CN204769030U - 研磨空间可调的钕铁硼永磁材料气流磨粉装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及研磨空间可调的钕铁硼永磁材料气流磨粉装置，其包括有气磨室，气磨室中设置有延伸至气磨室内部的进料管道、出料管道与气磨管道；所述出料管道于气磨室内部的端部设置有分选轮，所述气磨管道连接有空气压缩机；所述研磨空间可调的钕铁硼永磁材料气流磨粉装置中，气磨室内部设置有定位盘；所述气磨室上端面设置有液压缸，其推杆连接于定位盘的上端面；采用上述技术方案的研磨空间可调的钕铁硼永磁材料气流磨粉装置，其可通过液压缸控制定位盘的升降，使得气磨室内的磁性材料研磨空间根据物料的数量以及相关需要进行实时调节，从而避免过大的研磨空间造成的物料研磨精度不佳，粉末粒度分布范围大等现象。

Description

研磨空间可调的钕铁硼永磁材料气流磨粉装置

技术领域

本实用新型涉及一种磁体加工设备，尤其是研磨空间可调的钕铁硼永磁材料气流磨粉装置。

背景技术

永磁材料的生产与开发应用是现代国家经济发展程度的标志之一，而永磁材料中，钕铁硼永磁材料由于其优秀的性能被广泛运用。钕铁硼永磁材料的生产与加工过程中，需通过气磨机对其进行破碎，使得成为更为细致的磁粉。然而，钕铁硼材料在加工过程中，其所采用的气磨设备中的气磨室大小通常恒定。由于生产过程中，每次研磨所添加的物料数量均有所不同，当物料数量较小时，对其采用较大的气磨室进行研磨，则会出现研磨精度不足等现象，以导致研磨后的粉末的粒度分布范围较大，使得成型磁体的性能亦存在相当的波动；而对上述现象采用多种规格的气磨机则会大大增加其加工成本。

实用新型内容

本实用新型要解决的技术问题是提供一种钕铁硼永磁材料气流磨粉装置，其可使得用于研磨的气磨室空间可调。

为解决上述技术问题，本实用新型涉及一种研磨空间可调的钕铁硼永磁材料气流磨粉装置，其包括有气磨室，气磨室中设置有延伸至气磨室内部的进料管道、出料管道与气磨管道；所述出料管道于气磨室内部的端部设置有分选轮，所述气磨管道连接有空气压缩机；所述研磨空间可调的钕铁硼永磁材料气流磨粉装置中，气磨室内部设置有直径与气磨室直径相等，且与气磨室同轴的定位盘；所述气磨室上端面设置有液压缸，其推杆延伸至气磨室内部，且固定连接于定位盘的上端面。

作为本实用新型的一种改进，所述气磨室中，进料管道与出料管道分别通过伸缩管道延伸至定位盘的下端面；所述伸缩管道的最大长度与气磨室的高度相等。采用上述设计，其可通过伸缩管道的设置使得进料管道与出料管道均可直接连接至，定位盘与气磨室下端面所构成空间，并可通过伸缩管道随定位盘的升降而实时伸缩，以确保磁性材料粉末在进行进料与出料过程中的密闭性，避免其遗落至定位盘上部区域。

作为本实用新型的一种改进，所述气磨室中，气磨室内壁之上设置有在竖直方向延伸的滑轨；所述定位盘中，滑轨的对应位置设置有滑块；所述滑块延伸至滑轨内部。采用上述设计，其可通过滑块与滑轨使得定位盘在竖直方向上运动过程中的稳定性得以增加。

作为本实用新型的一种改进，所述气磨室中，气磨室内壁之上设置有至少3条滑轨；相邻两条滑轨与气磨室轴线所处平面之间的夹角相等。采用上述设计，其可通过多条滑轨的位置设置，使得定位盘的稳定性进一步得以改善。

作为本实用新型的一种改进，所述滑轨的深度至少为气磨室内壁厚度的1/2；所述滑块的形状及大小与滑轨相同，其可确保滑轨与滑块之间具有相当的强度，以确保定位盘的稳定性。

作为本实用新型的一种改进，所述定位盘中，其侧端面上设置有沿定位盘上端面延伸至其下端面的橡胶套，其可避免定位盘移动过程中发生损耗，并可提高定位盘的密闭性。

作为本实用新型的一种改进，所述气磨室内部，其侧端面的上部与下部分别设置有限位环。采用上述设计，其可通过限位环避免定位盘的过升与过降，从而避免设备的损坏。

作为本实用新型的一种改进，所述限位环的环径至少为气磨室半径的1/6；所述限位环与定位盘的相对端面上设置有海绵。采用上述设计，其可确保限位环可对定位盘起到足够的支撑作用，并可通过其端面上设置的海绵避免其彼此间触碰时发生损坏。

采用上述技术方案的研磨空间可调的钕铁硼永磁材料气流磨粉装置，其可通过液压缸控制定位盘的升降，使得气磨室内的磁性材料研磨空间根据物料的数量以及相关需要进行实时调节，从而避免过大的研磨空间造成的物料研磨精度不佳，粉末粒度分布范围大等现象。

附图说明

图1为本实用新型示意图；

图2为本实用新型中定位盘俯视图；

图3为本实用新型中定位盘径向截面图；

附图标记列表：

1—气磨室、2—进料管道、3—出料管道、4—气磨管道、5—分选轮、6—空气压缩机、7—定位盘、8—液压缸、9—伸缩管道、10—滑轨、11—滑块、12—橡胶套、13—限位环、14—海绵。

具体实施方式

下面结合附图和具体实施方式，进一步阐明本实用新型，应理解下述具体实施方式仅用于说明本实用新型而不用于限制本实用新型的范围。需要说明的是，下面描述中使用的词语“前”、“后”、“左”、“右”、“上”和“下”指的是附图中的方向，词语“内”和“外”分别指的是朝向或远离特定部件几何中心的方向。

如图1所示的一种研磨空间可调的钕铁硼永磁材料气流磨粉装置，其包括有气磨室1，气磨室1中设置有延伸至气磨室1内部的进料管道2、出料管道3与气磨管道4；所述出料管道3于气磨室1内部的端部设置有分选轮5，所述气磨管道4连接有空气压缩机6；所述研磨空间可调的钕铁硼永磁材料气流磨粉装置中，气磨室1内部设置有直径与气磨室1直径相等，且与气磨室1同轴的定位盘7；所述气磨室1上端面设置有液压缸8，其推杆延伸至气磨室1内部，且固定连接于定位盘7的上端面。

作为本实用新型的一种改进，所述气磨室1中，进料管道2与出料管道3分别通过伸缩管道9延伸至定位盘7的下端面；所述伸缩管道9的最大长度与气磨室的高度相等；所述伸缩管道9于定位盘内部部分均设置有电磁阀。采用上述设计，其可通过伸缩管道的设置使得进料管道与出料管道均可直接连接至，定位盘与气磨室下端面所构成空间，并可通过伸缩管道随定位盘的升降而实时伸缩，以确保磁性材料粉末在进行进料与出料过程中的密闭性，避免其遗落至定位盘上部区域。

作为本实用新型的一种改进，所述气磨室1中，气磨室内壁之上设置有3条在竖直方向延伸的滑轨10，相邻两条滑轨10与气磨室1轴线所处平面之间的夹角相等；所述定位盘7中，滑轨10的对应位置设置有滑块11；所述滑块11延伸至滑10轨内部。采用上述设计，其可通过滑块与滑轨使得定位盘在竖直方向上运动过程中的稳定性得以增加；多条滑轨的位置设置，使得定位盘的稳定性进一步得以改善。

采用上述技术方案的研磨空间可调的钕铁硼永磁材料气流磨粉装置，其可通过液压缸控制定位盘的升降，使得气磨室内的磁性材料研磨空间根据物料的数量以及相关需要进行实时调节，从而避免过大的研磨空间造成的物料研磨精度不佳，粉末粒度分布范围大等现象。

实施例2

作为本实用新型的一种改进，所述滑轨10的深度为气磨室1内壁厚度的1/2；所述滑块11的形状及大小与滑轨10相同，其可确保滑轨与滑块之间具有相当的强度，以确保定位盘的稳定性。

作为本实用新型的一种改进，所述定位盘7中，其侧端面上设置有沿定位盘7上端面延伸至其下端面的橡胶套12，其可避免定位盘移动过程中发生损耗，并可提高定位盘的密闭性。

本实施例其余特征与优点均与实施例1相同。

实施例3

作为本实用新型的一种改进，所述气磨室1内部，其侧端面的上部与下部分别设置有限位环13。采用上述设计，其可通过限位环避免定位盘的过升与过降，从而避免设备的损坏。

作为本实用新型的一种改进，所述限位环13的环径为气磨室半径的1/6；所述限位环13与定位盘7的相对端面上设置有海绵14。采用上述设计，其可确保限位环可对定位盘起到足够的支撑作用，并可通过其端面上设置的海绵避免其彼此间触碰时发生损坏。

本实施例其余特征与优点均与实施例2相同。

Claims (8)

1.研磨空间可调的钕铁硼永磁材料气流磨粉装置，其包括有气磨室，气磨室中设置有延伸至气磨室内部的进料管道、出料管道与气磨管道；所述出料管道于气磨室内部的端部设置有分选轮，所述气磨管道连接有空气压缩机，其特征在于，所述研磨空间可调的钕铁硼永磁材料气流磨粉装置中，气磨室内部设置有直径与气磨室直径相等，且与气磨室同轴的定位盘；所述气磨室上端面设置有液压缸，其推杆延伸至气磨室内部，且固定连接于定位盘的上端面。

2.按照权利要求1所述的研磨空间可调的钕铁硼永磁材料气流磨粉装置，其特征在于，所述气磨室中，进料管道与出料管道分别通过伸缩管道延伸至定位盘的下端面；所述伸缩管道的最大长度与气磨室的高度相等。

3.按照权利要求2所述的研磨空间可调的钕铁硼永磁材料气流磨粉装置，其特征在于，所述气磨室中，气磨室内壁之上设置有在竖直方向延伸的滑轨；所述定位盘中，滑轨的对应位置设置有滑块；所述滑块延伸至滑轨内部。

4.按照权利要求3所述的研磨空间可调的钕铁硼永磁材料气流磨粉装置，其特征在于，所述气磨室中，气磨室内壁之上设置有至少3条滑轨；相邻两条滑轨与气磨室轴线所处平面之间的夹角相等。

5.按照权利要求4所述的研磨空间可调的钕铁硼永磁材料气流磨粉装置，其特征在于，所述滑轨的深度至少为气磨室内壁厚度的1/2；所述滑块的形状及大小与滑轨相同。

6.按照权利要求5所述的研磨空间可调的钕铁硼永磁材料气流磨粉装置，其特征在于，所述定位盘中，其侧端面上设置有沿定位盘上端面延伸至其下端面的橡胶套。

7.按照权利要求1所述的研磨空间可调的钕铁硼永磁材料气流磨粉装置，其特征在于，所述气磨室内部，其侧端面的上部与下部分别设置有限位环。

8.按照权利要求7所述的研磨空间可调的钕铁硼永磁材料气流磨粉装置，其特征在于，所述限位环的环径至少为气磨室半径的1/6；所述限位环与定位盘的相对端面上设置有海绵。