CN204400844U - 一种节釉装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及陶瓷行业的瓷砖生产制造领域，尤其是涉及陶瓷行业中产施釉工艺中的一种节釉装置。本实用新型的节釉装置对输送皮带进行了凹陷处理，并在凹陷区内安装釉料回收装置，完美的解决了釉料浪费在输送皮带上的问题，利用釉料回收系统，大幅降低了釉料用量，节省6%-7%的釉料，经济效果显著。

Description

一种节釉装置

【技术领域】

本实用新型涉及陶瓷行业的瓷砖生产制造领域，尤其是涉及陶瓷行业中产施釉工艺中的一种节釉装置。

【背景技术】

瓷砖生产过程中，淋釉是生产过程中非常重要的工艺环节之一。传统的淋釉工艺都是盅罩淋釉器安装在环形输送带上方，利用皮带把瓷砖坯体拖送运输经过淋釉器下方，使釉料覆盖到瓷砖坯体表面，由于淋釉器只能是连续性工作，瓷砖坯体是间断式行走，造成淋釉器流下的釉料覆盖在瓷砖坯体间隙之间的输送皮带上，造成釉料和皮带污染。釉料污染会造成产品含杂，质量下降，严重时会造成釉料不能再使用，釉料损耗大。皮带污染会造成瓷砖底部粘连上釉料，当瓷砖进入烧成窑炉时，这些釉料又会粘附在窑炉的瓷棒上，造成瓷棒表面不平，瓷砖在上面行走时会出现无规则行走而出现产品在烧成窑中因擦碰烧成窑壁并堵塞窑炉或出现产品缺陷，造成严重损失。

综上所述，传统的生产工艺会造成极大的生产浪费，增大企业的生产成本，极大地降低了企业的产品市场竞争力；同时因不能回收利用会对环境造成污染等不良后果。

【发明内容】

本实用新型旨在解决上述问题而提供用于降低釉料浪费和提高产品收成率的一种工艺方法及配套的设备系统原理及装备。

为实现上述目的，本实用新型的一种节釉装置包括供釉系统10、与供釉系统10管道相连接的釉料恒压装置20、与釉料恒压装置20连接的盅罩淋釉器30、以及设置在盅罩淋釉器30下方的凹形结构的瓷砖输送装置40以及弧形结构的釉料回收槽90，所述的瓷砖输送装置40包括电机42和由电机传动的输送皮带41，所述输送皮带41的载物面其中一段向下凹陷，凹陷的形状为上开口较小凹陷底部大，形似古时的钱袋状，凹陷区内设置有顶部开口的釉料回收槽90，釉料回收槽90与供釉系统10管道连接。本实用新型输送皮带41的其中一段向下凹陷后形成一个凹陷区，凹陷区的开口为2-15CM，以保证瓷砖能在输送皮带41的凹陷处平稳通过，凹陷区的内部空间比开口大，里面设置有釉料回收槽90。

进一步的，所述的输送皮带41由至少2条截面为圆形的皮带组成。全部由电机42拖动，至少2条截面为圆形的皮带平行安置且转动速率一致，平稳的将瓷砖坯体输送经过盅罩淋釉器30。

进一步的，所述输送皮带41形成的凹陷区设置在沿盅罩淋釉器30边缘的正下方呈弧形布局，弧形的圆心与盅罩淋釉器30的圆心对齐，弧形的外圆半径比弧形内圆半径长2-15CM，釉料回收槽90设置成弧形安置在凹陷区内，所述的凹陷区设置在沿盅罩淋釉器30边缘的正下方，釉料回收槽90设置成弧形安置在凹陷区内。釉料经盅罩淋釉器30留下，当凹陷区的开口处没有瓷砖坯体时，釉料直接落入釉料回收槽90中，釉料回收槽90与供釉池10管道连接，使釉料实现循环使用，不造成浪费。

进一步的，为保证淋釉质量的稳定，所述的输送皮带41安装在同一套主动轮和从动轮上，电机42通过传动皮带43或链轮结构与主动轮连接。本实用新型优异之处为：将拖动皮带43设置成软质皮带或链轮结构且将主传动输出电机的固定位置与输送皮带41的机架完全分开，彼此之间没有刚性连接，这样可以避免主传动电机的机械震动影响到输送皮带41的平稳运行，同时不会因为主传动输出的连接装置拖动皮带43过于僵硬导致输送皮带41在行进过程中产生抖动，或者行进速度不一致，影响淋釉效果。在拖动皮带43的作用下，可保证输送皮带41运输平稳，速率一致，淋釉效果达到最佳。

进一步，极少量的釉料有可能会粘到输送皮带41上，为保证输送皮带41清洁以及釉料的回收，输送皮带41通过风幕清洁装置50、水清洁装置70、辊轮式除水装置80进行清洁，在输送完成后，输送皮带41依次经过皮带张紧装置44、皮带导向轮60、风幕清洁装置50、水清洁装置70、风幕清洁装置50、皮带导向轮60、辊轮式除水装置80，然后再次进行输送，循环往复。输送皮带41经过上述装置后基本能保持表面清洁干净，不会再影响制程的质量，提高了生产效率和效益。

进一步的，皮带张紧装置44为可调节压力的差压式皮带张紧装置，它能够输出恒定的压力并自动上下往复移动始终保持设定张紧力。张紧机构的滚轮始终向输送皮带41的外表面施加一个恒定的差额压力。由于输送皮带41使用时间长了后会产生松弛现象，影响到淋釉的质量，因此此皮带自动张紧装置能自动调整皮带张紧力，保持在设定的压力值内，使输送皮带41一直处于绷紧状态，保证淋釉质量。

进一步的，所述的皮带导向轮60为位置固定的滚轮，与输送皮带41的内表面紧贴。由于皮带张紧装置44始终向输送皮带41施加压力，会使输送皮带41的行进路线向上偏移，因此在输送皮带41的内表面设置位置固定的皮带导向轮60，使输送皮带41重新回归到预定的行进路线。

进一步的，为保证粘贴在输送皮带41上的釉料被完全清洗，先需要将釉料风干，因此，本实用新型优化了风幕清洁装置50，风幕清洁装置50包括风机51和与风机51管道连接的套筒52，所述的套筒52将输送皮带41包裹在内，风机51向套筒52内灌风，风向与输送皮带41行进方向相逆。风机51产生加压空气通过管道向套筒52内灌风，使粘贴在输送皮带41上的釉料迅速风干，或者直接被吹落，达到清洗输送皮带的目的。

进一步的，本实用新型还包括水清洁装置70，所述的水清洁装置70包括水池72、皮带导向轮60和辊筒扫71，所述的皮带导向轮60和辊筒扫71上下相对设置在水池72内，输送皮带41设置在皮带导向轮60与辊筒扫71之间，辊筒扫71为与输送皮带41行进方向逆向旋转的毛刷滚轮，输送皮带41设置在皮带导向轮60与辊筒扫71之间，辊筒扫71为与输送皮41带行进方向逆向旋转的毛刷滚轮。由于皮带导向轮60与辊筒扫71均设置在水池72中，因此，输送皮带41必将经过水池72，辊筒扫71旋转方向与输送皮带41行进方向相逆，可使辊筒扫71的洗涮效果更明显，被洗刷后的釉料落入水池72中，再经过其他工艺回收利用。

进一步的，经过水池72后的输送皮带41上粘的水经风幕清洁装置50风干，同时也使输送皮带41不粘有釉料、灰尘或者污染物，降低回收水清洁装置70中的污染物比重。

进一步的，输送皮带41还经过辊轮式除水装置80，所述的辊轮式除水装置80为两个柱面紧贴的旋转方向相逆的被动式圆柱滚轮，圆柱滚轮的柱面上设置有刚好通过输送皮带的半圆形凹槽，圆柱滚轮靠输送皮带41的摩擦力拖动，输送皮带41运动时圆柱滚轮的半圆形凹槽挤压皮带表面的水，达到除水的目的。

进一步的，本实用新型的节釉装置还包括有釉料恒压装置20，所述的釉料恒压装置20设置在盅罩淋釉器30上方，釉料恒压装置20由导向筒21，带环形溢流回收槽22的恒压器主体容器23和流量锁24组成，釉料从釉料恒压装置20导向筒21的底部灌入，釉料装满导向筒21后溢出到恒压器主体容器23中，釉料进入恒压器主体容器23后一部份经流量锁24进入生产使用，多余部分溢出到环状溢流回收槽22回流到供釉系统10的釉料储存缸内回收重复使用，釉料的液面始终保持同一水平位置，恒压供釉。

本实用新型的贡献在于提供了一种节釉装置，该装置为单电机传动输送皮带，在输送皮带其中一段设置凹槽，凹槽内放置釉料回收装置，完美的解决了釉料浪费在输送皮带上的问题，且釉料回收装置内的釉料无需重新加工，直接可重复利用。传动皮带采用软质材料制成，不会使瓷砖坯体在输送过程中抖动、速率不一致，影响淋釉质量。沾有小部分釉料的输送皮带，经过一系列的清洗装置，保证皮带的清洁、干燥，不沾有污染物。本实用新型的节釉装置节约了6%-7%的釉料用量，提高了产品收成率，经济效果显著。

【附图说明】

图1为本实用新型的结构示意图。

图2为本实用新型的结构俯视示意图。

图3为图1中A处放大示意图。

图4为图1中A处的剖面图。

图5为图1中B处放大示意图。

图6为图1中C处放大示意图。

图7为图1中D处放大示意图。

【具体实施方式】

下列实施例是对本实用新型的进一步解释和补充，对本实用新型不构成任何限制。

实施例1

如图1、2所示，本实施例的一种节釉装置包括供釉系统10、与供釉系统10管道相连接的釉料恒压装置20、与釉料恒压装置20连接的盅罩淋釉器30、以及设置在盅罩淋釉器30下方的凹形结构的瓷砖输送装置40以及弧形结构的釉料回收槽90，所述的瓷砖输送装置40包括电机42和由电机传动的输送皮带41，所述输送皮带41的载物面其中一段向下凹陷，凹陷的形状为上开口较小凹陷底部大，形似古时的钱袋状，凹陷区内设置有顶部开口的釉料回收槽90，釉料回收槽90与供釉系统10管道连接。本实施例中，输送皮带41的载物面有一段向下凹陷，凹陷区的开口刚好设置在盅罩淋釉器的边缘，输送皮带41上载有瓷砖坯体时，釉料经盅罩淋釉器30淋在瓷砖坯体上，当输送皮带上没有瓷砖坯体时，优良经盅罩淋釉器30通过凹陷区的开口落入釉料回收槽90内，回收槽90与供釉系统10管道连接，釉料再重新利用。

实施例2

如图1、2、4所示，本实施例在实施例1的基础上完善了输送皮带41的截面形状，将输送皮41带截面完善成圆形。由于淋釉过程中不可避免的会有极少量的釉料粘贴在输送皮带41上，将皮带设置成圆形，减少釉料在皮带上的粘贴空间。且圆形皮带方便后续工艺中的清洁。

实施例3

如图1所示，本实施例的输送皮带41形成的凹陷区设置在沿盅罩淋釉器30边缘的正下方呈弧形布局，弧形的圆心与盅罩淋釉器30的圆心对齐，弧形的外圆半径比弧形内圆半径长10CM，釉料回收槽90设置成弧形安置在凹陷区内。

实施例4

如图1所示，本实施例的输送皮带41安装在主动轮与从动轮上，电机42通过传动皮带43与主动轮连接。且本实施例中的传动皮带43为软质皮带或链条，软质皮带或链条这种软性联系传递动力不会使输送皮带41在淋釉过程中产生抖动，保证淋在瓷砖坯体上的釉料均衡。且拖动电机42的固定安装位置与输送皮带41的机架完全分开，彼此之间无直接的刚性接触，动力的输出只是靠软质皮带或链条联接传递。能保证输送皮带41运行平稳，运动速率始终保持一致，不会使瓷砖坯体上淋的釉一部分厚、一部分薄。

实施例5

如图1、2、3、5、6、7所示，本实施例中，在输送完成后，输送皮带41依次经过皮带张紧装置44、皮带导向轮60、风幕清洁装置50、水清洁装置70、风幕清洁装置50、皮带导向轮60、辊轮式除水装置80，然后再次进行输送。粘在输送皮带41上的釉料经过上述装置后回收到水清洁装置70内，再经过其他工艺回收利用，减少了资源浪费，降低生产成本。

实施例6

如图1、7所示，本实施例在实施例4的基础上细化了皮带张紧装置44，皮带张紧装置44为可调节压力的差压式皮带张紧装置，能根据皮带的松紧程度自动上下移动的滚轮，滚轮始终向输送皮带41的外表面施加恒定的压力。由于输送皮带41使用时间长了后会产生松弛现象，影响到淋釉的质量，因此对调整皮带张紧装置44的上下位置对输送皮带41施加压力，使输送皮带41一直处于绷紧状态，保证淋釉质量。

实施例7

如图1所示，本实施例在实施例4的基础上完善了皮带导向轮60，皮带导向轮60为位置固定的滚轮，与输送皮带41的内表面紧贴。由于皮带张紧装置44始终向输送皮带41施加压力，会使输送皮带41的行进路线向上偏移，因此在输送皮带41的内表面设置位置固定的皮带导向轮60，使输送皮带41重新回归到预定的行进路线，该皮带导向轮60同时还设置在水清洁装置70内，帮助固定输送皮带41的行进位置。

实施例8

如图1、5所示，本实施例设置了风幕清洁装置50，风幕清洁装置50包括风机51和与风机51管道连接的套筒52，所述的套筒52将输送皮带41包裹在内，风机51向套筒52内灌风，风向与输送皮带41行进方向相逆。风机51产生加压空气通过管道向套筒52内灌风，使粘贴在输送皮带41上的釉料迅速风干，或者直接被吹落，达到清洗输送皮带的目的。

实施例9

如图1、6所示，水清洁装置70，所述的水清洁装置70包括水池72、皮带导向轮60和辊筒扫71，所述的皮带导向轮60和辊筒扫71上下相对设置在水池72内，输送皮带41设置在皮带导向轮60与辊筒扫71之间，辊筒扫71为与输送皮41带行进方向逆向旋转的毛刷滚轮。由于皮带导向轮60与辊筒扫71均设置在水池72中，因此，输送皮带41必将经过水池72，辊筒扫71旋转方向与输送皮带41行进方向相逆，可使辊筒扫71的洗涮效果更明显，被洗刷后的釉料落入水池72中，再经过其他工艺回收利用。

实施例10

如图1、3、4所示，本实施例的输送皮带41还经过辊轮式除水装置80，所述的辊轮式除水装置80为两个柱面紧贴的旋转方向相逆的被动式圆柱滚轮，圆柱滚轮的柱面上设置有刚好通过输送皮带41的半圆形凹槽，圆柱滚轮靠两轮中皮带的摩擦力拖动，皮带运动时两轮半圆形凹槽挤压输送皮带41表面的水实现除水。两个被动式圆柱滚轮上的两个半圆形凹槽合起来刚好形成一个圆形，并且该圆形的内表面紧贴输送皮带41的外表面，皮带运动时两轮半圆形凹槽挤压输送皮带41表面的水，实现除水目的。

实施例11

如图1、2所示，本实施例的节釉装置还包括有釉料恒压装置20，所述的釉料恒压装置20设置在盅罩淋釉器30上方，釉料恒压装置20由导向筒21，带环形溢流回收槽22的恒压器主体容器23和流量锁24组成，釉料从釉料恒压装置20导向筒21的底部灌入，釉料装满导向筒21后溢出到恒压器主体容器23中，釉料进入恒压器主体容器23后一部份经流量锁24进入生产使用，多余部分溢出到环状溢流回收槽22回流到供釉系统10的釉料储存缸内回收重复使用，达到降低生产成本，回收剩余釉料的作用，釉料的液面始终保持同一水平位置，恒压供釉。

尽管通过以上实施例对本实用新型进行了揭示，但本实用新型的保护范围并不局限于此，在不偏离本实用新型构思的条件下，对以上各构件所做的变形、替换等均将落入本实用新型的权利要求范围内。

Claims (10)

1.一种节釉装置，包括供釉系统、与供釉系统管道相连接的釉料恒压装置、与釉料恒压装置连接的盅罩淋釉器、以及设置在盅罩淋釉器下方的凹形结构的瓷砖输送装置以及弧形结构的釉料回收槽，其特征在于：所述的瓷砖输送装置包括电机和由电机传动的输送皮带，所述输送皮带的载物面其中一段向下凹陷，凹陷的形状为上开口较小凹陷底部大，形似古时的钱袋状，凹陷区内设置有顶部开口的釉料回收槽，釉料回收槽与供釉系统管道连接。

2.如权利要求1所述的一种节釉装置，其特征在于：所述的输送皮带由至少2条截面为圆形的皮带组成，每条截面为圆形皮带都闭环联接，且线速度相同。

3.如权利要求2所述的一种节釉装置，其特征在于：所述输送皮带形成的凹陷区设置在沿盅罩淋釉器边缘的正下方呈弧形布局，弧形的圆心与盅罩淋釉器的圆心对齐，弧形的外圆半径比弧形内圆半径长2-15CM，釉料回收槽设置成弧形安置在凹陷区内。

4. 如权利要求2所述的一种节釉装置，其特征在于：所述的输送皮带安装在统一的主动轮和从动轮上，电机通过传动皮带或链轮结构与主动轮连接。

5.如权利要求4所述的一种节釉装置，其特征在于：输送皮带通过风幕清洁装置、水清洁装置、辊轮式除水装置进行清洁，输送皮带经过盅罩淋釉器后，再依次通过皮带张紧装置、皮带导向轮、风幕清洁装置、水清洁装置、风幕清洁装置、皮带导向轮、辊轮式除水装置，回到盅罩淋釉器，行程循环。

6.如权利要求5所述的一种节釉装置，其特征在于：所述的皮带张紧装置为一种可调节并能保持恒定压力的差压式皮带张紧机构，能根据设定的差额压力自动上下移动张紧装置的滚轮，滚轮始终向输送皮带的外表面施加恒定的张紧力，保证输送皮带在固定的张紧状态，所述的皮带导向轮为位置固定的滚轮，与输送皮带的内表面紧贴。

7.如权利要求5所述的一种节釉装置，其特征在于：所述的风幕清洁装置包括风机和与风机管道连接的套筒，所述的套筒将输送皮带包裹在内，风机向套筒内灌风，风向与输送皮带行进方向相逆。

8.如权利要求5所述的一种节釉装置，其特征在于：所述的水清洁装置包括水池、皮带导向轮和辊筒扫，所述的皮带导向轮和辊筒扫上下相对设置在水池内，输送皮带设置在皮带导向轮与辊筒扫之间，辊筒扫为与输送皮带行进方向逆向旋转的毛刷滚轮。

9.如权利要求5所述的一种节釉装置，其特征在于：所述的辊轮式除水装置为两个柱面紧贴的旋转方向相逆的被动式圆柱滚轮，圆柱滚轮的柱面上设置有刚好通过输送皮带的半圆形凹槽，凹槽与皮带表面精密结合，圆柱滚轮靠输送皮带的摩擦力拖动，输送皮带运动时圆柱滚轮的半圆形凹槽挤压输送皮带表面的水。

10.如权利要求1所述的一种节釉装置，其特征在于：所述的盅罩淋釉器上方设置有釉料恒压装置，釉料恒压装置由导向筒，带环形溢流回收槽的恒压器主体容器和流量锁组成，釉料从釉料恒压装置导向筒的底部灌入，釉料装满导向筒后溢出到恒压器主体容器中，釉料进入恒压器主体容器后一部份经流量锁进入生产使用，多余部分溢出到环状溢流回收槽回流到供釉系统的釉料储存缸内回收重复使用，釉料的液面始终保持同一水平位置，恒压供釉。