CN204672628U - 一种清洁残胶装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及显示技术领域，尤其涉及一种清洁残胶装置。该清洁残胶装置包括基台及干冰发射器；所述基台上设有定位区域，所述定位区域用于固定待清洁的基板；所述干冰发射器的一端位于所述定位区域的上方，用于将干冰颗粒发射于待清洁的基板上。该清洁残胶装置利用干冰汽化使体积瞬间膨胀的原理，通过形成无数的小爆炸实现对基板上ACF胶的剥离，减少制程对人员的依赖，达到自动清洁ACF胶的技术效果，并有效避免了因传统做法对剥离部位的腐蚀与划伤，保证了产品清洁的品质。

Description

一种清洁残胶装置

技术领域

本实用新型涉及显示技术领域，尤其涉及一种清洁残胶装置，具体涉及一种清洁各向异性导电胶的装置。

背景技术

目前，对于经过压合制程拆解后的显示屏或PCBA(英文名称为Printed Circuit Board Assembly，中文名称为电子装联后的印刷电路板)上的ACF(中文名称为Ausotropic Conductive Film，中文名称为各向异性导电胶)残胶，现有祛除ACF残胶的方式主要为人员手动执行。具体的，首先，需要蘸取ACF祛除液(一种酸性液体)，浸泡3～5分钟；然后再利用竹签包裹无尘布摩擦祛除。这种传统作业手法不仅容易造成压合区域的金属引线膜层腐蚀和划伤；而且还会因为人员手法以及个体差异等因素的影响，使得清洁后的产品的品质难以得到保证，也就是说ACF残胶祛除不干净；若再次重修，费时费力。

实用新型内容

(一)要解决的技术问题

本实用新型要解决的技术问题是提供了一种清洁残胶装置，使得能够自动清除待清洁基板上的残胶，减少制程对人员的依赖以及避免因腐蚀与划伤而造成基板的不良。

(二)技术方案

为了解决上述技术问题，本实用新型提供了一种清洁残胶装置，其包括：基台及干冰发射器；所述基台上设有定位区域，所述定位区域用于固定待清洁的基板；所述干冰发射器的一端位于所述定位区域的上方，用于向所述基板发射干冰颗粒。

其中，该清洁残胶装置还包括：回收装置，所述回收装置设置于所述定位区域的下方，用于回收在清洁所述基板过程中产生的污物。

其中，所述回收装置包括抽吸单元和抽吸管道，所述抽吸单元通过抽吸管道与所述定位区域连接。

其中，所述定位区域为倾斜面，所述定位区域的顶部与基台的上表面平齐。

其中，所述定位区域的底部设有回收槽，所述回收槽与所述回收装置连通。

其中，所述回收槽的槽底设有多个与所述回收装置连通的通孔。

其中，所述干冰发射器包括：干冰储罐、喷射管及喷嘴，所述干冰储罐位于基台的一侧；所述喷射管的一端与干冰储罐连接，另一端与喷嘴连接，所述喷嘴位于定位区域的上方。

其中，所述喷嘴上设有用于控制干冰颗粒发射的按钮。

其中，所述基台上支撑架，所述支撑架架设于定位区域的上方，所述喷射管搭接于支撑架上，并使所述喷嘴悬吊于定位区域的上方。

其中，所述基台的下方设有多个支撑腿。

(三)有益效果

本实用新型的上述技术方案具有以下有益效果：本实用新型清洁残胶装置通过干冰发射器将干冰颗粒发射于待清洁的基板上，利用干冰汽化使体积瞬间膨胀的原理，通过形成的无数小爆炸实现基板上ACF胶的剥离，减少制程对人员的依赖，从而达到自动清洁ACF胶的技术效果；而且，该清洁残胶装置还能有效避免了因传统做法对剥离部位的腐蚀与划伤，其结构简单，操作方便。

附图说明

图1为本实用新型实施例清洁残胶装置的结构示意图；

图2为本实用新型实施例清洁残胶装置的仰视图；

图3为本实用新型实施例清洁残胶装置的工作状态图；

图4为本实用新型实施例定位区域的局部示意图；

图5为本实用新型实施例喷嘴发射干冰颗粒的状态图。

其中，1：基台；2：干冰发射器；3：定位区域；4：基板；5：回收装置；6：回收槽；7：干冰储罐；8：喷射管；9：喷嘴；10：支撑架；11：支撑腿。

具体实施方式

下面结合附图和实施例对本实用新型的实施方式作进一步详细描述。以下实施例用于说明本实用新型，但不能用来限制本实用新型的范围。

在本实用新型的描述中，除非另有说明，“多个”的含义是两个或两个以上；术语“上”、“下”、“左”、“右”、“内”、“外”、“前端”、“后端”、“头部”、“尾部”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。此外，术语“第一”、“第二”、“第三”等仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。

在本实用新型的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。

如图1-5所示，本实施例提供的清洁残胶装置包括：基台1及干冰发射器2；在基台1上设有定位区域3，定位区域3用于固定待清洁的基板4，其中的待清洁的基板4包括经过压合制程拆解后的显示屏及PCBA板，在对基板4维修过程中，其一侧会有残留的胶体(如ACF胶)；而且，干冰发射器2的一端位于定位区域3的上方，用于将干冰颗粒发射于待清洁的基板4上。这些干冰颗粒在撞击残胶表面之后瞬间汽化，使干冰颗粒体积瞬间膨胀800倍，形成无数小爆炸，从而将残胶进行有效地剥离，减少了制程对人员的依赖，提升了清洁后基板的品质。而且，该清洁残胶装置有效解决了传统作业手法容易造成基板剥离区域的金属引线膜层腐蚀和划伤的问题，确保清洁后的基板品质。

值得说明的是，本实施例清洁残胶装置不仅可用于祛除残留在基板上的ACF胶，同样也适用于祛除其他产品上的胶体。

进一步的，如图2所示，该清洁残胶装置还包括回收装置5，将回收装置5设置于定位区域3的下方，用于回收在清洁基板4过程中产生的污物。当然，回收装置5的形式可以有多种多样，只要能够实现对干冰气体(CO₂)及被剥离后的残胶进行收集即可。

具体的，回收装置5包括抽吸单元和抽吸管道，抽吸单元通过抽吸管道与定位区域3连接。其中，抽吸单元可以为抽吸机，可为回收污物提供抽吸力，使污物顺利进入回收装置5中。

此外，为了方便污物进入回收装置5内，将定位区域3设计为倾斜面结构，而且，定位区域3的顶部与基台1的上表面平齐。也就是说，定位区域3沿基台1台面向下倾斜，形成一个斜坡(空间的横截面为楔形)，从而利于污物的回收。

结合图1、图4所示，在定位区域3的底部设有回收槽6，回收槽6与回收装置5连通。具体的，定位区域3为一矩形斜面，回收槽6在矩形斜面的较低侧贯穿设置，在回收槽6的槽底设有多个与回收装置5连通的通孔。污物可从通孔被回收装置5回收。

结合图1、图3及图5所示，干冰发射器2包括：干冰储罐7、喷射管8及喷嘴9，干冰储罐7位于基台1的一侧，用于产生干冰颗粒，并利用空气压缩原理将其输送至喷射管8内；喷射管8的一端与干冰储罐7连接，另一端与喷嘴9连接，喷嘴9位于定位区域3的上方，用于将干冰颗粒发射至基板4上ACF残胶所在的位置。

此外，喷嘴9上设有用于控制干冰颗粒发射的按钮，以方便自动控制。当然，也可根据产品的型号控制干冰颗粒的发射量。

对应的，基台1上支撑架10，支撑架10架设于定位区域3的上方，喷射管8搭接于支撑架10上，使喷嘴9悬吊于定位区域3的上方，不仅可方便移动喷嘴9，利于操作，而且还有效防止在清洁过程管路的干涉影响。

对于基台1的形状及尺寸均不局限，可以根据实际情况灵活设置。例如：在基台1的下方设有多个支撑腿11，支撑腿11的数量为四个，起到支撑基台1的作用。

本实施例提供的清洁残胶装置的工作过程：

第一步，将待清洁的基板4放置于定位区域3，并将喷嘴9对准基板4上ACF胶所在位置；

第二步，启动干冰发射器2，使干冰颗粒从喷嘴9喷出；

第三步，干冰颗粒在撞击ACF胶表面之后瞬间汽化，在汽化过程中，干冰颗粒体积瞬间膨胀800倍，形成无数小爆炸，从而将ACF胶进行有效地剥离；

第四步，ACF胶被剥离后，产生的污物(干冰气体及被剥离的残胶)经回收装置5回收，防止其污染环境。

第五步，剥离结束后，利用无尘布蘸取酒精对基板4的剥离部位进行适当清洁，从而达到重复利用的目的。例如：对显示屏进行重新绑定；将PCBA板重新投入使用。

综上所述，本实用新型清洁残胶装置通过干冰发射器将干冰颗粒发射于待清洁的基板上，利用干冰汽化使体积瞬间膨胀的原理，通过形成的无数小爆炸实现基板上ACF胶的剥离，减少制程对人员的依赖，从而达到自动清洁ACF胶的技术效果；而且，该清洁残胶装置还能有效避免了因传统做法对剥离部位的腐蚀与划伤，其结构简单，操作方便。

本实用新型的实施例是为了示例和描述起见而给出的，而并不是无遗漏的或者将本实用新型限于所公开的形式。很多修改和变化对于本领域的普通技术人员而言是显而易见的。选择和描述实施例是为了更好说明本实用新型的原理和实际应用，并且使本领域的普通技术人员能够理解本实用新型从而设计适于特定用途的带有各种修改的各种实施例。

Claims (10)

1.一种清洁残胶装置，其特征在于，包括：基台及干冰发射器；所述基台上设有定位区域，所述定位区域用于固定待清洁的基板；所述干冰发射器的一端位于定位区域的上方，用于向所述基板发射干冰颗粒。

2.根据权利要求1所述的清洁残胶装置，其特征在于，还包括：回收装置，所述回收装置设置于所述定位区域的下方，用于回收在清洁所述基板过程中产生的污物。

3.根据权利要求2所述的清洁残胶装置，其特征在于，所述回收装置包括抽吸单元和抽吸管道，所述抽吸单元通过抽吸管道与所述定位区域连接。

4.根据权利要求2所述的清洁残胶装置，其特征在于，所述定位区域为倾斜面，所述定位区域的顶部与基台的上表面平齐。

5.根据权利要求4所述的清洁残胶装置，其特征在于，所述定位区域的底部设有回收槽，所述回收槽与所述回收装置连通。

6.根据权利要求5所述的清洁残胶装置，其特征在于，所述回收槽的槽底设有多个与所述回收装置连通的通孔。

7.根据权利要求1所述的清洁残胶装置，其特征在于，所述干冰发射器包括：干冰储罐、喷射管及喷嘴，所述干冰储罐位于基台的一侧；所述喷射管的一端与干冰储罐连接，另一端与喷嘴连接，所述喷嘴位于定位区域的上方。

8.根据权利要求7所述的清洁残胶装置，其特征在于，所述喷嘴上设有用于控制干冰颗粒发射的按钮。

9.根据权利要求7所述的清洁残胶装置，其特征在于，所述基台上支撑架，所述支撑架架设于定位区域的上方，所述喷射管搭接于支撑架上，并使所述喷嘴悬吊于定位区域的上方。

10.根据权利要求1所述的清洁残胶装置，其特征在于，所述基台的下方设有多个支撑腿。