CN204505998U - 一种类钻石金属镀膜基板 - Google Patents
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Abstract
本实用新型涉及一种类钻石金属镀膜基板。它包括基片、依次沉积在基片表面上的过镀膜层和保护膜层，所述的基片是金属基片；所述的过镀膜层是镀制的一层或多层过渡金属或者化合物；所述的保护膜层是类钻石膜层。本基板具备膜层附着力强，其整体表面硬度高、尤其具有防刮花，抗菌、抗划痕等特点。
Description
技术领域
本实用新型涉及一种金属镀膜技术领域，尤其涉及一种类钻石金属镀膜基板。
背景技术
随着人们生活水平的提高，电子产品成为人们不可缺少的生活用品，而且人们越来越追求电子产品的美观、大方。电子产品的外壳用镀膜来增加其美观，但现有的膜层常是漆膜，很容易刮花、碰花等。类金刚钻石膜有着和金刚石几乎一样的性质,如高硬度、耐磨损、高表面光洁度、高电阻率、优良的场发射性能,高透光率及化学惰性等,它的产品广泛应用在机械、电子、微电子机械系统(MEMS)、光学和生物医学等各个领域。类金刚钻石膜的沉积温度低、表面平滑,具有比金刚石膜更高的性价比,且在相当广泛的领域内可以代替金刚钻石膜,所以自80年代以来一直是研究的热点。类金刚钻石(DLC)的低摩擦系数和高耐磨性使类金刚钻石薄膜已在切削工具、磁存储、人工关节等领域得到应用。众所周知，金属基片表面一般都很光洁，在其表面直接镀类钻石膜后，仍存在镀膜附着力差、容易产生刮痕的问题。
实用新型内容
针对现有技术类钻石膜层存在镀膜附着力差、易产生刮痕的问题,本实用新型提供一种附着力强，抗划伤性能高、高疏水防污、防指纹、抗菌的类钻石金属镀膜基板。
为解决上述技术问题，本实用新型提供的技术方案是：一种类钻石金属镀膜基板，包括基片、依次沉积在基片表面上的过镀膜层和保护膜层，所述的基片是金属基片；所述的过镀膜层是镀制的一层或多层过渡金属层或者化合物层；所述的保护膜层是类钻石膜层。
进一步：在上述类钻石金属镀膜基板中，所述的金属基片是铝合金片、不锈钢片、锌合金片、铜合金片、钛片及钛合金片中的一种。所述的过渡金属或者化合物是Cr、Zr、Nb、W、WC、Si、SiC、Ti、TiC、TiN和 TiCN中的至少一种。所述的过镀膜层是1～8层；所述的过镀膜层的厚度是0.1～3um。所述的类钻石膜层是0.1～2um。所述的类钻石膜层的硬度是维氏硬度10～50GPa。
类钻石简称DLC，它是无定形碳中含sp3键的亚稳态结构,在金刚石中,碳原子以sp3键结合,在石墨中碳原子以sp2键合,在DLC中,有sp3、sp2两种键合形式,因而类钻石膜的结构和性能介于金刚石和石墨之间。目前，类钻石膜层的制备方法很多，如离子束沉积(IBD)、溅射沉积、射频CVD(RFCVD)、磁过滤阴极弧沉积(FCVA)、脉冲激光沉积等物理气相沉积和直流CVD(DCCW)、电子束蒸发CVD、微波CVD(ECRCVD)等化学气相沉积。类钻石的性能与类钻石SP3键SP2与键的含量密切相关。通过控制制备类钻石薄膜的工艺条件，可以控制薄膜中SP3键与SP2键的含量。类金刚钻石薄膜层(DLC)可以由等离子体辅助化学气相沉积(PACVD)、等离子体增强化学气相沉积(PECVD)、脉冲真空弧光等离子体沉积等技术沉积制备。在这些方法中，等离子体增强化学气相沉积(PECVD)方法具有沉积温度低，绕镀性好，制备的薄膜均匀致密等诸多特点而成为最常用的方法。
与现有技术相比，本实用新型的金属镀膜基板，包括基片、依次沉积在基片表面上过镀膜层和保护膜层，所述的基片是金属基片；所述的过镀膜层是交替镀制的一层或多层过渡金属或者化合物Cr,Zr,Nb,W,WC,Si,SiC,Ti,TiC,TiN,TiCN，所述的保护膜层是类钻石膜层。本实用新型的过镀膜层是交替镀制的一层或多层过渡金属或者化合物Cr,Zr,Nb,W,WC,Si,SiC,Ti,TiC,TiN,TiCN，本实用新型的类钻石金属镀膜基板，主要应用在手机背壳和边框、平板电脑背壳和边框以及电视背板和边框等。用上述基板制成的手机/平板电脑/电视等的背壳和边框，基板上的类钻石膜层的硬度大、膜层附着力强、基板整体具备抗划伤性能高、高疏水防污、防指纹、抗菌、抗划痕等特点。
附图说明
附图1是本实用新型实施方式一基板的结构简图；
附图2是本实用新型实施方式二的基板结构简图；
其中1基片、2过镀膜层、3保护膜层。
具体实施方式
参照附图1-2及本实用新型实施方式来进一步说明本实用新型。
实施方式一：一种金属镀膜基板，包括基片1、依次沉积在基片表面上过镀膜层2和保护膜层3，所述的基片是金属基片；所述的过镀膜层是一层过渡金属或者化合物层，所述的过渡金属或者化合物是Cr、Zr、Nb、W、WC、Si、SiC、Ti、TiC、TiN、TiCN中的任一种，所述的保护膜层是类钻石膜层。所述的类钻石膜层是0.1～2um。所述的类钻石膜层的硬度是维氏硬度10～50GPa。
实施方式二：一种金属镀膜基板，包括基片1、依次沉积在基片表面上过镀膜层2和保护膜层3，所述的基片是金属基片；所述的过镀膜层是镀制的过渡金属层和/或化合物层，所述的过渡金属或者化合物选自Cr、Zr、Nb、W、WC、Si、SiC、Ti、TiC、TiN、TiCN，所述的过镀膜层是2～8层，所述的保护膜层是类钻石膜层。所述的类钻石膜层是0.1～2um。所述的类钻石膜层的硬度是维氏硬度10～50GPa。
将上述两实施方式的类钻石金属镀膜基板，应用在手机背壳和边框、平板电脑背壳和边框以及电视背板和边框上。基板上的类钻石膜层的硬度大，膜层附着力强，抗划伤性能高，且具有高疏水防污，防指纹，抗菌的特点、尤其的抗划痕的性能特别好。
在上述两实施方式中，所述的过镀膜层的总厚度是0.1～3um，所述的金属基片是铝合金、不锈钢、锌合金，铜合金,钛及钛合金中的一种。
以上所述为本实用新型的较佳实施例，在不脱离本实用新型构思情况下，进行任何显而易见的变形和替换，均属本实用新型保护范围。
Claims (6)
1.一种类钻石金属镀膜基板，包括基片(1)、依次沉积在基片表面上的过镀膜层(2)和保护膜层(3)，其特征在于：所述的基片是金属基片；所述的过镀膜层是镀制的一层或多层过渡金属或者化合物；所述的保护膜层是类钻石膜层。
2.根据权利要求1所述的金属镀膜基板，其特征在于：所述的金属基片是铝合金片、不锈钢片、锌合金片、铜合金片、钛片及钛合金片中的一种。
3.根据权利要求2所述的金属镀膜基板，其特征在于：所述的过渡金属或者化合物是Cr、Zr、Nb、W、WC、Si、SiC、Ti、TiC、TiN和TiCN中的至少一种。
4.根据权利要求3所述的金属镀膜基板，其特征在于：所述的过镀膜层是1～8层；所述的过镀膜层的厚度是0.1～3um。
5.根据权利要求4所述的金属镀膜基板，其特征在于：所述的类钻石膜层是0.1～2um。
6.根据权利要求5所述的金属镀膜基板，其特征在于：所述的类钻石膜层的硬度是维氏硬度10～50GPa。
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|---|---|---|---|
| CN201520020154.7U CN204505998U (zh) | 2015-01-12 | 2015-01-12 | 一种类钻石金属镀膜基板 |
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| CN201520020154.7U CN204505998U (zh) | 2015-01-12 | 2015-01-12 | 一种类钻石金属镀膜基板 |
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| CN201520020154.7U Active CN204505998U (zh) | 2015-01-12 | 2015-01-12 | 一种类钻石金属镀膜基板 |
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| CN (1) | CN204505998U (zh) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN110551992A (zh) * | 2019-09-30 | 2019-12-10 | 辽宁科技大学 | 一种在超级马氏体不锈钢表面制备dlc薄膜的方法 |
| CN114045457A (zh) * | 2021-10-30 | 2022-02-15 | 科汇纳米技术（深圳）有限公司 | 镀制类金刚石的方法及在汽车零件上的应用 |
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2015
- 2015-01-12 CN CN201520020154.7U patent/CN204505998U/zh active Active
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