CN204607868U - 一种擦底设备 - Google Patents

Abstract

一种擦底设备，包括支架、传送装置以及擦底装置，所述支架包括本体和架脚，所述传送装置包括传动轴、传送带及传送带驱动机构，所述擦底装置包括擦底带、擦底带驱动机构、水箱和托架。使用本擦底设备时，坯体由传送带的上端传送下来，到达擦底装置的位置时，由于擦底带的运转速度不同于传送带的速度，甚至反向运转，坯体底部受到强烈的摩擦，不但将刚刚喷釉（或浸釉）好的坯体的底部的剩釉擦拭干净，由于擦底带具有很好的弹性，其产生形变后刚好又能对坯体底部的边角进行擦拭，既保证了产品质量的稳定，提高了生产效率，又降低了人工费用。作为进一步的改进，本设备还可以设置有托架调节装置、挤水装置及擦底长度调节装置。

Description

一种擦底设备

技术领域

本实用新型涉及一种陶瓷设备，特别是涉及一种对喷釉（或浸釉）后的陶瓷坯体的底部进行擦拭的设备。

背景技术

 陶瓷工业中一般陶瓷坯体的表面要施加一层或数层陶瓷釉料，在烧成过程中形成玻璃相，使烧成后的产品表面光滑、透明、美观、色泽五彩缤纷……。陶瓷坯体喷釉（或浸釉）后，为防止底部积釉，造成烧成过程中粘板、惊风，甚至爆炸，均须对底部及其边缘的剩釉进行擦拭，传统上均采用人工手段进行擦拭，该方法不但耗时，而且耗力，由于工人的技术水平的差异，易造成产品质量的不稳定，不利于提高生产效率和保证产品质量。

发明内容

本实用新型目的在于克服现有技术中存在的不足之处，提供一种对喷釉（或浸釉）后的陶瓷坯体进行擦底的设备，该设备能将坯体底部的剩釉迅速而有效地擦拭干净，同时还可对坯底边角进行擦拭，既节省了工时，又保证了产品质量的稳定，提高了效率。

为实现上述目的，本实用新型采用如下的技术方案：

一种擦底设备，包括支架、传送装置以及擦底装置，所述支架包括本体和架脚，所述本体为一定宽度的硬体结构，中间横向架设横梁，其上表面铺设有托板，托板分成前后两段，中间隔开形成一空隙；所述架脚安装在本体下方，通过架脚将本设备摆放在地面上，架脚可以采用万向轮等可以活动的装置，当然也可以将本体直接摆放在地面上；所述传送装置包括传动轴、传送带及传送带驱动机构，所述传动轴沿着传送带前后设置，分别位于两段托板的两端，所述传送带分别铺设在传动轴和托板外面，与传动轴紧密接触，传送带的宽度可以根据坯体的规格来设置，所述传送带驱动机构固定在所述支架的本体上，通过联动机构驱动传动轴转动，再由传动轴带动传送带转动，该联动机构可以是皮带，也可以是齿轮等，两段传送带可以用同一传送带驱动机构驱动，也可以分别驱动；所述擦底装置包括擦底带、擦底带驱动机构、水箱和托架，该擦底带驱动机构固定在本体上，所述擦底带的驱动轴横向安装在所述托架上，所述擦底带为一宽度与传送带相当的闭合摩擦带，其环绕在驱动轴的外周，所述托架为一“U”字型硬体构件，其安装在本体上，处于托板隔开后形成的空隙的位置，所述水箱位于擦底装置的底部，其包括水箱本体和污水排出装置，所述擦底带驱动机构驱动擦底带以不同于传送带的速度运转，或者反向运转，其驱动原理与传送带驱动机构相似。

使用本擦底设备时，坯体由传送带的上端传送下来，到达擦底装置的位置时，由于擦底带的运转速度不同于传送带的速度，甚至反向运转，坯体底部受到强烈的摩擦，不但将刚刚喷釉（或浸釉）好的坯体的底部的剩釉擦拭掉，由于擦底带具有很好的弹性，其产生形变后刚好又能对坯体底部的边缘进行修整，其后坯体又经下一段的传送带送走。这样一来，既保证了产品质量的稳定，大大提高了生产效率，又降低了人工费用，同时也降低了环境污染，保障了工人的身体健康。

作为本实用新型的一种改进，所述托架下方还设置有托架调节装置，其通过螺纹结构穿过支架本体上相匹配的螺纹孔，螺纹轴上还套装有与其相配的螺母，用于固定其位置，调节该装置，可以调节所述托架的高度。

进一步的，本实用新型还设置有挤水装置，该挤水装置安装在所述托架上，其包括控制旋钮和挤水轴，控制旋钮通过螺纹结构与托架的突起上相匹配的螺纹孔契合，调节控制旋钮，能调节挤水轴之间的距离及其横向位置，一方面通过轴间的压力能将擦底带上的水分或者色釉挤走，使擦底带干燥，同时，挤水轴横向位置的改变又能调节擦底带的松紧度，保证了擦底的效果。

进一步的，本实用新型还设置有擦底长度调节装置，其通过螺纹结构与托架的突起上相匹配的螺纹孔契合，该装置能改变擦底带传动轴之间的距离，进而改变擦底带擦底时的长度，以满足不同规格的坯体的要求。

附图说明

图1为本实用新型整体结构示意图。

图2为本实用新型中擦底装置的主要部分的示意图。

具体实施方式

下面结合附图对本实用新型具体实施方式详细说明。

如图1、图2所示，本实用新型包括支架1、传送装置2以及擦底装置3，所述支架1包括本体11和架脚12，所述本体11为一定宽度的硬体结构，中间可以横向架设横梁，其上表面可以铺设托板（图中未示出），以增强支撑力及结构强度，托板分成前后两段，中间隔开形成一空隙，以安装擦底装置3；所述架脚12安装在本体11下方，通过架脚12将本设备摆放在地面上，架脚可以采用万向轮等可以活动的装置，以方便本设备的移动，当然也可以将本体11直接摆放在地面上；所述传送装置2包括传动轴21、传送带22及传送带驱动机构23，所述传动轴21沿着传送带22前后设置，分别位于两段托板的两端，必要的话也可以在中间增加传动轴，所述传送带22分别铺设在传动轴21和托板外面，与传动轴21紧密接触，为防止坯体打滑，优选摩擦系数较大的传送带，传送带22的宽度可以根据坯体的规格来设置，所述传送带驱动机构23固定在所述支架1的本体11上，通过联动机构（图中未示出）驱动传动轴21转动，再由传动轴21带动传送带22转动，该联动机构可以是皮带，也可以是齿轮等，两段传送带22可以用同一传送带驱动机构23驱动，也可以分别驱动；所述擦底装置3包括擦底带31、擦底带驱动机构32、水箱33和托架34，该擦底带驱动机构32固定在本体11上，所述擦底带31的驱动轴（图中未示出）横向安装在所述托架34上，所述擦底带31为一宽度与传送带22相当的闭合摩擦带，优选有弹性且摩擦系数较大的材料，其环绕在驱动轴的外周，所述托架34为一“U”字型硬体构件，其安装在本体11上，处于托板隔开后形成的空隙的位置，所述水箱33位于擦底装置3的底部，其包括水箱本体331和污水排出装置332，所述擦底带驱动机构32驱动擦底带31以不同于传送带22的速度运转，或者反向运转，其驱动原理与传送带驱动机构23相似。

使用本擦底设备时，坯体由传送带22的上端传送下来，到达擦底装置3的位置时，由于擦底带31的运转速度不同于传送带22的速度，甚至反向运转，坯体底部受到强烈的摩擦，不但将刚刚喷釉（或浸釉）好的坯体的底部的剩釉擦拭掉，由于擦底带31具有很好的弹性，其产生形变后刚好又能对坯体底部的边角进行擦拭，其后坯体又经下一段的传送带送走。这样一来，既保证了产品质量的稳定，提高了生产效率，又降低了人工费用，同时也降低了环境污染，保障了工人的身体健康。

作为本实用新型的一种改进，所述托架34下方还设置有托架调节装置35，其通过螺纹结构穿过支架本体11上相匹配的螺纹孔（图中未示出），螺纹轴上还套装有与其相配的螺母（图中未示出），用于固定其位置，调节该装置，可以调节所述托架34的高度，进而调节擦底带31的高度，以调节擦底的强度以及当擦底带31磨损后的修正。

进一步的，本实用新型还设置有挤水装置4，该挤水装置4安装在所述托架34上，其包括控制旋钮41和挤水轴42，控制旋钮41通过螺纹结构与托架34的突起（图中未示出）上相匹配的螺纹孔契合，调节控制旋钮41，能调节挤水轴42之间的距离及其横向位置，一方面通过轴间的压力能将擦底带31上的水分或者色釉挤走，使擦底带31干燥，同时，挤水轴42横向位置的改变又能调节擦底带31的松紧度，保证了擦底的效果。

进一步的，本实用新型还设置有擦底长度调节装置36，其通过螺纹结构与托架34的突起（图中未示出）上相匹配的螺纹孔契合，该装置能改变擦底带驱动轴（图中未示出）之间的距离，进而改变擦底带31擦底时的长度，以满足不同规格的坯体的要求。

以上所述仅是本实用新型的较佳实施例，在不脱离本实用新型的设计精神的前提下，本领域普通工程技术人员对本实用新型所述的构造、特征及原理所做的等效变化或装饰，均应落入本实用新型的保护范围之内。

Claims (4)

1.一种擦底设备，包括支架（1）、传送装置（2）以及擦底装置（3），所述支架（1）包括本体（11）和架脚（12），所述本体（11）为一定宽度的硬体结构，中间横向架设有横梁，其上表面铺设有托板，托板分成前后两段，中间隔开形成一空隙，所述架脚（12）安装在本体（11）下方；所述传送装置（2）包括传动轴（21）、传送带（22）及传送带驱动机构（23），所述传动轴（21）沿着传送带（22）前后设置，分别位于两段托板的两端，所述传送带（22）分别铺设在传动轴（21）和托板外面，所述传送带驱动机构（23）固定在所述本体（11）上，通过联动机构驱动传动轴（21）转动，再由传动轴（21）带动传送带（22）转动；其特征在于：所述擦底装置（3）包括擦底带（31）、擦底带驱动机构（32）、水箱（33）和托架（34），所述擦底带驱动机构（32）固定在本体（11）上，所述擦底带（31）的驱动轴横向安装在所述托架（34）上，所述擦底带（31）环绕在驱动轴的外周，所述托架（34）为一“U”字型硬体构件，其安装在本体（11）上，处于托板隔开后形成的空隙的位置，所述水箱（33）位于擦底装置（3）的底部，其包括水箱本体（331）和污水排出装置（332），所述擦底带驱动机构（32）驱动擦底带（31）以不同于传送带（22）的速度运转，或者反向运转。

2.根据权利要求1所述的擦底设备，其特征在于：还包括有托架调节装置（35），其安装在托架（34）下方，通过螺纹结构穿过支架本体（11）上相匹配的螺纹孔，螺纹轴上还套装有与其相配的螺母，调节该装置，可以调节所述托架（34）的高度。

3.根据权利要求1或2所述的擦底设备，其特征在于：还设置有挤水装置（4），该挤水装置（4）安装在所述托架（34）上，其包括控制旋钮（41）和挤水轴（42），控制旋钮（41）通过螺纹结构与托架（34）的突起上相匹配的螺纹孔契合，调节控制旋钮（41），能调节挤水轴（42）之间的距离及其横向位置。

4.根据权利要求3所述的擦底设备，其特征在于：还设置有擦底长度调节装置（36），其通过螺纹结构与托架（34）的突起上相匹配的螺纹孔契合，该装置能改变擦底带驱动轴之间的距离。