CN204702661U - 一种可钢化单银low-e玻璃 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种可钢化单银LOW-E玻璃，包括有玻璃基片，在所述的玻璃基片的复合面上由内到外依次相邻地复合有十二个膜层，其特征在于：其中第一膜层即最内层为SiNx层，第二膜层为TiO2层，第三膜层为NiCr层，第四膜层为Ag层，第五膜层为NiCr层，第六层膜为TiO2层，第七膜层为SiNx层，第八膜层即最外层为SiC层。本实用新型目的是克服了现有技术的不足，提供一种膜层抗机械划伤能力强及耐热性能好，透过率高，反射率低，遮阳系数小，钢化后颜色偏差小的可钢化单银LOW-E玻璃。
Description
【技术领域】
本实用新型涉及一种镀膜玻璃，更具体地说是一种可钢化单银LOW-E玻璃。
【背景技术】
玻璃是在当代的生产和生活中扮演着重要角色，镀膜玻璃广泛应用，但是现有的镀膜玻璃膜层容易划伤，抗热性能差，光透过率低，反射率高，遮阳系数高，钢化后颜色偏差大。
【实用新型内容】
本实用新型目的是克服了现有技术的不足，提供一种膜层抗机械划伤能力强及耐热性能好，透过率高，反射率低，遮阳系数小，钢化后颜色偏差小的可钢化单银LOW-E玻璃。
本实用新型是通过以下技术方案实现的：
一种可钢化单银LOW-E玻璃，包括有玻璃基片1，在所述的玻璃基片1的复合面上由内到外依次相邻地复合有十二个膜层，其特征在于：其中第一膜层即最内层为SiNx层21，第二膜层为TiO2层22，第三膜层为NiCr层23，第四膜层为Ag层24，第五膜层为NiCr层25，第六层膜为TiO2层26，第七膜层为SiNx层27，第八膜层即最外层为SiC层28。
与现有技术相比，本实用新型有如下优点：
1、本玻璃使用SiC作顶膜进一步提高镀膜层的抗机械划伤能力及耐热性能，与SiNx膜组合使用使膜层的硬度进一步提高，降低了加工的难度，更方便加工，SiC与SiNx光学性能接近。
2、本玻璃利用SiNx作基膜及顶膜，提高膜层的硬度，可防止纳离子的注入破坏银层，使整个膜层在高温下耐热性更好，机械性更好，具有可见光高透过及对中远红外线高反射的特性。
3、本玻璃钢化后透光率T(透过透明或半透明体的光通量与其入射光通量的百分率)≥80％，辐射率≤0.1，反射率≤10，遮阳系数SC≤0.62。本玻璃辐射率≤0.04，辐射率是某物体的单位面积辐射的热量同单位面积黑体在相同温度、相同条件下辐射热量之比。辐射率定义是某物体吸收或反射热量的能力。玻璃的辐射率越接近于零，其绝热性能就越好。
4、本玻璃钢可合成中空使用，可满足异地钢化、中空加工使用。
5、本玻璃钢化后颜色偏差较小，a*＝-1.5～-2.5，b*＝-2.5～-3.5。
【附图说明】
图1是本实用新型结构示意图。
【具体实施方式】
一种可钢化单银LOW-E玻璃，包括有玻璃基片1，在所述的玻璃基片1的复合面上由内到外依次相邻地复合有十二个膜层，其中第一膜层即最内层为SiNx层21，第二膜层为TiO2层22，第三膜层为NiCr层23，第四膜层为Ag层24，第五膜层为NiCr层25，第六层膜为TiO2层26，第七膜层为SiNx层27，第八膜层即最外层为SiC层28。
所述最内层SiNx层21，即氮化硅层；SiNx是一种非常坚硬的材料，利用SiNx作基膜，提高膜层的硬度，可防止纳离子的注入破坏银层，使整个膜层在高温下耐热性更好，机械性更好，具有可见光高透过及对中远红外线高反射的特性。SiNx层21的厚度为15～25nm，优选20nm，nm是纳米，1m＝109nm。第七膜层SiNx层27的厚度为20～30nm，优选25nm。
所述的第二层TiO2层22，即钛的氧化物——二氧化钛。采用高折射率n＝2.5的TiO2是为了提高玻璃的透光率，降低银层的面电阻，减少银的消耗。二氧化钛层还起增透及颜色调节作用。所述第二膜层的TiO2层22、第六层膜层TiO2层26的厚度均为10～25nm。
所述第三膜层NiCr层23，即镍铬金属层，作为Ag层的保护层及平整层，提高耐氧化性能防止Ag层的氧化。所述第三膜层NiCr层23、第五膜层NiCr层25的厚度均为2～5nm。
所述第四膜层Ag层24，即金属银层，功能层，金属银提供了较低的辐射率，起环保节能的作用。所述第四膜层Ag层24的厚度为5～10nm。
所述最外层SiC层28，即碳化硅层，使用SiC作顶膜进一步提高镀膜层的抗机械划伤能力及耐热性能，与SiNx膜组合使用使膜层的硬度进一步提高，降低了加工的难度，更方便加工，SiC与SiNx光学性能接近。所述最外层SiC层28的厚度为30～60nm。
制备可钢化单银LOW-E玻璃的方法，包括如下步骤：
(1)磁控溅射SiNx层，用交流中频电源、氮气作反应气体溅射半导体材料，使用纯度为99.9％的Si靶作溅射；
(2)磁控溅射TiO2层，用中频交流电源、氩气作主反应气体的溅射半导体材料陶瓷Ti靶；
(3)磁控溅射NiCr层，用直流电源、氩气作主反应气体的金属溅射；
(4)磁控溅射Ag层，用直流电源、氩气作主反应气体的金属溅射；
(5)磁控溅射NiCr层，用直流电源、氩气作主反应气体的金属溅射；
(6)磁控溅射TiO2层，用中频交流电源、氩气作主反应气体的溅射半导体材料陶瓷Ti靶；
(7)磁控溅射SiNx层，用中频交流电源、氮气作主反应气体溅射半导体材料，使用纯度为99.9％的Si靶作溅射；
(8)磁控溅射SiC层，用中频交流电源，氩气作主反应气体溅射半导体陶瓷SiC靶；
LOW-E玻璃也叫做低辐射镀膜玻璃。
本玻璃钢化后颜色偏差较小，a*＝-1.5～-2.5，b*＝-2.5～-3.5。透过率≥80％，辐射率≤0.1，反射率为≤10％，遮阳系数SC≤0.62。
Claims (6)
1.一种可钢化单银LOW-E玻璃，包括有玻璃基片(1)，在所述的玻璃基片(1)的复合面上由内到外依次相邻地复合有十二个膜层，其特征在于：其中第一膜层即最内层为SiNx层(21)，第二膜层为TiO2层(22)，第三膜层为NiCr层(23)，第四膜层为Ag层(24)，第五膜层为NiCr层(25)，第六层膜为TiO2层(26)，第七膜层为SiNx层(27)，第八膜层即最外层为SiC层(28)。
2.根据权利要求1所述的可钢化单银LOW-E玻璃，其特征在于所述第一膜层的SiNx层(21)的厚度为15～25nm，第七膜层SiNx层(27)的厚度为20～30nm。
3.根据权利要求1所述的可钢化单银LOW-E玻璃，其特征在于所述第二膜层的TiO2层(22)、第六层膜层TiO2层(26)的厚度均为10～25nm。
4.根据权利要求1所述的可钢化单银LOW-E玻璃，其特征在于所述第三膜层NiCr层(23)、第五膜层NiCr层(25)的厚度均为2～5nm。
5.根据权利要求1所述的可钢化单银LOW-E玻璃，其特征在于所述第四膜层Ag层(24)的厚度为5～10nm。
6.根据权利要求1所述的可钢化单银LOW-E玻璃，其特征在于所述第八层即最外层SiC层(28)的厚度为30～60nm。
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Cited By (1)
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|---|---|---|---|---|
| CN115594415A (zh) * | 2022-09-26 | 2023-01-13 | 晓睿真空设备（嘉兴）有限公司（Cn） | 一种用于建筑单银Low-E玻璃的膜层结构及其制作工艺 |
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2015
- 2015-06-12 CN CN201520403710.9U patent/CN204702661U/zh not_active Expired - Fee Related
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