一种立体感强的皮料
技术领域
本实用新型涉及皮革技术领域,具体涉及一种立体感强的皮料。
背景技术
皮革大量应用于民生用品的表面,例如桌椅、沙发、鞋材、衣物等等,增添民生用品的质感、美感或耐用性。皮革可大致分为人造皮革与天然皮革。天然皮革指取动物毛皮并予以干燥、清洗、软化、染色、修边、裁切等制作工艺处理之后,形成表面平整且质地坚韧的皮料。
传统的皮料通常只在皮料上印制图案层,但图案是平面图案,制得的皮料立体感不强,不能满足消费者的多样化需求。
发明内容
本实用新型的目的是针对现有技术中的上述不足,提供一种立体感强的皮料,制得的皮料立体感强,有利于提升皮料产品附加值。
本实用新型的目的通过以下技术方案实现。
一种立体感强的皮料,包括皮坯层,皮坯层的上表面设置有表面处理层,表面处理层的上表面设置压花层,压花层的上表面通过压版压印有图案层,图案层包括凸起区域和凹陷区域,凸起区域和凹陷区域间隔设置。
其中,所述表面处理层为磨砂处理层,所述表面处理层的表面粒度为400目。
其中,所述图案层的上表面设置有颜料层,颜料层的厚度为5-10μm。
其中,所述颜料层的上表面设置有固色层。
其中,所述固色层为水性光油层,固色层的厚度为30-80μm。
其中,所述皮坯层的厚度为1-5mm。
其中,所述皮坯层为牛皮、猪皮、羊皮或人工皮革。
其中,所述皮坯层的下表面设置有透明保护层,透明保护层的厚度为0.1-0.5mm。
其中,所述透明保护层的下表面设置有绒布层,绒布层的厚度为1-2mm。
本实用新型的有益效果:
在皮坯层的上表面设置压花层,使皮坯具有花纹纹路,然后在压花层表面通过压版压印图案层,且图案层具有间隔设置的凸起区域和凹陷区域,制得的皮料立体感强,有利于提升皮料产品附加值。另外,图案层的设置有利于增强皮料的抗拉性,在皮料拉伸时,图案不容易变形,制得的皮料耐磨性好。
本实用新型的立体感强的皮料经测试,其各指标数据如下:
附图说明
利用附图对实用新型作进一步说明,但附图中的实施例不构成对本实用新型的任何限制,对于本领域的普通技术人员,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据以下附图获得其它的附图。
图1是本实用新型的实施例1的剖面结构示意图。
图2是本实用新型的实施例2的剖面结构示意图。
附图标记包括:1—皮坯层,2—表面处理层,3—压花层,4—图案层,41—凸起区域,42—凹陷区域,5—颜料层,6—固色层,7—透明保护层,8—绒布层。
具体实施方式
结合以下附图和实施例对本实用新型作进一步描述。
实施例1
如图1所示,本实施例的一种立体感强的皮料,包括皮坯层1,皮坯层1的上表面设置有表面处理层2,表面处理层2的上表面设置压花层3,压花层3的上表面通过压版压印有图案层4,图案层4包括凸起区域41和凹陷区域42,凸起区域41和凹陷区域42间隔设置。
在皮坯层1的上表面设置压花层3,使皮坯具有花纹纹路,然后在压花层3表面通过压版压印图案层4,且图案层4具有间隔设置的凸起区域41和凹陷区域42,制得的皮料立体感强,有利于提升皮料产品附加值。另外,图案层4的设置有利于增强皮料的抗拉性,在皮料拉伸时,图案不容易变形,制得的皮料耐磨性好。
本实用新型的立体感强的皮料经测试,其各指标数据如下:
具体地,所述图案层4由阴板压版压印制成。
本实施例的表面处理层2为磨砂处理层,所述表面处理层2的表面粒度为400目。采用400目的砂纸对皮坯层1的表面进行磨砂处理,可将皮坯层1表面不平的地方磨掉,提升皮坯表面的平整度,且有利于压印压花层3,压印效果好。
本实施例的皮坯层1的厚度为1-5mm。
本实施例的皮坯层1为牛皮、猪皮、羊皮或人工皮革。
实施例2
如图2所示,本实施例的图案层4的上表面设置有颜料层5,颜料层5的厚度为5-10μm。具体地,颜料层5为珠光粉材料层,使制得的皮料具有珠光色彩,皮料色彩丰富,有利于提升皮料附加值。
本实施例的颜料层5的上表面设置有固色层6。优选地,所述固色层6为水性光油层,固色层6的厚度为30-80μm。水性光油层的材料为水性上光油,具有良好的光泽性、耐折性、耐磨性,防止颜料层5的颜料跑色或掉色,水性光油层的固色效果好且耐水洗,制得的立体感强的皮料不易变形,且皮料光泽度好。
本实施例的皮坯层1的下表面设置有透明保护层7,透明保护层7的厚度为0.1-0.5mm。透明保护层7有利于进一步保护皮坯材料不变色不易变形,皮料的光泽度高,手感好,表面滑爽。
本实施例的透明保护层7的下表面设置有绒布层8,绒布层8的厚度为1-2mm。绒布层8的设置有利于提升立体感强的皮料的多样性,满足不同消费者的需求,产品应用范围广,经济效果高。
本实施例的其余内容与实施例1相同,这里不再赘述。
最后应当说明的是,以上实施例仅用以说明本实用新型的技术方案,而非对本实用新型保护范围的限制,尽管参照较佳实施例对本实用新型作了详细地说明,本领域的普通技术人员应当理解,可以对本实用新型的技术方案进行修改或者等同替换,而不脱离本实用新型技术方案的实质和范围。