CN204807438U - 用于光谱采集的电致化学发光反应池空间位置调控装置 - Google Patents
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Abstract
一种用于光谱采集的电致化学发光反应池空间位置调控装置，包括反应池安装平台和三维移动装置；三维移动装置包括水平纵向调节单元、升降调节单元和水平横向调节单元，升降调节单元设置在水平纵向调节单元上，水平横向调节单元设置在升降调节单元上；反应池安装平台设置在水平横向调节单元上。该装置依靠三个独立的滑动螺旋移动单元了精密调节被检测ECL反应池的空间位置，滑动螺旋副的摩擦力和自锁性能可实现滑座的准确定位，解决了一般商品化的电致化学发光检测分析仪器中的ECL反应池位置固定不能调节而导致无法采集相应的光谱信息的问题，且操作灵活方便。
Description
技术领域
本实用新型涉及一种用于电致化学发光反应池的空间位置进行调控的装置，属于电致化学发光反应池空间位置调控技术领域。
背景技术
电致化学发光(ECL)是一种利用电化学反应提供的化学能激发某种物质并使之产生光辐射的分析技术。目前，电致化学发光检测分析仪器广泛应用于药物分析、生命科学、临床诊断、食品安全及环境检测等领域。
现有商品化的电致化学发光分析仪器没有色散装置，其ECL反应池的空间位置不能调整，无法采集相应的光谱信息。研制ECL反应池的空间位置调控装置使得ECL辐射经入射狭缝后最大限度地进入色散系统是研制光谱型ECL检测装置的关键技术之一。
实用新型内容
本实用新型针对现有电致化学发光分析仪器中电致化学发光(ECL)反应池的空间位置不能调整、无法采集相应光谱信息的问题，提供一种用于光谱采集的电致化学发光反应池空间位置调控装置，该装置通过精确调整ECL反应池相对位置使得工作电极表面处于色散系统收集物镜的焦距上，以便最大限度收集ECL辐射，提高入射光通量，使ECL辐射有效进入光谱检测装置。
本实用新型的用于光谱采集的电致化学发光反应池空间位置调控装置，采用以下技术方案：
该装置，包括反应池安装平台和三维移动装置；三维移动装置包括水平纵向调节单元、升降调节单元和水平横向调节单元，升降调节单元设置在水平纵向调节单元上，水平横向调节单元设置在升降调节单元上；反应池安装平台设置在水平横向调节单元上。
所述水平纵向调节单元包括底座、纵向滑移导轨、纵向滑动螺杆和纵向移动滑座，底座上设置有纵向滑移导轨，纵向移动滑座安装在纵向滑移导轨上并与所述上下升降调节单元的立板连接在一起，纵向滑动螺杆安装于底座上并与设置于纵向移动滑座上的的螺母副连接。
所述升降调节单元包括立板、竖直滑移导轨、升降滑动螺杆和升降滑座，立板上设置有竖直滑移导轨，升降滑座安装在竖直滑移导轨上，升降滑动螺杆通过轴承座安装在立板上并与设置在升降滑座上的螺母副连接。
所述水平横向调节单元包括托架、横向滑移导轨、横向滑动螺杆和横向移动滑座，托架与所述水平横向位置调节单元中的升降滑座固定连接，托架两侧设置有横向滑移导轨，横向移动滑座安装在横向滑移导轨上，横向滑动螺杆通过轴承座安装在托架上并与设置在横向移动滑座底部的螺母副连接。
所述反应池安装平台上设置有反应池安装孔，该安装孔为通孔。
上述装置在使用时，将ECL反应池安装在反应池安装平台上的反应池安装孔中，该通孔使ECL反应池中的工作电极产生的光可传送到物镜中。分别旋动横向滑动螺杆、纵向滑动螺杆和升降滑动螺杆，通过螺旋传动副将回转运动转变为直线运动，带动横向移动滑座、纵向移动滑座和升降滑座沿水瓶横向、水平纵向和上下竖直方向移动，调整反应池安装平台上的ECL反应池的空间位置，使得工作电极表面处于色散系统收集物镜的焦距上，以便最大限度收集ECL辐射，提高入射光通量，使ECL辐射有效进入光谱检测装置。
本实用新型依靠三个独立的滑动螺旋移动单元实现ECL反应池在X、Y、Z三个坐标方向上的移动调节，以精密调节被检测ECL反应池的空间位置，滑动螺旋副的摩擦力和自锁性能可实现滑座的准确定位，解决了一般商品化的电致化学发光检测分析仪器中的ECL反应池位置固定不能调节而导致无法采集相应的光谱信息的问题，且操作灵活方便。
附图说明
图1是本实用新型的ECL反应池位置调控装置的俯视结构示意图。
图2是图1的左视图。
图中：1、托架，2、横向滑移导轨，3、横向滑动螺杆，4、横向移动滑座，5、轴承座，6、反应池安装平台，7、横向调节旋钮，8、立板，9、竖直滑移导轨，10、升降滑座，11、升降调节旋钮，12、底座，13、纵向滑移导轨，14、纵向移动滑座，15、纵向调节旋钮，16、沉头孔，17、通孔，18、纵向滑动螺杆，19、升降滑动螺杆。
具体实施方式
如图1和图2所示，本实用新型的用于电致化学发光反应池空间位置调控装置主要包括三维移动装置和反应池安装平台6。三维移动装置包括水平纵向调节单元、升降调节单元和水平横向调节单元，升降调节单元设置在水平纵向调节单元上，水平横向调节单元设置在升降调节单元上。反应池安装平台6固定在水平横向调节单元中的横向移动滑座4上。
所述水平纵向调节单元，包括底座12、纵向滑移导轨13、纵向滑动螺杆18和纵向移动滑座14。纵向滑移导轨13设置在底座12上。纵向移动滑座14安装在纵向滑移导轨13上。纵向滑动螺杆18通过轴承座安装于底座12上，且与设置于纵向移动滑座14上的螺母副配合连接。纵向滑动螺杆18的一端设有纵向调节旋钮15。转动纵向调节旋钮15，使纵向滑动螺杆18一起转动，带动纵向滑座14纵向移动。纵向滑座14纵向移动时整个升降调节单元随之纵向移动。
所述升降调节单元，包括立板8、竖直滑移导轨9、升降滑动螺杆19和升降滑座10。立板8与水平纵向位置调节单元中的纵向移动滑座14固定连接。立板8上设置有竖直滑移导轨9。升降滑座10安装在竖直滑移导轨9上。升降滑动螺杆19通过轴承座安装于立板8上，且与设置于升降滑座10上的螺母副配合连接。升降滑动螺杆19的上部伸出端设有升降调节旋钮11。转动升降调节旋钮11，使升降滑动螺杆19一起转动，带动升降滑座10上下移动。升降滑座10上下移动时整个水平横向位置调节单元随之上下移动。
所述水平横向位置调节单元，包括托架1、横向滑移导轨2、横向滑动螺杆3和横向移动滑座4。托架1固定连接在所述水平横向位置调节单元中的升降滑座10上。横向滑移导轨2为燕尾槽结构，采用螺钉对称安装于托架1的两侧。横向移动滑座4通过底部两侧的倒燕尾槽结构安装在横向滑移导轨2上，可在横向滑移导轨2上移动。横向滑动螺杆3的两端分别通过轴承座5安装在托架1上，且与设置在横向移动滑座4底部的螺母副配合连接，横向滑动螺杆3的伸出端设有调节旋钮7。转动调节旋钮7，使横向滑动螺杆3一起转动，使横向移动滑座3在水平面内横向移动。
反应池安装平台6采用螺钉连接在横向移动滑座4上，可随横向移动滑座4一起移动。反应池安装平台6为边长为50×100mm的长方形，在反应池安装平台6的一侧加工3～5mm深的沉头孔16，用以安装ECL反应池。沉头孔16直径大小依据所安装的ECL反应池直径确定，沉头孔16的底部中心设置直径5～8mm的通孔17，使ECL反应池中的工作电极产生的光可传送到物镜中。
上述装置在实施ECL反应池位置调节时，将ECL反应池安装于反应池安装平台6的沉头孔16中，通过横向调节旋钮7转动横向滑动螺杆3，驱动横向移动滑座4和反应池安装平台6沿横向滑移导轨2做水平横向运动，实现ECL反应池水平横向位置的调节。水平横向位置调节单元与升降滑座10连接成一体，转动升降调节旋钮11可实现升降滑座10与水平横向位置调节单元的上下移动，从而实现ECL反应池上下位置的调节。升降调节单元与纵向移动滑座14连接成一体，转动纵向调节旋钮15可实现纵向移动滑座14与升降调节单元的水平纵向移动，从而实现ECL反应池水平纵向位置的调节。由此实现ECL反应池X、Y、Z三个空间位置坐标方向的移动调节，使得工作电极表面处于色散系统收集物镜的焦距上，以便最大限度收集ECL辐射，提高入射光通量，使ECL辐射有效进入光谱检测装置。滑动螺旋副的摩擦力和自锁性能可实现各滑座的准确定位。
Claims (5)
1.一种用于光谱采集的电致化学发光反应池空间位置调控装置，其特征是，包括反应池安装平台和三维移动装置；三维移动装置包括水平纵向调节单元、升降调节单元和水平横向调节单元，升降调节单元设置在水平纵向调节单元上，水平横向调节单元设置在升降调节单元上；反应池安装平台设置在水平横向调节单元上。
2.根据权利要求1所述的用于光谱采集的电致化学发光反应池空间位置调控装置，其特征是，所述水平纵向调节单元包括底座、纵向滑移导轨、纵向滑动螺杆和纵向移动滑座，底座上设置有纵向滑移导轨，纵向移动滑座安装在纵向滑移导轨上并与所述升降调节单元的立板连接在一起，纵向滑动螺杆安装于底座上并与设置于纵向移动滑座上的的螺母副连接。
3.根据权利要求1所述的用于光谱采集的电致化学发光反应池空间位置调控装置，其特征是，所述升降调节单元包括立板、竖直滑移导轨、升降滑动螺杆和升降滑座，立板上设置有竖直滑移导轨，升降滑座安装在竖直滑移导轨上，升降滑动螺杆通过轴承座安装在立板上并与设置在升降滑座上的螺母副连接。
4.根据权利要求1所述的用于光谱采集的电致化学发光反应池空间位置调控装置，其特征是，所述水平横向调节单元包括托架、横向滑移导轨、横向滑动螺杆和横向移动滑座，托架与所述水平横向位置调节单元中的升降滑座固定连接，托架两侧设置有横向滑移导轨，横向移动滑座安装在横向滑移导轨上，横向滑动螺杆通过轴承座安装在托架上并与设置在横向移动滑座底部的螺母副连接。
5.根据权利要求1所述的用于光谱采集的电致化学发光反应池空间位置调控装置，其特征是，所述反应池安装平台上设置有反应池安装孔，该安装孔为通孔。
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