CN204430671U - 具有平衡机构的旋转平台 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种具有平衡机构的旋转平台，包括基架，可旋转地设置在机架上方的基板，在所述的基架上表面间隔地设置有多个呈圆形布列的脚轮，在所述的基板下表面设置有与所述的脚轮匹配的行走平面。本实用新型的旋转平台，在中心转轴定位的前提下，辅以脚轮进行支撑，能有效提供支撑的平衡性，防止转轴径向受力，提高平台的运行平稳性，避免轴部磨损，减小动力需求，尤其是在高平衡性的支持下，能有效提高对各种异形件的支撑效果，提高辅助效果。

Description

具有平衡机构的旋转平台

技术领域

本实用新型涉及机械加工技术领域，特别是涉及一种具有平衡机构的旋转平台。

背景技术

在机械加工时，尤其是在对器械进行焊接时经常需要将物件防止在转台上工作，现有技术中的旋转平台通常包括上圆盘，在上圆盘底部设置上法兰、下法兰和中间圆盘，在中间圆盘底部设置驱动装置，通过驱动装置传递动力来使上圆盘旋转，这种装置结构较为复杂，用件较多，且动力损失大，从而既增加了旋转平台的制造成本，又降低了旋转平台的工作效率。

而且，对于焊接件，形状各异，经常是重心不稳，导致旋转平台旋转轴偏心，无谓增大了旋转轴的摩擦，增大了动力输出。

实用新型内容

本实用新型的目的是针对现有技术中存在的技术缺陷，而提供一种具有平衡机构的旋转平台。

为实现本实用新型的目的所采用的技术方案是：

一种具有平衡机构的旋转平台，包括基架，可旋转地设置在机架上方的基板，在所述的基架上表面间隔地设置有多个呈圆形布列的脚轮，在所述的基板下表面设置有与所述的脚轮匹配的行走平面。

所述的行走平面为固定设置在基板下方的行走环。

所述的基架为十字形，在所述的基架四端分别设置有一个脚轮，同时在基架四端的下表面设置有支撑腿。

在所述的基架中部固定设置有转轴，所述的转轴上部通过轴承与所述的基板连接。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：

本实用新型的旋转平台，在中心转轴定位的前提下，辅以脚轮进行支撑，能有效提供支撑的平衡性，防止转轴径向受力，提高平台的运行平稳性，避免轴部磨损，减小动力需求，尤其是在高平衡性的支持下，能有效提高对各种异形件的支撑效果，提高辅助效果。

附图说明

图1所示为本实用新型的具有平衡机构的旋转平台的结构示意图。

具体实施方式

以下结合附图和具体实施例对本实用新型作进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本实用新型，并不用于限定本实用新型。

如图1所示，本实用新型的具有平衡机构的旋转平台包括基架1，在所述的基架中部固定设置有转轴2，通过轴承与所述的转轴上部连接以实现可旋转地设置在机架上方的基板3，在所述的基架上表面间隔地设置有多个呈圆形布列的脚轮4，所述的脚轮可为万向轮，也可为单向行走轮，所述的单向行走轮的轴位于脚轮布列所构成的圆形的径向上，在所述的基板下表面设置有与所述的脚轮匹配的行走平面，优选地，所述的行走平面为固定设置在基板下方的行走环5。其中，需要指出的是，所述的基板的轴承可以偏心设置，而无需严格居中设置，同时，基板具有很强的偏载能力。

本实用新型的旋转平台，在转轴定位的前提下，辅以脚轮进行支撑，能有效提供支撑的平衡性，防止转轴径向受力，提高平台的运行平稳性，避免轴部磨损，减小动力需求，尤其是在高平衡性的支持下，能有效提高对各种异形件的支撑效果，能有效避免因为偏载导致的转动不畅等，提高辅助效果。

优选地，所述的基架为十字形，在所述的基架四端分别设置有一个脚轮，同时在基架四端的下表面设置有支撑腿。采用十字形或者米字型基架结构，能为整体提供有效稳定支撑，同时能减小基架的重量。

以上所述仅是本实用新型的优选实施方式，应当指出的是，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本实用新型的保护范围。

Claims (4)

1.一种具有平衡机构的旋转平台，其特征在于，包括基架，可旋转地设置在机架上方的基板，在所述的基架上表面间隔地设置有多个呈圆形布列的脚轮，在所述的基板下表面设置有与所述的脚轮匹配的行走平面。

2.如权利要求1所述的具有平衡机构的旋转平台，其特征在于，所述的行走平面为固定设置在基板下方的行走环。

3.如权利要求1所述的具有平衡机构的旋转平台，其特征在于，所述的基架为十字形，在所述的基架四端分别设置有一个脚轮，同时在基架四端的下表面设置有支撑腿。

4.如权利要求1所述的具有平衡机构的旋转平台，其特征在于，在所述的基架中部固定设置有转轴，所述的转轴上部通过轴承与所述的基板连接。