代、改型以及等价物。

在本实用新型的一个实施例中，提供了一种用于与温控浴槽一起使用的支架，所述温控浴槽具有壳体，所述壳体包含供应有工作流体的储存器以及提供对所述储存器触用的开口。支架包括支架本体以及由支架本体支承的器皿支承件，所述器皿支承件被构造成支承至少一个器皿。支架还包括支承足组件，其由支架本体支承并包括多个支承足。每个支承足被构造成在收回位置与展开位置之间移动。

在本实用新型的另一个实施例中，温控浴槽与支架结合地被设置。温控浴槽包括壳体，所述壳体包含供应有工作流体的储存器以及提供对所述储存器触用的开口。支架包括支架本体以及由所述支架本体支承的器皿支承件，所述器皿支承件被构造成支承至少一个器皿。支架还包括支承足组件，其由支架本体支承并包括多个支承足。每个支承足被构造成在收回位置与展开位置之间移动。

在本实用新型的另一个实施例中，提供了将支架与温控浴槽一起使用的方法，其中所述温控浴槽具有壳体，所述壳体包含供应有工作流体的储存器以及提供对所述储存器触用的开口。支架支承至少一个器皿并且包括支承足组件，所述支承足组件包括多个支承足，各支承足能够在收回位置与展开位置之间移动。该方法包括使得支承足移动至收回位置，并且将支架降低到储存器内的工作流体中。

具体地讲，根据本实用新型的一个方面，提供了一种用于与温控浴槽一起使用的支架，其中所述温控浴槽具有壳体，所述壳体包括供应有工作流体的储存器以及提供对所述储存器触用的开口，其特征在于，所述支架包括：

支架本体；

器皿支承件，其中所述器皿支承件由所述支架本体支承并以支承至少一个器皿的方式被构造；以及

支承足组件，其中所述支承足组件由所述支架本体支承并包括多个支承足，每个支承足以适于在收回位置与展开位置之间移动的方式被构造。

优选地，所述支架还包括调整机构，所述调整结构适于使得至少一个支承足从所述展开位置移动至所述收回位置。

优选地，所述调整机构包括手指致动的杠杆件以及将所述杠杆件与所述至少一个支承足操作性相连的连杆。

优选地，所述支架还包括把手，所述手指致动的杠杆件位于所述把手附近。

优选地，每个支承足以适于自动地移动至所述展开位置的方式被构造。

优选地，每个支承足包括上表面、与所述上表面相反的底表面、以及自所述上表面朝向所述底表面延伸的斜表面。

优选地，所述支承足组件包括四个支承足。

优选地，每个支承足大体上位于所述支架的下角部附近。

优选地，所述支架本体包括底座、第一侧壁、以及第二侧壁，所述第一侧壁和第二侧壁自所述底座向上延伸并且支承所述器皿支承件，并且每个支承足在移动至所述展开位置时自所述第一侧壁和第二侧壁之一向外延伸。

优选地，所述支承足组件包括与所述第一侧壁相关联的两个支承足以及与所述第二侧壁相关联的两个支承足。

根据本实用新型的另一个方面，提供了一种组件，其特征在于，所述组件包括：

温控浴槽，其中所述温控浴槽具有壳体，所述壳体包括供应有工作流体的储存器以及提供对所述储存器触用的开口；以及

用于与所述温控浴槽一起使用的支架，所述支架包括：

支架本体；

器皿支承件，其中所述器皿支承件由所述支架本体支承并以支承至少一个器皿的方式被构造；以及

支承足组件，其中所述支承足组件由所述支架本体支承并包括多个支承足，每个支承足以适于在收回位置与展开位置之间移动的方式被构造。

优选地，在所述支承足移动至所述收回位置时，所述支架适于降低到所述储存器内的工作流体中；并且在所述支承足移动至所述展开位置时，所述支架被禁止降低到所述储存器内的工作流体中。

优选地，所述壳体具有上表面，并且每个支承足包括底表面，所述底表面以当所述支承足移动至所述展开位置时安坐在所述上表面上的方式被构造，所述底表面在所述展开位置处于大体水平的朝向并且在所述收回位置处于倾斜的朝向。

优选地，所述支架被限定为前述的支架。

附图说明

结合到申请文件中并构成其一部分的附图示出了本实用新型的实施例，并且与以上给出的实用新型内容的说明和以下给出的本实用新型的具体实施方式一起用于解释本实用新型的原理。

图1是立体图，示出了支架，所述支架包括支承足组件，用于相对于温控浴槽支承支架；支承足组件包括多个支承足，其中所述各支承足在图1中示出处于展开位置；

图1A是侧视图，示出了在图1的支架的支承足组件中使用的单个支承足；

图2是图1的支架的局部分解图，示出了与支架的侧壁分离的器皿支承件的上托架；

图3是图1的支架的立体图，其中支承足处于收回位置；

图4是图1的支架的沿局部横截面的示意性剖视图；

图5是立体图，示出了图1的支架承载多个器皿并且被置于温控浴槽的环境中，其中支承足处于收回位置；

图6A是示意性侧视图，示出了器皿被降入到图5的支架的器皿支承件中，并且所述支架被定位在温控浴槽的壳体中的开口上方，其中支承足处于展开位置；

图6B是示意性侧视图，示出了图5的带有器皿的支架被降入到温控浴槽的储存器中，并且其中支承足处于收回位置；

图6C是示意性侧视图，示出了图5的带有器皿的支架以及支架定位在储存器中，以使得器皿至少部分地由储存器中包含的工作流体所包围；

图6D是示意性侧视图，示出了图5的带有器皿的支架通过温控浴槽的壳体中的开口被提升；

图6E是示意性侧视图，示出了图5的带有器皿的支架，其中支承足处于展开位置并且安坐在温控浴槽的壳体的上表面上；并且

图7是图6E所示的结构的立体图。

具体实施方式

现在参看附图，支架10被示出在一个实施例中与温控浴槽12一起使用。支架10将首先参照图1、1A以及2至4被描述，并且然后支架10与温控浴槽12一起的使用将参照图5、6A至6E以及7被描述。

支架10大体上包括支架本体14，所述支架本体包括底座16以及两个相对的侧壁18a、18b。侧壁18a、18b被固定至底座16并且自所述底座大体向上地延伸。支架10还包括器皿支承件20，所述器皿支承件用于如下进一步详述地支承诸如试管的一个或多个器皿22。在所示的具体实施例中，器皿支承件20包括底托盘24以及上托盘26。支架10还包括把手28a、28b，它们相应地与侧壁18a、18b相关联。

器皿支承件20由侧壁18a、18b能够调整地支承。具体地，每个侧壁18a、18b包括定位调整槽30，其用于调整底托盘24和上托盘26的位置。每个调整槽30包括中央沟槽32以及多个自所述中央沟槽32延伸并与其相连的多个容槽34，所述容槽例如位于中央沟槽32的两侧。保持构件36与底托盘24和上托盘26接合，从而沿着调整槽30固定所述底托盘和所述上托盘。具体地，保持构件36在调整槽30中延伸穿过相应的侧壁18a、18b，并且接合在底托盘24和上托盘26中形成的孔38。保持构件36可以例如安坐在调整槽30的容槽34中。如图所示，底托盘24大体靠近底座16地由侧壁18a、18b支承，而上托盘26在底托盘24上方且与其隔开地由侧壁18a、18b支承。

底托盘24包括多个开口40，每个开口被构造成接收器皿22的一部分，正如以下详述那样。以类似的方式，上托盘26包括多个开口42，每个开口被构造成接收器皿22的与在开口40中所接收的那部分不同的一部分，正如以下详述那样。上托盘26从俯视图看大体上具有矩形的形状，但是切口44在上托盘26的各角部处形成。类似地，底托盘24从俯视图看大体上具有矩形的形状，但是切口45在底托盘24的各角部处形成。

支架10还包括由支架本体14支承的支承足组件50。支承足组件50被构造成相对于温控浴槽12支承支架10，正如以下详述那样。在所示的实施例中，支承足组件50包括多个支承足52。具体地，支架10包括四个支承足52，每个支承足52大体上位于支架10的下角部54附近。如图所示，支承足52中的两个与侧壁18a相关联，而支承足52中的另两个与侧壁18b相关联。

支承足52能够在收回位置(图3)与展开位置(图1)之间移动。在所示和所描述的示意性实施例中，支承足52在收回位置与展开位置之间能够枢转地移动。凸耳56自侧壁18a、18b向外延伸，并且每个支承足52能够枢转地连接至凸耳56，以便实现在枢转轴线58上的枢转运动。开口59在每个侧壁18a、18b中靠近凸耳56地形成，并且支承足52部分地穿过开口59延伸，从而每个支承足52的一部分大体上位于相应的侧壁18a、18b以内，而每个支承足52的另一部分大体上位于相应的侧壁18a、18b以外。当处于展开位置时，支承足52自相应的侧壁18a、18b(图1)向外延伸。

在替代的实施例中，支承足52可以被构造成在其相应的收回位置与展开位置之间以除了枢转以外的其它方式移动，例如以直线或轨道运动的方式移动。

如图1A所示，每个支承足52包括上表面60以及相反的底表面62。在所示的实施例中，上表面60和底表面62大体平行。在支承足52处于展开位置时，底表面62处于大体上水平的朝向(图1)。在支承足52处于收回位置时，底表面62处于倾斜、非水平的朝向(图3)。

上表面60比底表面62延伸更短的长度，并且斜表面64自上表面60朝向底表面62向下地延伸。斜表面64和底表面62在末端66处相交，其中所述末端如图所示可以是圆角的。每个支承足52的枢转轴线58延伸穿过位于上表面60下方且邻近上表面60与斜表面64的交汇处的枢转点68。

大体上与末端66相反地，上表面60和底表面62由后表面70相连。每个支承足52包括与后表面70相邻并尤其与后表面70和底表面62的交汇处相邻的跟部72。在所示的实施例中，跟部72在底表面62稍下方延伸。

调整机构80被设置，以便移动或调整一个或多个支承足52。具体地，调整机构80可以被用于使得支承足52移动到各自的收回位置、和/或使得支承足52移动到各自的展开位置。例如，调整机构80可以被用于使得支承足52在(1)其收回位置与(2)其展开位置之间移动；或者在(1)其展开位置与(2)其收回位置之间移动。另外，调整机构80可以被用于使得支承足52在(1)任何其收回位置与其展开位置中间的位置与(2)收回位置之间移动；或者在(1)任何其收回位置与其展开位置中间的位置与(2)展开位置之间移动。

在所示的实施例中，调整机构80包括与支架本体14的一侧相关的特征以及与支架本体的另一侧相关的类似特征。具体地，调整机构80包括手指致动的杠杆件82a、82b以及连杆84a、84b。连杆84a、84b将相应的杠杆件82a、82b与同对应的侧壁18a、18b相关联的支承足52中的至少一个支承足操作性相连。具体地，杠杆件82a经由连杆84a与同侧壁18a相关联的两个支承足52操作性相连。杠杆件82a和连杆84a在图4中例如示出。类似地，杠杆件82b经由连杆84b与同侧壁18b相关联的两个支承足52操作性相连。图6A至6E中提供的视图示出了杠杆件82a和连杆84a与支架本体14的一侧相关联，而杠杆件82b和连杆84b与支架本体14的另一侧相关联。

如图所示，杠杆件82a、82b定位在把手28a、28附近，并且包括大体上水平延伸的指凸片86a、86b。杠杆件82a、82b可以沿着上下方向被移动，例如通过接合指凸片86a、86b而被移动。连杆84a、84b大体上定位在侧壁18a、18b内侧。

每个连杆84a、84b包括横梁88，其与相关联的对应杠杆件82、82b相连并位于该杠杆件下方。每个横梁88经由连接杆90与相关联的支承足52相连。具体地，每个横梁88在连接部92处与连接杆90相连。每个连接杆90自横梁88穿过上托盘26的切口44以及底托盘24的切口45向下延伸，并且在连接部94处与支承足52相连。具体地，连接杆90在连接部94处与支承足52的跟部72相连。例如，连接杆90与横梁88之间的连接部92可以是能够枢转的连接部。类似地，连接杆90与支承足52之间的连接部94例如也可以是能够枢转的连接部。

杠杆件82a、82b的上下移动因而使得连杆84a、84b相应上下移动。连杆84a、84b的上下移动转而使得支承足52绕相应的枢转轴线58枢转移动。具体地，杠杆件82a、82b的向上移动使得支承足52朝向其相应的收回位置枢转。杠杆件82a、82b的向下移动使得支承足52朝向其相应的展开位置枢转。

杠杆件82a、82b和/或连杆84a、84b的移动可以被约束成，支承足52无法移动超过收回和展开位置。为此目的，限位组件96可以被设置，以便限制连杆84a、84b上下移动的程度。具体地，每个连杆84a、84b包括两个这样的限位组件96。每个限位组件96包括穿过横梁88延伸的引导沟槽98，以及自相应的侧壁18a、18b延伸且在引导沟槽98内接收的立柱100。每个引导沟槽98在上端102与下端104之间延伸。横梁88可以向下移动，直至立柱100到达引导沟槽98的上端102并且使得横梁88的进一步向下移动停止。在另一方向上，横梁88可以向上移动，直至立柱100到达引导沟槽98的下端104并且使得横梁88的进一步向上移动停止。除了限制横梁88的移动程度以外，引导沟槽98还将横梁88的移动方向限于上下方向。

在本实用新型的一些实施例中，支承足52可以被构造成自动地移动至其相应的展开位置。例如，包括杠杆件82a、83b和连杆84a、84b的调整机构80的重量可以倾向于使得支承足52朝向其相应的展开位置枢转。通过使得杠杆件82a、82b和连杆84a、84b向上移动，支承足52可以移动至其相应的收回位置。只要杠杆件82a、82b和连杆84a、84b被向上地保持，则支承足52将停留在收回位置。在杠杆件82a、82b被释放之后，杠杆件82a、82b和连杆84a、84b的重量使得它们向下移动，因而使得支承足52自动地移动至其相应的展开位置。

在本实用新型的其它实施例中，支承足52可以不是自动地移动至任何位置。实际上，支承足52可以选择性地移动至其相应的收回和展开位置，这是通过操纵支承足52本身来实现，例如通过推或拉上表面60、底表面62、斜表面64、末端66、后表面70以及跟部72中的任何一个来实现。

接着参看图5、6A至6E以及7，现在说明支架10与温控浴槽12一起的使用。温控浴槽12包括壳体110，其中所述壳体保持供应有工作流体14的储存器112。储存器112大体上包括储存器侧壁113a、113b、以及储存器底部115。储存器侧壁113a、113b自储存器底部115向上延伸。温控浴槽12可以包括一个或多个温控单元，例如加热单元和/或冷却单元，用于调整储存器112中的工作流体114的温度。

壳体110包括上表面116。上表面116中的开口118提供对于储存器112以及在其内的工作流体114触用。温控浴槽12还可以包括盖120，所述盖120与壳体110配合以覆盖开口118。

如上所述，支架10包括用于支承一个或多个器皿22的器皿支承件20。在所示的实施例中，器皿22为试管的形式，但是可以清楚，其它形式的器皿也可以与支架10一起使用，例如药瓶、烧杯等器皿。每个器皿22大体上包括器皿本体122，所述器皿本体在底端124与上端126之间延伸。对于所示的器皿22而言，底端124是圆角的和封闭的，并且上端126是敞开的。器皿本体122提供了用于容纳材料试样的内部空间128。

器皿22由器皿支承件22如下地支承。如图6A所示，器皿22被定位在器皿支承件20的上托盘26上方。具体地，器皿22与上托盘26中的开口42对正。器皿22朝向底托盘24被降低穿过开口42。器皿被进一步降低，直至底端124到达底托盘24并且接收在底托盘24的开口40中，如图6B所示。在该位置，开口40接收器皿本体122的一部分，并且开口42接收器皿本体122的另一部分(大体上，底端124)。开口40、42还可以提供例如工作流体114从器皿22和支架10排出的通道。为此目的，支架10还可以包括提供用于工作流体114排泄通道的开口。

具有器皿22的支架10可以被放置在温控浴槽12中。例如，使用者可以由把手28a、28b来抓持支架10并且将支架10保持在温控浴槽12上方。如图6B所示，具有器皿22的支架10被定位在温控浴槽12的壳体110中的开口118上方。如果支承足仍未处于收回位置的话，则支承足52移动至其各自的收回位置。例如，调整机构80可以被操作以使得支承足52移动至其各自的收回位置。在支承足52处于收回位置的情况下，支架10可以装配在储存器侧壁113a、113b之间并且可以被降低到储存器112中。具体地，支架10可以被降低到储存器112中，从而器皿22与工作流体114接触。

如图6C所示，支架10被降低到储存器112中，直至支架安坐在储存器底部115上。在该位置，支架10以及尤其器皿支承件20将器皿22支承在工作流体114中。工作流体114的温度通过温控浴槽12被控制。器皿22与其周围的工作流体114热学接触，并且因而，温控浴槽12可以提供在器皿22内包含的材料试样的温度控制。例如，工作流体114可以被维持在低温，以将器皿22及其材料试样维持在低温。替代性地，工作流体114可以维持在暖温，以将器皿22及其材料试样维持在暖温。另外如图6C所示，当支架10位于储存器112内部时，盖120可以被放置附着在开口118上。

支架10可以被升高离开储存器112，如图6D所示。例如，使用者可以由把手28a、28b抓持支架10，并且将支架10向上提升。例如，使用者可以将支架10从存储器112卸下，以便取用器皿22。支架10被向上升高并且穿过壳体110中的开口118。支承足52大体上不会妨碍支架10在储存器112中的升高，即使支承足52接合储存器侧壁113a、113b。例如，即使支承足52将朝向其相应的收回位置移动，储存器侧壁113a、113b也可以约束支承足52不达到其相应的展开位置，如图6C和6D所示。

在支架10升高至合适的高度后，支承足52移动至其相应的展开位置。在一些实施例中，当支承足52穿过开口118升高或经过开口118时，支承足52自动地移动至其相应的展开位置，并且不再由储存器侧壁113a、113b约束而无法枢转至展开位置。在其它实施例中，支承足52可以被手动地移动至其相应的展开位置。例如，使用者可以操作调整机构80，或者支承足52本身可以被接合，以将支承足52移动至其相应的展开位置。

在支承足52处于其相应的展开位置之后，支架10可以安坐在温控浴槽12的壳体110上，如图6E和7所示。具体地，支承足52的底表面62可以安坐在壳体110的上表面116上。在支承足52处于其相应的展开位置时，支承足52阻止支架10降低到储存器112中的工作流体114中。如图6E和7所示，包括支承足52的支承足组件50支承支架10，以使得包括器皿支承件20和器皿22的大部分支架10悬置在壳体110的开口118上方且位于储存器112中的工作流体114上方。因而，支架10或器皿22上的任何残余工作流体114可以被排回到位于支架10的直接下方的储存器112中。

在期望将支架10置回到储存器112中时，使用者如上所述地将支承足52移动至其相应的收回位置，并且如上所述地降低支架10。

有利地，因为支架10可以置于温控浴槽12上，所以在支架10从温控浴槽12被取出时无需将支架10放置到另一容器内、一托盘上或一吸收材料上。并且因为支架10安坐在储存器112直接上方，所以工作流体114可以直接排回到储存器112中。工作流体114因而不太可能向周围扩散并且污染实验室环境。另外，储存器112中工作流体114的供应未减少，因而消除了像现有技术中的支架情况中出现的补充工作流体的需求。

进一步有利地，支架10可以与多种类型的温控浴槽一起使用，并且与多种类型的器皿或其它容器一起使用。在支承足52自动地移动至其吸纳供应的展开位置的情况中，使用者可以简单地将支架10从储存器112升高，并且立刻将支架10设定成安坐在壳体110的上表面116上。因而，无需将支承足52移动至其相应的展开位置的附加步骤。另外，通过使得支承足52移动至其相应的收回位置并将支架10降低到储存器112中，支架10可以被放回到储存器112中。

尽管本实用新型已经由其示意性实施例予以说明，并且尽管各实施例已经被非常详细地说明，但是申请人不打算约束或以任何方式限制所附权利要求书的范围至这些细节。本领域技术人员将容易了解附加的优点以及改型。因此，本实用新型在其宽广的方面中并不限于代表性设备和方法的具体细节以及所示和所述的示意性实例。因此，在不脱离申请人的发明构思的精神或范围的前提下，可以对这些细节进行改变。

Claims (15)

1.一种用于与温控浴槽一起使用的支架，其中所述温控浴槽具有壳体，所述壳体包括供应有工作流体的储存器以及提供对所述储存器触用的开口，其特征在于，所述支架包括：

支架本体；

器皿支承件，其中所述器皿支承件由所述支架本体支承并以支承至少一个器皿的方式被构造；以及

支承足组件，其中所述支承足组件由所述支架本体支承并包括多个支承足，每个支承足以适于在收回位置与展开位置之间移动的方式被构造。

2.根据权利要求1所述的支架，其特征在于，还包括调整机构，所述调整结构适于使得至少一个支承足从所述展开位置移动至所述收回位置。

3.根据权利要求2所述的支架，其特征在于，所述调整机构包括手指致动的杠杆件以及将所述杠杆件与所述至少一个支承足操作性相连的连杆。

4.根据权利要求3所述的支架，其特征在于，还包括把手，所述手指致动的杠杆件位于所述把手附近。

5.根据权利要求1至4任一所述的支架，其特征在于，每个支承足以适于自动地移动至所述展开位置的方式被构造。

6.根据权利要求1至4任一所述的支架，其特征在于，每个支承足包括上表面、与所述上表面相反的底表面、以及自所述上表面朝向所述底表面延伸的斜表面。

7.根据权利要求1至4任一所述的支架，其特征在于，所述支承足组件包括四个支承足。

8.根据权利要求7所述的支架，其特征在于，每个支承足大体上位于所述支架的下角部附近。

9.根据权利要求1至4任一所述的支架，其特征在于，所述支架本体包括底座、第一侧壁、以及第二侧壁，所述第一侧壁和第二侧壁自所述底座向上延伸并且支承所述器皿支承件，并且每个支承足在移动至所述展开位置时自所述第一侧壁和第二侧壁之一向外延伸。

10.根据权利要求9所述的支架，其特征在于，所述支承足组件包括与所述第一侧壁相关联的两个支承足以及与所述第二侧壁相关联的两个支承足。

11.一种组件，其特征在于，所述组件包括：

温控浴槽，其中所述温控浴槽具有壳体，所述壳体包括供应有工作流体的储存器以及提供对所述储存器触用的开口；以及

用于与所述温控浴槽一起使用的支架，所述支架包括：

支架本体；

器皿支承件，其中所述器皿支承件由所述支架本体支承并以支承至少一个器皿的方式被构造；以及

支承足组件，其中所述支承足组件由所述支架本体支承并包括多个支承足，每个支承足以适于在收回位置与展开位置之间移动的方式被构造。

12.根据权利要求11所述的组件，其特征在于，在所述支承足移动至所述收回位置时，所述支架适于降低到所述储存器内的工作流体中；并且在所述支承足移动至所述展开位置时，所述支架被禁止降低到所述储存器内的工作流体中。

13.根据权利要求11或12所述的组件，其特征在于，所述壳体具有上表面，并且每个支承足包括底表面，所述底表面以当所述支承足移动至所述展开位置时安坐在所述上表面上的方式被构造，所述底表面在所述展开位置处于大体水平的朝向并且在所述收回位置处于倾斜的朝向。

14.根据权利要求11或12所述的组件，其特征在于，所述支架被限定为根据权利要求1至10任一所述的支架。

15.根据权利要求13所述的组件，其特征在于，所述支架被限定为根据权利要求1至10任一所述的支架。